用于处理伤口的手持件的制作方法

文档序号:9829006阅读:777来源:国知局
用于处理伤口的手持件的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及用于借助于流体射束处理、尤其清洁伤口的手持件以及方法。
【背景技术】
[0002]将用于从溃疡、烧伤和其它伤口中或者在器官衰竭时去除感染的、受伤的或者死亡的(坏死的)组织的医疗程序称为伤口清洁/清创术和伤口冲洗/伤口修整。存在大量通常的方法途径来清洁伤口,例如在使用手术刀或者刮匙时的机械锋利的方法途径、在使用衬垫并且借助于流体射束时的酶或者化学的、自溶性的、生物外科的、机械的方法途径。
[0003]EP 2 251 142示出一种用于借助于高压微流体射束清洁伤口的手持件,其中在手持件的前端处设置有排出开口,流体射束可以通过所述排出开口排出。
[0004]WO 97/02058公开了一种用于借助于水束清洁伤口的手持件,其中用于清洁的水事先借助于UV辐照杀菌。
[0005]WO 2010/123627公开了一种具有UV-A或者UV-C光源、光学识别单元和液体输送和吸出单元的组合的设备。所有三个单元连接到共同的线缆上,所述线缆在其自由端上具有三个彼此分开的用于图像识别、UV光辐照和流体输送以及吸出的输出端。UV光辐照在此用于治疗目的。
[0006]在借助于流体射束清洁伤口时,从伤口去除表皮或者颗粒,其中产生悬浮微粒。重要的是保证周围环境不被这些悬浮微粒污染,因为这对于患者或者手术人员是有害的。从现有技术中已知大量方法,所述方法降低或者防止周围环境受悬浮微粒污染。这些方法例如液体回导、借助于排气阀(Abzugsschleuse)进行屏蔽的处理蓬或者流体射束和吸出部在保护罩中的设置在WO 2008/074284中提及。
[0007]根据待清洁的伤口的类型、大小和位置,只能受限地使用具有保护罩的系统。如果罩过小,那么由此要么仅能够处理小的伤口要么罩必须放置在伤口的一部分上,这会使得患者疼痛并且不利于伤口愈合。然而如果罩过大,那么对周围的组织的密封难以形成。如果使用处理蓬,那么这虽然简化了密封,但是这种蓬不便操作,因为其具有小的固有稳定性并且降低了对待清洁的伤口的可见度。

【发明内容】

[0008]因此,本发明的目的是,减少在处理、尤其清洁伤口期间污染周围环境的危险。
[0009]该目的根据本发明通过一种具有权利要求1的特征的系统以及一种具有权利要求13的特征的方法实现。
[0010]根据本发明的用于借助于流体射束来处理、尤其清洁伤口的系统包括手持件,所述手持件具有基体,所述基体具有前端,所述前端具有用于排出流体射束的排出开口。所述系统此外具有至少一个发射光的光源,所述光源辐照在清洁伤口时产生的悬浮微粒。至少一个光源设置为,使得由至少一个光源发射的光以至少距排出开口一定距离的方式围绕从排出开口排出的流体射束。至少一个光源关于排出开口设置为,使得排出的流体射束近似完全地由被所发射的光围绕。
[0011]光源是发射光的元件。在一个实施方式中,在光源本身中产生光。在另一实施方式中,光源是光导体的出射开口。在本文的意义下并且在业界也不将足够光亮地构成用于反射入射光但并不是光导体的一部分的表面理解为光源。
[0012]至少一个光源可以与手持件分开地设置。然而,优选所述光源设置在手持件上或其中,使得手持件本身形成系统。
[0013]流体射束可从一个或多个排出开口中排出。
[0014]优选地,流体射束是微流体射束、尤其是高压微流体射束。在此尤其将10bar至300bar的压强范围理解为高压。然而,也可以考虑的是,产生具有小于10bar的压强的流体射束。流体通常是含水的溶液或者处理溶液,例如无菌生理盐水溶液。优选地,流体射束在从排出开口排出时具有大约0.05_至0.15_的直径。
[0015]光、尤其UV光,可在通过流体清洁伤口期间用于使在处理腔中并且优选也在伤口中能生存的细菌最小化。在伤口清洁期间产生的悬浮微粒可立即就地并且在清洁伤口期间被辐照并且被去除污染,并且这可在其能够污染周围环境之前进行。当光围绕流体射束尤其在其排出到伤口上的区域中围绕流体射束时,所述效果被提高。优选地,光至少在该区域中完全地围绕流体射束。
[0016]通过在清洁期间辐照伤口可以促进伤口愈合。此外,UV辐照可以是对抗菌药膏和抗生素的一个替选方案。
[0017]另一个优点是,尤其在伤口较小时不再需要蓬、罩或者吸出部,使得可不受限制地看到伤口。此外,通过简化所使用的机构降低了处理时间和处理成本。
[0018]UV光(紫外线光)优选具有UV-C光份额(10nm至280nm)。在一个优选的实施方式中,仅存在UV-C光或者至少大部分存在UV-C光。
[0019]附加地或者替选地,UV光具有UV-A或者UV-B光份额或者仅由UV-A或者UV-B构成。
[0020]优选地,UV光是相干光、优选是激光。
[0021 ]优选地,光源是在200nm至280nm的范围中的UV-C光源。在该范围中,光具有提高的杀菌效果。波长的特别有效的范围为大约260纳米。因此,优选的是使用具有254纳米的波长的光源。
[0022]优选地,光源的光可在手持件中产生。这具有下述优点:辐射的强度部不被例如光导体削弱。然而也可以考虑的是,光在手持件的后部的区域中产生并且使用短的光导体,以便基本上沿着射束方向引导光。
[0023]光源优选设置在前端的靠近流体射束出口的区域中。对于相同强度的光源适用的是,光源越靠近待辐照的区域,那么在被辐照的区域中的能量密度就越高并且辐照就越有效。
[0024]光源的光功率可以是固定的或者是可调节的。给光源馈电可以通过光源线路或电线路进行,所述光源线路或电线路将外部的电流源与手持件连接或者可以通过设置在手持件中的储电器、例如电池或者蓄电池进行。
[0025]优选地,流体射束相邻于排出开口在射束下游至少部分地在所发射的光之内伸展。优选地,流体射束伸展,直至其射到位于光中的伤口上。光源引导到伤口越近,那么对悬浮微粒的辐照就越有效。
[0026]优选地,至少一个光源以围绕排出开口的方式设置在手持件的前端上或其中。然而,所述光源也可以设置在适配器中或者保持件处,所述适配器或者保持件可设置在手持件上。手持件上的这种设置可以是可脱离的或者是固定的。
[0027]至少一个光源优选具有如下直径,所述直径是流体射束的横截面数倍大。至少一个光源设置得离流体射束越近并且光源与流体射束的直径相比越大,那么因流体射束引起的阴影就越小。关于对因清洁伤口而产生的悬浮微粒或伤口表面的辐照,小的阴影区域是有利的。
[0028]通过光源的数量、设置、构造以及可能的射束方向和/或扩展光学装置的选择可以实现对悬浮微粒或伤口表面的最佳的辐照。
[0029]手持件可以在前端中渐缩,以便尽可能不妨碍辐照,或者所述手持件可以扩宽,以便能够容纳更大的光源。手持件优选具有前部的端面,在所述端面中设置有流体射束的排出开口,其中至少一个光源关于前部的端面沿着流体射束的排出方向以相对于该端面回退的方式、以与该端面平齐的方式或者以突出于该端面的方式设置。根据应用情况,有利的是,光源是尽可能小的,也就是说,光源尽可能不妨碍使用者的观看,或者光源是尽可能大的,也就是说,光源产生高的辐射强度。光源的类型和大小制约在手持件中或者适配器部件中的相对应的容纳。根据光源的所需要的大小和对待清洁的伤口所需要的可见度,有利的是,光源关于前部的端面不同地设置。
[0030]优选地,手持件的前端具有用于容纳光源的凹进部。光源由此良好地集成在手持件中并且至少部分地被保护免受外部影响。
[0031]凹进部优选沿着流体射束的排出方向扩宽。通过扩宽凹进部,光不受手持件妨碍并且可以构成光锥,所述光锥辐照如下区域,所述区域是流体射束的横截面面积的数倍。优选地,凹进部沿着所有方向扩宽,由此可以构成尽可能大的光锥。
[0032]当手持件的前端沿着流体射束的排出方向扩宽时,可使用较大的光源。所述扩宽可以均匀地在环周上进行。然而,所述扩宽也可以仅在具有光源的区域中实现。因此,可通过操作者实现简单的构造方式和伤口的良好的可见度之间的折衷。
[0033]可以存在一个、两个、三个、四个、五个、六个或者更多个光源。通过光源的数量、设置和对光源的功率的调节可影响辐射强度。
[0034]优选地,至少一个光源具有光出射区域,所述光出射区域圆形地、椭圆地、方形地、矩形地、多边形地或者环形地构成。通过使用商用的光源可以节省用于定制的成本。
[0035]优选地,排出开口居中地设置在前端中。通过居中的设置,手持件可基本上旋转对称地构成,这对于操作者而言产生简化的操作,因为
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