专利名称：使用等离子清洁液晶显示器的方法与装置的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种制造液晶显示器的方法及装置，且特别是有关于一种使用等离子以有效的清洁液晶显示器的方法与装置。
图1是公知用于清洁平面显示器的装置的方框图。如图1所示，公知平面显示器的清洁装置包括一有机清洁器10、一承载器20以及一湿式清洁器30。有机清洁器10会将平面显示器上不要的物质移除，或是使用放射线或臭氧来改变待移除物质之状态，以使其易于被移除，放射线例如是准分子紫外光放射线、红外光放射线等等。承载器20会将先前已经过有机清洁器10清洁的平面显示器带到湿式清洁器30。湿式清洁器30会将未被有机清洁器10移除的物质完全清除。
如同先前所述，公知的有机清洁器10以及湿式清洁器30是于不同的装置中操作。由于这些清洁装置都会与其它装置连接在一起，因此将需要有大的区域空间来放置些清洁装置。再者，因为清洁装置都需安置在大的区域空间中，因此要将这些清洁装置与后续工艺的其它装置连接在一起是相当困难的。在此，因清洁装置安置于与其它后续工艺不相同的位置，材料的支配以及移动距离都将增加。此外，由于清洁时间的增加，产品的产率将会下降。另外，平面显示器在两个分开的清洁程序之间可能会再度的遭到污染。
本发明的再一目的是提供一种制造薄膜晶体管液晶显示器的装置，其可有效的清洁薄膜晶体管液晶显示器，且仅需占据小的区域空间，因此制造的空间可以被有效的利用。
依据本发明的目的，本发明提出一种清洁薄膜晶体管液晶显示器的方法，其包括下列步骤，将一薄膜晶体管液晶显示器放置在一承载器上；当薄膜晶体管液晶显示器位于承载器上并往一方向前进时，使用等离子处理薄膜晶体管液晶显示器的表面，以移除位于薄膜晶体管液晶显示器表面上有机污染物，或是活化有机污染物以使其呈反应状态；喷洒液体至薄膜晶体管液晶显示器上，以移除被等离子活化的有机物；以及干燥残留于薄膜晶体管液晶显示器上之液体。
此方法更包括，在干燥液体之后，当薄膜晶体管液晶显示器正持续前进时，使用等离子处理薄膜晶体管液晶显示器的表面，以移除仍然残留在薄膜晶体管液晶显示器表面上的有机污染物或是活化有机污染物以使其呈反应状态。
依据本发明的另一目的，本发明提供一种制造薄膜晶体管液晶显示器的装置，其包括一承载器，其系用以放置一薄膜晶体管液晶显示器并使薄膜晶体管液晶显示器往一方向前进；一等离子处理器，其用以处理薄膜晶体管液晶显示器的表面，其中此薄膜晶体管液晶显示器放置在承载器上且正在前进中，使用等离子可以移除薄膜晶体管液晶显示器表面上的有机污染物或是活化有机污染物以使其呈反应状态；至少一高速喷洒器，架设在等离子处理器之后的承载器上方，其系使用喷洒液体的方式移除被等离子处理活化的有机污染物；以及一空气刀具，架设在等离子处理器之后的承载器上方，其系用以干燥残留在薄膜晶体管液晶显示器上的液体，而此薄膜晶体管液晶显示器系放置在承载器且正在前进中。
此装置更包括一额外的等离子处理器，其系架设在空气刀具之后的承载器上方，当薄膜晶体管液晶显示器正持续的前进时，便可以额外的处理薄膜晶体管液晶显示器，以移除仍然残留于薄膜晶体管液晶显示器上的有机污染物或是活化有机污染物以使其呈反应状态。
依据本发明，由于等离子是用来作为一清洁源，因此可以增加清洁的有效性。再者，有机清洁以及湿式清洁系同时在薄膜晶体管液晶显示器的主要或次要的轴距内进行。由于此装置的结构可以在其中同时对单一薄膜晶体管液晶显示器进行多重清洁功能，因此制造空间可以有效的使用。
图1是公知清洁平面显示器的装置的方框图；图2是依据本发明的清洁薄膜晶体管液晶显示器的方法的流程图；图3是依据本发明一较佳实施例的制造薄膜晶体管液晶显示器的装置的示意图；以及图4是依据本发明另一较佳实施例的制造薄膜晶体管液晶显示器的装置的示意图。
10有机清洁器20承载器30湿式清洁器50、55、60、65步骤100、200装置120、120a、120b等离子处理器125a、125b、125c抽吸单元127刷具130a、130b高速喷洒器140空气刀具145空气帘幕以下将特举一较佳实施例并配合所附图式，以详细说明本发明。本发明可能会有许多不同型式的实例，但以下所举的实例并非用以限定本发明。以下的实施例的揭露将可以使熟习该项技术者可以据以实施。在图标中，构件将会被夸大以使其较为清楚。为了能更容易的了解，将会使用定义的参考标号，且尽可能的于图标中标示出常用的构件。
图2是依据本发明的清洁薄膜晶体管液晶显示器的方法的流程图。此清洁方法的特征在于使用等离子清洁薄膜晶体管液晶显示器的表面，以改善有机物的清洁效率。
请参照图2，在步骤50中，是将一薄膜晶体管液晶显示器放置在一承载器上。
之后，在步骤55中，当薄膜晶体管液晶显示器在承载器上并以一方向前进时，使用等离子处理薄膜晶体管液晶显示器的表面，其例如是在大气压力中进行。通常，要移除薄膜晶体管液晶显示器表面上的有机物是相当困难的，这是因为有机物的物理性与化学性都相当稳定。然而，倘若薄膜晶体管液晶显示器在历经等离子的处理之后，原先稳定状态的有机物将会被等离子的离子能量活化，而使有机物的物理性与化学性不稳定。接着，在后续使用液体的湿式清洁步骤中就可以发挥其最大的清洁效率。
之后，在步骤60中，当薄膜晶体管液晶显示器持续前进时，液体将会喷洒至薄膜晶体管液晶显示器上。由于液体的喷洒，被等离子处理步骤活化的有机物将可以被清除掉。而此液体可以是清洁用的液体，例如是去离子水或是用于蚀刻、剥除或显影的液体。
之后，在步骤65中，当薄膜晶体管液晶显示器持续前进时，残留在薄膜晶体管液晶显示器上的液体将会被干燥。
在干燥液体的步骤65之后，当薄膜晶体管液晶显示器持续前进时，可以再额外的对薄膜晶体管液晶显示器的表面进行等离子处理步骤。透过额外的等离子处理步骤，还残留在薄膜晶体管液晶显示器表面上的有机污染物便可以清除或是至少使其被活化而呈反应状态。而活化的有机物将可以透过后续的步骤而清除之。
依据本发明上述的实施例，使用等离子处理薄膜晶体管液晶显示器的表面可以使有机物被活化而使其化学性及物理性不稳定，因此在后续的湿式清洁步骤中便可以发挥最大的清洁效率。
图3是依据本发明一较佳实施例的制造薄膜晶体管液晶显示器的装置的示意图。此实施例实行清洁的方法如图2所述。
请参照图3，制造薄膜晶体管液晶显示器的装置100包括一承载器110以及一等离子处理器120、高速喷洒器130a与130b，以及一空气刀具140，上述的构件依序排列于承载器110的上方。
一薄膜晶体管液晶显示器(未绘示)放置在承载器110上且以一方向前进，在图3中，此方向是以箭头A表示。而承载器110可以是已知的任何一种型态的承载器，例如是一滚轮型态或是空气运送型态的承载器。如以上所述，制造薄膜晶体管液晶显示器的装置的结构可以通过承载器110使薄膜晶体管液晶显示器持续的往前进并持续的进行工艺步骤。
等离子处理器120架设在承载器110的上方，其是使用等离子处理薄膜晶体管液晶显示器的表面，其中薄膜晶体管液晶显示器被承载器110持续的往前进。在此，可以使用数个等离子处理器，例如两个或更多个等离子处理器。经由等离子处理步骤，可能可以移除薄膜晶体管液晶显示器表面上的有机污染物或是活化有机污染物以使其物理性与化学性呈反应状态。此等离子处理器120可以是已知任何型态利用传统等离子产生方法的等离子装置，例如是在大气压力中利用晕或介电放电产生低温等离子的等离子处理器，或是在低于大气压力中产生等离子的等离子处理器。再者，等离子源可以是13.56MHz频带的RF产生器或是2.45GHz频带的电磁源。
高速喷洒器130a、130b架设在等离子处理器120之后的承载器110上方，用以喷洒液体至位于承载器120尚且正前进中的薄膜晶体管液晶显示器上，用以移除被等离子处理而活化的有机物。若需要的话，高速喷洒器的数目可以调整。另外，在高速喷洒器中用来清洁的液体可以是去离子水、蚀刻液、剥除液或是显影液，高速喷洒器可以同时兼作一清洁装置、一蚀刻装置、一剥除装置或是一显影装置。换言之，高速喷洒器130a、130b可以应用在其它的工艺中，例如是蚀刻或是显影工艺，其只要更换液体即可。用于防止干扰的一空气帘幕(未绘示)可以额外的放置在等离子处理器120以及高速喷洒器130a之间。
空气刀具140架设在高速喷洒器130b之后的承载器110上方，其用以干燥残留在薄膜晶体管液晶显示器上的液体，其中此薄膜晶体管液晶显示器位于承载器110上且正前进中。经空气刀具140干燥后的薄膜晶体管液晶显示器将预备到后续的工艺。空气刀具140可以是公知的一种空气刀具。虽然并未绘示在图3中，但此空气刀具系包括形成在一主体的一侧边的一空气入口，经由此可以使空气流入；一空气出口，以使由空气入口流进的空气能流出；以及一狭缝调整器，用以调整空气出口的尺寸。
虽然抽吸单元125a、125b、125c绘示在图3中上述的单元之间，但是用来防止干扰的空气帘幕(未绘示)可以用来取代抽吸单元，其系需要而定。另外，在此，高速喷洒器130a、130b作为清洁装置，用以喷洒清洁液体，然而，一刷具127亦可以用在高速喷洒器130a之前，如图3所示。
此外，虽然图3中未绘示，但是刷具、高速喷洒器、空气刀具或是类似的器具都可以对称的放置在薄膜晶体管液晶显示器的上方以及下方。
在图3的制造装置中，放置在承载器110上且前进中的薄膜晶体管液晶显示器，等离子处理器120将会处理其表面。在等离子处理之后，将会利用高速喷洒器130a、130b所喷出的液体清洁薄膜晶体管液晶显示器的表面，然后再利用空气刀具140干燥之。由于在高速喷洒器130a、130b以及空气刀具140的清洁以及干燥的过程中，等离子处理器120会持续的进行等离子处理步骤，因此将可以达到连续性的清洁工艺。意即当薄膜晶体管液晶显示器在前面的阶段进行清洁以及干燥时，等离子处理可以在后续的阶段中进行。换言之，有机清洁以及湿式清洁可以同时在薄膜晶体管液晶显示器之主轴距或次要轴距中进行，由于多重清洁功能可以同时应用在同一薄膜晶体管液晶显示器上，因此薄膜晶体管液晶显示器的清洁便可以在最小的区域范围中进行。
图4是依据本发明另一较佳实施例的制造薄膜晶体管液晶显示器的装置的示意图。请参照图4的装置，其与图3不同之处在于等离子处理步骤在空气刀具140的干燥步骤之后将再进行一次。
请参照图4，依照本发明另一较佳实施例的制造薄膜晶体管液晶显示器的装置200包括一承载器110、一第一等离子处理器120a、高速喷洒器130a、130b、一空气刀具140以及一第二等离子处理器120b，其系依序排列于承载器110的上方。
图4的装置与图3的装置不同之处在于第二等离子处理器120b放置在空气刀具140的后方。由于薄膜晶体管液晶显示器的表面将再次的被第二等离子处理器120b处理，因此仍然残留在薄膜晶体管液晶显示器表面上的有机物便可以更确定的被移除或是至少使其呈反应状态。另外，在图4中，较佳的是在空气刀具140以及第二等离子处理器120b之间提供一空气帘幕145。
如上所述，依据本发明，因有机清洁以及湿式清洁系在单一线上进行，因此分开的两工艺步骤之间移动的距离便可以减少，而可以预期的是可以省下分布的成本。另外，在工艺单元之间的污染问题也可以避免。再者，由于有机清洁以及湿式清洁整合在单一装置中，因此制造空间便可以有效的利用。除此之外，通过等离子处理，可以发挥最大的清洁效率。而且，可以持续的输入并处理薄膜晶体管液晶显示器。而高速喷洒器还可以应用在其它工艺上，例如是蚀刻工艺或是显影工艺，而可以简单的更换高速喷洒器的功能。
依据本发明的清洁薄膜晶体管液晶显示器的方法，其特征在于，于湿式清洁步骤之前，先使用等离子处理薄膜晶体管液晶显示器，通过等离子的离子能量以使有机物的化学性以及物理性呈不稳定状态。因此，在后续湿式清洁步骤过程中，利用液体清洁时便可以发挥其最大的清洁效率，而因此可以提高产品产率。
依据本发明的制造薄膜晶体管液晶显示器的装置，其特征在于有放置用以有机清洁的等离子处理器，且其放置在单一的制造装置中，以使制造空间可以被有效的利用。由于有机清洁单元以及湿式清洁单元并非分开的，而且可以持续操作，因此可以减少材料的移动距离。如此一来，装置仅需占据小的空间范围以减少制造的空间，而且还可以有最大的清洁效率。另外，因为多重清洁步骤可以应用在同一薄膜晶体管液晶显示器上，因此清洁效率可以有效的改善。
由于用于清洁工艺的装置可以轻易的排列并与其它后续工艺装置连结，通过多种工艺功能，工艺的使用力可以获得改善，而且还可以轻易的掌控多种尺寸的基板，其包括相对于传统装置较为大尺寸的基板。此外，本发明还可以将清洁工艺整合，藉以降低薄膜晶体管液晶显示器的制造成本。
权利要求
1.一种清洁薄膜晶体管液晶显示器的方法，其特征是，该方法包括将一薄膜晶体管液晶显示器放置在一承载器上；当该薄膜晶体管液晶显示器位于该承载器上并往一方向前进时，使用等离子处理该薄膜晶体管液晶显示器的表面，以移除位于该薄膜晶体管液晶显示器表面上的一有机污染物，或是活化该有机污染物以使其呈反应状态；喷洒液体至该薄膜晶体管液晶显示器上，以移除被等离子活化的该有机污染物；以及干燥残留于该薄膜晶体管液晶显示器上的一液体。
2.如权利要求1所述的方法，其特征是，在干燥该液体之后，当该薄膜晶体管液晶显示器正持续前进时，更包括使用等离子处理该薄膜晶体管液晶显示器的表面，以移除在该薄膜晶体管液晶显示器表面上的一残留的有机污染物，或是活化该残留的有机污染物以使其呈反应状态。
3.如权利要求1项或第2所述的方法，其特征是，该液体为清洁液、蚀刻液、剥除液或是显影液。
4.一种制造薄膜晶体管液晶显示器的装置，其特征是，该装置包括一承载器，其用以放置一薄膜晶体管液晶显示器并使该薄膜晶体管液晶显示器往一方向前进；一等离子处理器，其用以处理该薄膜晶体管液晶显示器的表面，其中该薄膜晶体管液晶显示器放置在该承载器上且正前进中，使用等离子可以移除该薄膜晶体管液晶显示器的表面上的一有机污染物或是活化该有机污染物以使其呈反应状态；至少一高速喷洒器，架设在该等离子处理器之后的该承载器上方，其使用喷洒液体的方式以移除被等离子处理活化的该有机污染物；以及一空气刀具，架设在该等离子处理器之后的该承载器上方，其系用以干燥残留在该薄膜晶体管液晶显示器上的一液体，且该薄膜晶体管液晶显示器放置在该承载器上且正前进中。
5.如权利要求4所述的装置，其特征是，更包括一额外的等离子处理器，架设在该空气刀具之后的该承载器上方，其用以额外的移除该薄膜晶体管液晶显示器表面上的一残留的有机污染物，或是活化该残流的有机污染物以使其呈反应状态。
6.如权利要求5所述的装置，其特征是，更包括用以防止干扰的一空气帘幕，其位于该空气刀具以及该额外的等离子处理器之间。
7.如权利要求4所述的装置，其特征是，更包括用以防止干扰的一空气帘幕，其位于该等离子处理器以及该高速喷洒器之间。
8.如权利要求4所述的装置，其特征是，二个或多个的该等离子处理器将会被使用。
9.如权利要求4所述的装置，其特征是，该等离子处理器是于大气压力中或是低于大气压力之下产生等离子。
10.如权利要求4至9中任一所述的装置，其特征是，该高速喷洒器及/或该空气刀具相对于该薄膜晶体管液晶显示器而对称排列。
11.如权利要求10所述的装置，其特征是，该液体为清洁液、蚀刻液、剥除液或是显影液。
全文摘要
一种使用等离子清洁薄膜晶体管液晶显示器的方法以及使用此清洁方法的薄膜晶体管液晶显示器的制造装置。此装置包括一等离子处理器或是数个等离子处理器，其放置在前面阶段或是放置在前面阶段以及一高速喷洒器后面阶段，此高速喷洒器用来喷洒清洁液、蚀刻液、剥除液或是显影液。由于此装置的结构可以在同一薄膜晶体管液晶显示器上同时进行多种清洁功能，因此其可以有效的使用制造空间，并发挥最大的清洁效率。
文档编号B08B7/00GK1451491SQ0312220
公开日2003年10月29日 申请日期2003年4月16日 优先权日2002年4月19日
发明者朴庸硕, 金相镐 申请人:显像制造服务株式会社