专利名称：：用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物的制作方法
技术领域：
：本发明涉及用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物以及使用该组合物的垂直磁记录方式硬盘的制造方法。
背景技术：
：对于近年的存储硬盘驱动器，为了实现高容量和小径化，希望降低磁头的上浮量、减小单位记录面积以提高记录密度。与此同时，在硬盘的制造工序中，对将研磨对象物研磨得到的研磨面的表面品质的要求也越来越高。即，为了满足磁头的低上浮化，需要减小研磨得到的研磨面的表面粗糙度和微小起伏，需要降低塌边(rolloff)和突起数。另外，为了减少单位记录面积，需要减少研磨面的刮痕数，并且需要减小其大小和深度。硬盘的记录方式随着大容量化的需求而逐渐从水平磁记录方式(也称为面内磁记录方式)向垂直磁记录方式转变。水平磁记录方式的硬盘的制造过程包含基板形成工序和介质工序。在基板形成工序中，对基材依次进行多次研磨处理和洗涤处理，由此制作硬盘用基板。在上述介质工序中，通过研磨在硬盘用基板的两主面形成浅凹凸后(纹理工序)，进行洗涤(洗涤工序)，接着在基板的两主面侧分别形成磁性层(磁性层形成工序)。在纹理工序中，通过研磨，除去在基板形成工序中附着于硬盘用基板的粒子。当上述硬盘用基板例如是以含M-P层为两最外层的铝基板(以下有时也简称为“具有含M-P层的基板”)时，若使用酸性度高的洗涤剂组合物，则含Ni-P层会过度溶解(腐蚀)，因此在上述洗涤工序中，进行单独使用水或使用碱性非离子表面活性剂的洗涤(例如参照专利文献1)。专利文献1日本特开2001-003081号公报另一方面，在垂直磁记录方式的硬盘的制造工序中，在基板形成工序后，不经过纹理工序而直接进行洗涤工序。在未经过纹理工序的具有含M-P层的基板上附着有在基板形成工序中产生的粒子，通过水平磁记录方式的硬盘的制造工序中进行的使用水或碱性非离子表面活性剂的洗涤无法除去上述粒子，难以得到高度洁净的表面。
发明内容本发明提供不仅抑制了含M-P层的腐蚀且具有高洗涤能力的用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物、使用该组合物的垂直磁记录方式硬盘的制造方法。本发明的用于具有含M-P层的垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物含有选自下述(式1)所示的阳离子型表面活性剂、下述(式2)所示的两性表面活性剂、下述(式3)所示的两性表面活性剂、下述(式4)所示的两性表面活性剂、下述(式5)所示的两性表面活性剂以及下述(式6)所示的两性表面活性剂中的1种以上的表面活性剂，且在25°C下的pH为5以下。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>其中，在上述(式1)中，R1是碳原子数为1016的烷基，X是卤原子。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>(式2)其中，在上述(式2)中，R2是碳原子数为1016的烷基。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>(式3)其中，在上述(式3)中，R3是碳原子数为1016的烷基。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>(式4)其中，在上述(式4)中，R4是碳原子数为1016的烷基。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>(式5)其中，在上述(式5)中，R5是碳原子数为1016的烷基。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>-(式6)其中，在上述(式6)中，R6是碳原子数为1016的烷基。本发明的垂直磁记录方式硬盘的制造方法是含有具有含M-P层作为两最外层的垂直磁记录方式硬盘用基板、和配置在上述硬盘用基板的一个主面侧的磁性层或分别配置在两主面侧的磁性层的垂直磁记录方式硬盘的制造方法，其包含如下工序形成上述硬盘用基板的基板形成工序；对上述硬盘用基板进行洗涤的洗涤工序；以及形成一个以上的上述磁性层的工序；在上述洗涤工序中，使用本发明的用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物洗涤上述硬盘用基板。具体实施例方式本发明的发明人发现在硬盘用基板上，含M-P层的表面在空气中被氧化而形成氧化镍层，在基板形成工序中产生的粒子是氧化镍层的研磨碎渣(氧化物微粒)或含M-P层的研磨碎渣的氧化物(氧化物微粒)，氧化物微粒粘着于氧化镍层。并且本发明的发明人基于含Ni-P层被过度溶解(腐蚀)的理由，探讨了通过大胆使用一直以来避免使用的酸性度高的洗涤剂组合物来溶解氧化镍层，从而缓和氧化物微粒的粘着状态，除去氧化物微粒。作为酸性度高的洗涤剂组合物的一个例子，例如含有(a)浊点为3070°C的非离子表面活性剂、(b)分子内具有酯键、能通过水解产生脂肪酸的阳离子表面活性剂、(c)两性表面活性剂以及(d)水(日本特开2005-97432号公报)。该洗涤剂组合物在20°C下的pH例如为0.56，优选为14，更优选为24。作为酸性度高的洗涤剂组合物的另一例子，例如为市售的乙酸与氨水的混合液(80°C、pH=5)(日本特开平11-28431号公报)。本发明的发明人尝试后意外发现通过使洗涤剂组合物含有日本特开2005-97432号公报以及日本特开平11-28431号公报中未记载的、选自特定的阳离子表面活性剂和特定的两性表面活性剂中的至少1种表面活性剂，不仅能够与进行了在水平磁记录方式的硬盘的制造过程的纹理工序中进行的处理相同的处理同等以上地除去氧化镍层和氧化物微粒，还能够抑制含M-P层的腐蚀。本发明的用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物(以下有时也简称为“洗涤剂组合物”)中含有的上述特定的阳离子表面活性剂如下述(式1)所示。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage6</formula>(式丄)(式1)中，R1是碳原子数为1016的烷基，从提高氧化镍的溶解性且有效地抑制含Ni-Pi层的腐蚀的观点出发，碳原子数优选为1014，更优选为1012。X是卤原子，例如可以列举CI、Br、I等。(式1)所示的阳离子表面活性剂具体地可以列举癸基三甲基氯化铵(C10)、十一烷基三甲基氯化铵(C11)、月桂基三甲基氯化铵(C12)、十三烷基三甲基氯化铵(C13)、十四烷基三甲基氯化铵(C14)、十五烷基三甲基氯化铵(C15)、十六烷基三甲基氯化铵(C16)等，这些阳离子表面活性剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。其中，从提高氧化镍的溶解性、有效地抑制含M-P层的腐蚀且工业获得性良好的观点出发，优选癸基三甲基氯化铵(C10)、月桂基三甲基氯化铵(C12)、十四烷基三甲基氯化铵(C14)；从同样的观点出发，更优选癸基三甲基氯化铵(C10)、月桂基三甲基氯化铵(C12)。上述特定的两性表面活性剂的一个例子例如如(式2)所示。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage6</formula>(式2)(式2)中，R2是碳原子数为1016的烷基，从提高氧化镍的溶解性且有效地抑制含Ni-P层的腐蚀的观点出发，碳原子数优选为1014，更优选为1012。(式2)所示的两性表面活性剂是烷基二甲基氨基乙酸甜菜碱，具体地可以列举癸基二甲基氨基乙酸甜菜碱、十一烷基二甲基氨基乙酸甜菜碱、月桂基二甲基氨基乙酸甜菜碱、十三烷基二甲基氨基乙酸甜菜碱、十四烷基二甲基氨基乙酸甜菜碱、十五烷基二甲基氨基乙酸甜菜碱、十六烷基二甲基氨基乙酸甜菜碱等。这些烷基二甲基氨基乙酸甜菜碱可以单独使用1种，也可以使用2种以上。其中，从提高氧化镍的溶解性、有效地抑制含M-P层的腐蚀且工业获得性良好的观点出发，优选癸基二甲基氨基乙酸甜菜碱、月桂基二甲基氨基乙酸甜菜碱、十四烷基二甲基氨基乙酸甜菜碱；从同样的观点出发，更优选癸基二甲基氨基乙酸甜菜碱、月桂基二甲基氨基乙酸甜菜碱。上述特定的两性表面活性剂的另一例子例如如(式3)所示。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>(式3)中，R3是碳原子数为1016的烷基，从提高氧化镍的溶解性且有效地抑制含Ni-P层的腐蚀的观点出发，碳原子数优选为1014，更优选为1012。(式3)所示的两性表面活性剂是烷基二甲基氧化胺，具体地可以列举癸基二甲基氧化胺、十一烷基二甲基氧化胺、月桂基二甲基氧化胺、十三烷基二甲基氧化胺、十四烷基二甲基氧化胺、十五烷基二甲基氧化胺、十六烷基二甲基氧化胺等。这些烷基二甲基氧化胺可以单独使用1种，也可以使用2种以上。其中，从提高氧化镍的溶解性、有效地抑制含M-P层的腐蚀且工业获得性良好的观点出发，优选癸基二甲基氧化胺、月桂基二甲基氧化胺、十四烷基二甲基氧化胺；从同样的观点出发，更优选癸基二甲基氧化胺、月桂基二甲基氧化胺。上述特定的两性表面活性剂的另一例子例如如(式4)所示。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>(式4)中，R4是碳原子数为1016的烷基，从提高氧化镍的溶解性且有效地抑制含Ni-P层的腐蚀的观点出发，碳原子数优选为1014，更优选为1012。(式4)所示的两性表面活性剂是烷基羧甲基羟乙基咪唑啉甜菜碱，具体地可以列举2-癸基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、2-i^一烷基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、2-月桂基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、2-十三烷基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、2-十四烷基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、2-十五烷基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、2-十六烷基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱等。这些烷基羧甲基羟乙基咪唑啉甜菜碱可以单独使用1种，也可以使用2种以上。其中，从提高氧化镍的溶解性、有效地抑制含M-P层的腐蚀且工业获得性良好的观点出发，优选2-癸基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、2-月桂基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、2-十四烷基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱；从同样的观点出发，更优选2-癸基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、2-月桂基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱。上述特定的两性表面活性剂的另一例子例如如(式5)所示。CH3R5-C-N-CH2CH2CH2—N+-CH2COO"(式5)OHCH3(式5)中，R5是碳原子数为1016的烷基，从提高氧化镍的溶解性且有效地抑7制含Ni-P层的腐蚀的观点出发，碳原子数优选为1014，更优选为1012。(式5)所示的两性表面活性剂是烷基酰胺丙基甜菜碱，具体地可以列举癸酸酰胺丙基甜菜碱、十一烷酸酰胺丙基甜菜碱、月桂酸酰胺丙基甜菜碱、十三烷酸酰胺丙基甜菜碱、肉豆蔻酸酰胺丙基甜菜碱、十五烷酸酰胺丙基甜菜碱、十六烷酸酰胺丙基甜菜碱等。这些烷基酰胺丙基甜菜碱可以单独使用1种，也可以使用2种以上。其中，从提高氧化镍的溶解性、有效地抑制含M-P层的腐蚀且工业获得性良好的观点出发，优选癸酸酰胺丙基甜菜碱、月桂酸酰胺丙基甜菜碱、肉豆蔻酸酰胺丙基甜菜碱；从同样的观点出发，更优选癸酸酰胺丙基甜菜碱、月桂酸酰胺丙基甜菜碱。上述特定的两性表面活性剂的另一例子例如如(式6)所示。<image>imageseeoriginaldocumentpage8</image>(式6)中，R6是碳原子数为1016的烷基，从提高氧化镍的溶解性且有效地抑制含Ni-P层的腐蚀的观点出发，碳原子数优选为1014，更优选为1012。(式6)所示的两性表面活性剂是烷基羟基磺基甜菜碱，具体地可以列举癸基羟基磺基甜菜碱、十一烷基羟基磺基甜菜碱、月桂基羟基磺基甜菜碱、十三烷基羟基磺基甜菜碱、十四烷基羟基磺基甜菜碱、十五烷基羟基磺基甜菜碱、十六烷基羟基磺基甜菜碱等。这些烷基羟基磺基甜菜碱可以单独使用1种，也可以使用2种以上。其中，从提高氧化镍的溶解性、有效地抑制含M-P层的腐蚀且工业获得性良好的观点出发，优选癸基羟基磺基甜菜碱、月桂基羟基磺基甜菜碱、十四烷基羟基磺基甜菜碱；从同样的观点出发，更优选癸基羟基磺基甜菜碱、月桂基羟基磺基甜菜碱。在本发明的洗涤剂组合物中，选自上述(式1)(式6)所示的表面活性剂中的1种以上的表面活性剂的含量，从有效地抑制含M-P层的腐蚀的观点出发，优选为0.0005重量％以上，更优选为0.001重量％以上，进一步优选为0.005重量％以上。从提高漂洗性的观点出发，优选为0.5重量％以下，更优选为0.3重量％以下，进一步优选为0.1重量％以下。因此，上述含量优选为0.00050.5重量％，更优选为0.0010.3重量％，进一步优选为0.0050.1重量％。作为本发明的洗涤剂组合物中含有的水系介质，可以列举水，水是包括例如超纯水、纯水、离子交换水、蒸馏水等的概念。其中，优选超纯水、纯水以及离子交换水，更优选超纯水以及纯水，进一步优选超纯水。这里，纯水和超纯水是指，将自来水通过活性炭，进行离子交换处理，进而蒸馏，对蒸馏得到的水根据需要照射规定的紫外线杀菌灯的光或通过过滤器而得到的水。例如25°C下的电导率，多数情况下，纯水为lyS/cm以下，超纯水为0.1μS/cm以下。从洗涤剂组合物的稳定性、操作性以及废液处理性等对环境的顾虑的观点出发，本发明的洗涤剂组合物中的水系介质的含量优选为99.5重量％以上，更优选为99.7重量％以上，进一步优选为99.9重量％以上。从提高氧化镍的溶解性且有效地抑制含Ni-P层的腐蚀的观点出发，优选为99.9995重量％以下，更优选为99.999重量％以下，进一步优选为99.995重量％以下。因此，上述含量优选为99.599.9995重量％，更优选为99.799.999重量％，进一步优选为99.999.995重量％。本发明的洗涤剂组合物在25°C下的pH为5pH以下，从氧化镍层的高溶解性的观点出发，优选为4.5以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下。本发明的洗涤剂组合物在25°C下的pH优选为1以上，更优选为1.5以上。因此，上述pH优选为14.5，更优选为14，进一步优选为1.54，更进一步优选为1.53。这里，25°C下的pH可以使用pH计(东亚电波工业株式会社、HM-30G)来测定。洗涤剂组合物的PH根据需要可以使用pH调节剂来调节。pH调节剂可以使用例如苹果酸、乙酸或草酸等有机酸，硫酸或硝酸等无机酸，氨基醇或烷基胺等胺类，氨等；从属于强酸、容易调至低PH的理由出发，无机酸优于有机酸。在本发明的洗涤剂组合物中，可以在不影响本发明效果的范围内含有非离子型表面活性剂、阴离子型表面活性剂、硅类消泡剂、EDTA、有机磺酸等螯合剂、醇类、防腐剂、抗氧剂等作为任意成分。当将洗涤剂组合物中除水以外的成分的总含量设为100重量％时，选自上述(式1)(式6)所示的表面活性剂中的1种以上的表面活性剂的含量和无机酸的含量的总计，从能充分发挥本发明的效果即提高氧化镍的溶解性且有效地抑制含M-P层的腐蚀的理由出发，优选为90100重量％，更优选为95100重量％，进一步优选为98100重量％，更进一步优选为100重量％。洗涤剂组合物优选不过多地含有由于对pH具有缓冲作用而难以将洗涤剂组合物调节至所需的PH的、且需要用废水处理设备进行处理的例如含氟化合物，更优选不含有此类化合物。对本实施方式的洗涤剂组合物的制备方法没有特殊限制。例如，可以将选自上述(式1)(式6)所示的表面活性剂中的1种以上的表面活性剂和任意成分添加到水中并混合。并且根据需要，可以添加PH调节剂调节到所需的pH。混合方法可以采用公知的方法。对于将各成分溶解到水中的顺序等没有特殊限制。需要说明的是，上述说明的各成分的配比是使用时(基板洗涤时)的配比，本实施方式的洗涤剂组合物可以在不损害其稳定性的范围内以浓缩的状态供给至制造、保存以及洗涤工序。制造、保存以及供给时，洗涤剂组合物中的选自上述(式1)(式6)所示的表面活性剂中的1种以上的表面活性剂的含量，从确保洗涤剂组合物为水溶性且具有良好的保存稳定性的观点出发，优选为洗涤剂组合物总量中的0.0550重量％，更优选为0.125重量％，进一步优选为0.510重量％，更进一步优选为110重量％，再进一步优选为37重量％。保存以及供给时(即浓缩的状态)的洗涤剂组合物中的水的含量，从确保洗涤剂组合物为水溶性且具有良好的保存稳定性的观点出发，优选为洗涤剂组合物总量中的4099.9重量％，更优选为5097重量％，进一步优选为6095重量％。(垂直磁记录方式硬盘的制造方法)本发明的垂直磁记录方式硬盘的制造方法是含有垂直磁记录方式硬盘用基板(以下也称为“硬盘用基板”)和配置在硬盘用基板上的磁性层的垂直磁记录方式硬盘的制造方法，其包含如下工序形成硬盘用基板的基板形成工序；将硬盘用基板洗涤的洗涤工序；以及在硬盘用基板上形成磁性层的磁性层形成工序。在基板形成工序中，例如，首先将铝板等金属板切成圆盘状，进行磨边。接着，对圆盘状金属板进行热处理，然后对两主面进行磨削，再次进行热处理。接着，对金属板的整个面例如进行Ni-P镀敷处理，接着进行热处理，形成金属板被Ni-P镀膜覆盖的基材。然后，对基材的一个主面或两主面使用含有氧化铝等研磨剂的研磨剂组合物进行第1次化学机械研磨处理，然后例如使用本发明的洗涤剂组合物或水进行洗涤处理。接着，使用含有二氧化硅等研磨剂的研磨剂组合物进行第2次化学机械研磨，然后例如使用本发明的洗涤剂组合物进行洗涤处理。此外，根据需要，有时还进行碱洗涤处理。如后所述，本发明的洗涤剂组合物用于基板形成工序和磁性层形成工序之间进行的洗涤工序中，但如上所述，也可以用于在基板形成工序中进行的洗涤处理。本发明的洗涤剂组合物在上述洗涤工序中使用。在该洗涤工序中，例如(a)将作为洗涤对象的硬盘用基板浸渍到本发明的洗涤剂组合物中，和/或(b)射出本发明的洗涤剂组合物来向硬盘用基板上供给本发明的洗涤剂组合物。在上述方法(a)中，作为硬盘用基板在洗涤剂组合物中的浸渍条件，没有特殊限制，例如，关于洗涤剂组合物的温度，从安全性和操作性的观点出发，优选为20100°C，关于浸渍时间，从洗涤性和生产效率的观点出发，优选为10秒30分钟。另外，从提高粒子除去性和粒子的分散性的观点出发，优选对洗涤剂组合物赋予超声波振动。关于超声波的频率，优选为202000kHz，更优选为1002000kHz，进一步优选为10002000kHz。在上述方法(b)中，从促进粒子的洗涤性和油分的溶解性的观点出发，优选射出被赋予了超声波振动的洗涤剂组合物，使洗涤剂组合物与硬盘用基板的一个主面或两主面接触来进行洗涤，或通过射出向硬盘用基板的一个主面或两主面上供给洗涤剂组合物，并用洗涤用刷擦洗一个主面或两主面来进行洗涤。此外，还优选通过射出向一个主面或两主面供给被赋予了超声波振动的洗涤剂组合物，并用洗涤用刷擦洗供给有洗涤剂组合物的一个主面或两主面来进行洗涤。作为向硬盘用基板的一个主面上或两主面上分别供给洗涤剂组合物的装置，可以使用喷嘴等公知的装置。另外，作为洗涤用刷，没有特殊限制，例如可以使用尼龙刷或PVA海绵刷等公知的刷子。作为超声波的频率，可以是与上述方法(a)中优选采用的值相同的频率。使用了本发明的洗涤剂组合物的洗涤方法除上述方法(a)和/或上述方法(b)夕卜，还可以包含1个以上的采用振荡洗涤、利用了旋转器等的旋转的洗涤、搅拌洗涤(paddlewashing)等公知的洗涤方法的工序。作为形成于硬盘用基板的一个主面侧的磁性层或分别形成于两主面侧的磁性层的材料，例如可以列举铁、锆、铌、铬、钽或钼等与钴的合金即钴合金等。对磁性层的形成方法没有特殊限制，可以采用以往公知的形成方法例如溅射法等。在使用了本发明的洗涤剂组合物的洗涤中，可以对硬盘用基板进行一片片洗涤，也可以将多片要洗涤的基板一起洗涤。另外，洗涤时使用的洗涤槽的数目可以为1个，也可以为多个。实施例1.洗涤剂组合物的制备按表1和表2的组成将各成分配合并混合，得到实施例120以及比较例123的洗涤剂组合物的浓缩液。2.评价项目将得到的洗涤剂组合物的浓缩液用水稀释，使其浓度为1重量％，使用该洗涤液(洗涤剂组合物)用下述方法得到NiO的溶解量(ppm)以及NiP的腐蚀量(人)，进而得到NiO与NiP的溶解选择比(NiO溶解量/NiP腐蚀厚度)。若NiO与NiP的溶解选择比(NiO溶解量/NiP腐蚀厚度)大，则意味着氧化镍层和氧化物微粒的除去性良好(即洗涤性良好)，且NiP的腐蚀量少；若(NiO溶解量/NiP腐蚀厚度)为30以上，则洗涤性更好，成为优选。结果如表1和表2所示。3.NiO的溶解量的测定1)在容积为IOOml的聚乙烯容器中，加入洗涤剂组合物的浓缩液的1重量％水溶液(洗涤剂组合物)20g，在25°C的恒温槽中进行恒温。2)接着，在上述洗涤剂组合物中添加氧化镍粉末(Nickel(II)oxide，纳米粉纯度为99.8%,Aldrich制)0.lg，用搅拌器充分搅拌10分钟。3)用注射器采集上清液10g，用注射器过滤器(DISMIC25HP020AN,孔径为0.2μm，ADVANTEC制)进行过滤，采集滤液。4)将在3)中采集的滤液用超纯水稀释1050倍，用ICP发光分析装置(株式会社PerkinElmer制、商品名“0ptima5300”)测定镍的发光强度。5)从使用ICP发光分析装置定量得到的Ni溶解量、和将已知浓度的NiO水溶液(原子吸光分析用)用超纯水稀释后使用该稀释液作成的校正曲线求得MO的溶解量。4.NiP的腐蚀厚度的测定1)在容积为2L的聚乙烯容器中，加入洗涤剂组合物的浓缩液的1重量％水溶液(洗涤剂组合物)70g，在25°C的恒温槽中进行恒温，制成试验液。2)接着，将Ni-P镀敷的硬盘用基板在0.1重量％HF水溶液中于室温下浸渍10秒，接着，用水冲洗，然后通过吹氮来干燥，进行前洗涤。3)将进行了前洗涤的硬盘用基板在试验液中浸渍10分钟。4)取出硬盘基板后，对试验液用ICP发光分析装置(株式会社PerkinElmer制、商品名“0ptima5300”)测定镍的发光强度。5)将用ICP发光分析装置定量得到的Ni溶解量代入下式，得到NiP腐蚀厚度。NiP腐蚀厚度[A]=[(A+AxB)/1000000]xC/D/E/0.00000001A=Ni溶解量[ppm]B镀敷中的P/Ni比率C试验药液量[70g]D:P/Ni比重[8.4g/cm3]E基板面积[131.88cm2]从提高使用洗涤剂组合物洗涤得到的被洗涤基板的成品率的观点出发，NiP的腐蚀厚度优选越薄越好。5.被洗涤基板的洗涤性试验5-1.被洗涤基板的制备用含有氧化铝研磨剂的料浆预先进行粗研磨，再在下述研磨条件下研磨粗研磨得到的Ni-P镀敷基板(外径为95mmΦ、内径为25mmΦ、厚度为1.27mm、表面粗糙度(Ra)为Inm)，将得到的基板作为被洗涤基板。<研磨条件>研磨机两面9B研磨机(Speedfam株式会社制)研磨垫Suedetype(厚度为0.9mm、平均开孔径为30μm、Fujibo株式会社制)研磨液胶体二氧化硅料浆(型号^U—K2Ρ-2000、花王株式会社制)主研磨负荷为100g/cm2、时间为300秒、研磨液流量为100mL/min水冲洗负荷为30g/cm2、时间为20秒、冲洗水流量为约2L/min5-2.洗涤试验用洗涤装置在以下条件下洗涤被洗涤基板。(1)洗涤将研磨后的被洗涤基板在将洗涤剂组合物的浓缩液稀释至后得到的洗涤剂组合物中浸渍5分钟进行洗涤。(2)漂洗将被洗涤基板置于洗涤机，运送至辊刷部(第1段)，接着，在被洗涤基板的两主面的各面上压上旋转的辊刷，一边向各被洗涤基板的两主面的各面以每分钟1.2L射出常温的超纯水，一边洗涤20秒。然后将被洗涤基板运送到另一辊刷部(第2段)，接着，与第1段的辊刷部同样地在被洗涤基板的两主面的各面上压上旋转的辊刷，一边向各被洗涤基板的两主面的各面以每分钟1.2L射出常温的超纯水，一边漂洗20秒。然后，将被洗涤基板运送到超声波漂洗部，一边向被洗涤基板的两主面的各面以每分钟2.7L射出被赋予了950kHz超声波的常温的超纯水，一边漂洗20秒。(3)干燥使保持于旋转夹头的漂洗后的基板高速旋转(3000rpm)除去液体，干燥1分钟。5-3.粒子的洗涤性评价用以下方法对经过5-2.(1)(3)后的基板表面的微粒的洗涤性进行评价。使用扫描电子显微镜在1000倍(视野范围为约ΙΟΟμπι见方)的倍率下观察干燥后的基板，计数在观察视野内观察到的基板表面上残留的微粒数。对5片基板的基板的两主面各随机10点、共计100点(10点Χ2Χ5片=100点)地进行上述观察。根据观察到的100点的总微粒个数和下述评价基准，对微粒的洗涤性分4级进行评价。<微粒的洗涤性评价基准>总微粒个数为0个。〇总微粒个数为12个。Δ总微粒个数为35个。X总微粒个数为6个以上。另外，硬盘的记录密度越高，所要求的洗涤精度越高，若是“Δ”，则有时能够使用，若是“〇”，则能够满足现在的要求水平。即使今后所要求的洗涤精度进一步提高，“◎”也能够满足要求。如表1和表2所示，为了使上述洗涤性为“〇”或“◎，，，则NiO的溶解量为SOppm以上即可，为了使上述洗涤性为“◎”，则NiO的溶解量为200ppm以上、优选为250ppm以上、更优选为300ppm以上、进一步优选为350ppm以上、更进一步优选为400ppm以上即可。如上所述，若使用含有选自上述(式1)(式6)所示的表面活性剂中的1种以上的表面活性剂且25°C下的pH为5以下的洗涤剂组合物，则能够得到含Ni-P层的腐蚀得到抑制且高度洁净了的基板。<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>根据本发明，能够提供不仅抑制了含Ni—P层的腐蚀且具有高洗涤能力的用于垂直磁记录方式硬盘用基板的洗涤剂组合物、使用该组合物的垂直磁记录方式硬盘的制造方法。通过使用本发明的洗涤剂组合物洗涤垂直磁记录方式硬盘用基板，不仅能够抑制含Ni-P层的腐蚀，还能除去氧化镍层和氧化物微粒。因此，本发明有助于提高产品的成品率。权利要求一种用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物，所述基板具有含Ni-P层，其中，所述组合物含有选自下述式1所示的阳离子型表面活性剂、下述式2所示的两性表面活性剂、下述式3所示的两性表面活性剂、下述式4所示的两性表面活性剂、下述式5所示的两性表面活性剂以及下述式6所示的两性表面活性剂中的1种以上的表面活性剂；且所述组合物在25℃下的pH为5以下；(式1)其中，在所述式1中，R1是碳原子数为10～16的烷基，X是卤原子；(式2)其中，在所述式2中，R2是碳原子数为10～16的烷基；(式3)其中，在所述式3中，R3是碳原子数为10～16的烷基；(式4)其中，在所述式4中，R4是碳原子数为10～16的烷基；(式5)其中，在所述式5中，R5是碳原子数为10～16的烷基；(式6)其中，在所述式6中，R6是碳原子数为10～16的烷基。FPA00001049690800011.tif,FPA00001049690800012.tif,FPA00001049690800013.tif,FPA00001049690800014.tif,FPA00001049690800015.tif,FPA00001049690800021.tif2.如权利要求1所述的用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物，其中，所述组合物不含有含氟化合物。3.如权利要求1或2所述的用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物，其中，所述组合物含有水和无机酸，当将除所述水以外的成分的总含量设为100重量％时，所述表面活性剂的含量和所述无机酸的含量之和为90100重量％。4.如权利要求13中任一项所述的用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物，其中，所述表面活性剂的含量为0.00050.5重量％。5.一种垂直磁记录方式硬盘的制造方法，所述硬盘包含以含Ni-P层为两最外层的垂直磁记录方式硬盘用基板、和配置在所述硬盘用基板的一个主面侧的磁性层或分别配置在两主面侧的磁性层，所述制造方法包含如下工序形成所述硬盘用基板的基板形成工序；将所述硬盘用基板洗涤的洗涤工序；以及形成一个以上的所述磁性层的工序；其中，在所述洗涤工序中，使用权利要求14中任一项所述的用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物洗涤所述硬盘用基板。6.一种垂直磁记录方式硬盘的制造方法，其中，在所述基板形成工序中，对硬盘用基板的基材的一个主面或两主面依次进行研磨处理和洗涤处理，所述洗涤处理是使用权利要求14中任一项所述的用于垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物来进行的。全文摘要本发明涉及一种用于具有含Ni-P层的垂直磁记录方式硬盘用基板的水系洗涤剂组合物，其含有选自(式1)～(式6)所示的表面活性剂中的1种以上的表面活性剂，且在25℃下的pH为5以下。其中，在所述(式1)中，R1是碳原子数为10～16的烷基，X是卤原子。(式1)文档编号B08B3/08GK101802911SQ200880106838公开日2010年8月11日申请日期2008年9月5日优先权日2007年9月14日发明者堀尾安则,宫本定治,田村敦司申请人:花王株式会社