X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法
【专利摘要】本发明是一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，在对X荧光光谱仪分光室内表面的可视油污、水汽进行清理擦除后实施，其特征在于包括以下步骤：对分光室进行加温烘烤使残留的油污水分挥发出来；将分子筛置入分子筛储存盒并使分子筛储存盒进入分光室对挥发出来的油污水分进行吸附；进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽；使各分光器轮流交替真空泄漏,通过脉冲负压吹扫气流进行清除；以及使通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽排出，以完成分光室内污染的彻底清除。本发明方法清除光谱仪分光室内部油污水汽效率高、清除彻底，使分析测试数据稳定，运行可靠；操作方法掌握容易，使用中不会对分光系统造成损坏。
【专利说明】X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种理化检测装置，具体说有关一种X荧光光谱仪的清洁方法。
【背景技术】
[0002]X荧光光谱仪担负着进厂原料如铁矿石和各类辅料的品位测试、冶炼所需的烧结矿等炉料的成分分析、进行高炉铁水各化学元素的成分分析、各类成品板材镀层厚度的测试，以及承担大量科研项目中试样的测试分析任务，因此X荧光光谱仪是现代冶金企业重要的理化检测仪器设备。
[0003]X荧光光谱仪分光系统结构复杂内部形状不规则、涉及部件多，出现油污水汽污染清理困难，作业效率低下针对性差，很难彻底清除，由于油污水汽残留的存在严重影响了分析检测数据的准确性。在维护时虽然能对分光系统内表面可视油污水汽进行常规清理，但在之后很长的一段时间内沉集在分光器犄角旮旯无法解体清理的油污、水汽会逐渐挥发出来，污染样品造成分析检测数据的异常，尤其是硫、磷、硅等元素化学含量分析受影响尤甚。分光系统油污清理效率低、速度慢，且清洗效果不彻底。不可能对大型精密的X射线电子光学系统进行分解清洗，由于缺少系统性和针对性的分光系统油污清理方法，不能有效地指导X荧光光谱仪分光系统的点检维护作业，检修时间长、效果差造成不必要的时间损失，造成分光室的二次污染，增加停机时间降低了仪器运行的有效运行率。
[0004]分光室内的油污中硫、磷、硅等元素的含量较高，虽然经过常规清理，但残留在分光室内的剩余油污在X射线热辐射的作用下，挥发出来并污染进入分光室的待测样品，由于这些污染物的干扰使硫、磷、硅等轻元素含量测量不准，如在未彻底进行分光室清理时，测量铁水样品误差极大。
[0005]X荧光光谱仪分光系统的X射线管由于老化或其质量缺陷会造成铍窗破裂，引起高压绝缘油进入分光系统，使光谱仪分光室和真空管道内部污染；另外，真空系统中的真空泵在长期运行后，其中的真空泵油也会对真空分光室造成扩散污染。此时X荧光光谱仪就无法正常使用，因此需要对所述的污染进行清除。X射线管的最大输出功率受阳极元素熔点和导热度的限制，阳极产生的热量要用流动的水进行冷却。由于冷却水管的劣化破裂等因素，水汽不可避免进入真空分光室而引起污染。为了防止上述故障引起X荧光光谱仪分光系统的污染，就需要对分光室内表面的油污、水汽进行常规清理擦除后，还需在保证设备的完整性不进行解体的情况下，对分光室内表面残余的油污和水汽高效快速地予以清除。
[0006]在发明名称为“真空管道清洁装置及系统”的中国专利申请公开第CN201020210793.7号介绍了一种真空管道清洁装置及系统，其中真空管道清洁装置包括:至少二个清洁杆、至少一个毛刷头以及牵引装置；所述清洁杆之间以配合结构活动连接并构成清洁杆组；所述毛刷头设置在至少一个清洁杆上；所述牵引装置设置在所述清洁杆组的两端。适用于清洁弯曲连接处较多的真空管道，用牵引装置来回拉动清洁杆来清理真空管道。该专利申请涉及机械硬件管道清洁装置，并不涉及X荧光光谱仪分光室内残留油污水汽的清除。
[0007]在发明名称为“真空管线清洁分离系统”的中国专利申请公开第CN200780037472.2号介绍了一种真空管线清洁分离系统，其用于从真空排除物中除去液体物质和碎屑以及提供不含污染物的真空返回，利用真空排出管线与输入真空物流诱发的循环旋转的气旋分离液体和碎屑，使液体和碎屑落到底部排出到收集室，而清洁的真空流引向清洁的真空出口孔。该专利申请涉及真空管线清洁分离系统，也并不涉及X荧光光谱仪分光室内残留油污水汽的清除。
【发明内容】
[0008]本发明的目的是提供一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，可高效快速地彻底清除X荧光光谱仪真空分光室内表面残余的油污和水汽，以避免引起X荧光光谱仪分光系统的污染。
[0009]本发明的一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，在对X荧光光谱仪分光室内表面的可视油污、水汽进行清理擦除后实施，其特征在于包括以下步骤:对分光室进行加温烘烤使残留的油污水分挥发出来；将分子筛置入分子筛储存盒并使分子筛储存盒进入分光室对挥发出来的油污水分进行吸附；进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽；使各分光器轮流交替真空泄漏，通过脉冲负压吹扫气流进行清除；以及使通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽排出，以完成分光室内污染的彻底清除。
[0010]其中，对分光室进行加温烘烤是开启X射线并维持一定功率的热辐射和分光系统恒温加热。
[0011]其中，所述分子筛储存盒包括上盖和容器主体，所述分子筛储存盒的外形符合X荧光光谱仪样品系统尺寸，并且分子筛储存盒上下四周均有压力释放孔。
[0012]其中，在所述分子筛储存盒的上盖安装有小于分子筛颗粒目数的金属网罩。
[0013]其中，所述对挥发出来的油污水分进行吸附的步骤包括将装有分子筛的储存盒通过样品搬送系统送入X荧光光谱仪样品室进行真空预抽，以及待到真空度正常后打开分光室光闸，以使储存盒内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽和水汽分子进行有效吸附。
[0014]其中，储存盒内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽和水汽分子进行吸附后再由原路退出，以此往复完成吸附作业。
[0015]其中，在分光器的通道上加设有气流泄漏口并加装控制电磁阀，电磁阀通过自封闭快速接头与分光器连接；电磁阀不通电时一直处于关闭状态，使分光室保持真空度；进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽的步骤，是在维持着高真空度的负压状态下；当进行分光室污染清除时，由脉冲信号发生器产生可调节的周期脉冲信号推动放大电路，产生脉冲电压并驱动电磁阀以一定的周期频率开闭，以形成分光室的分光器真空泄漏，以对电磁阀开通周期的调节控制形成脉冲气流，以形成负压脉冲气流通道，从而形成负压脉冲吹扫气流。
[0016]其中，通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽是沿着真空管道排出到真空泵外面，以完成分光室内污染的清除。
[0017]其中X荧光光谱仪真空分光室残留油污水汽的清除方法的技术参数设置成:分光系统启动恒温加热功能，使分光室保持35±1°C ;X射线功率维持在600W，保持分光室内的热辐射；使用纳X型分子筛进行吸附；分光系统分光室内维持30±2Pa压力的真空泄漏量；电磁阀开闭动作频率为0.2?1Hz。
[0018]本发明的有益效果是:本发明方法清除光谱仪分光室内部油污水汽效率高、清除彻底，运用本方法不必对光谱仪分光室的拆卸分解和重新安装，作业时间缩短效率高，尤其避免了重新安装分光室、分光通道带来的电子光学系统的精密调整，这种调整工作多为设备制造厂的工程师在专业设备支持下方能进行。本发明方法可适用于不同型号的X荧光光谱仪，适用范围广；操作方法掌握容易、上手快，使用中不会对分光系统造成损坏，油污水汽彻底清除后X荧光光谱仪硫、磷、硅等元素分析测试数据稳定，运行可靠。
【专利附图】
【附图说明】
[0019]图1是本发明一个实施例的光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法的流程图；
[0020]图2是本发明方法所采用的装载分子筛的防飞溅功能的分子筛储存盒的主视半剖视图；
[0021]图3是图2的俯视图；
[0022]图4是分子筛储存盒进入X荧光光谱仪分光室进行吸附油污、水气示意图；
[0023]图5是X荧光光谱仪分光器交替负压脉冲气流吹扫示意图；
[0024]图6是改装增加的负压脉冲气流产生控制装置的示意图。
【具体实施方式】
[0025]为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发明的【具体实施方式】作详细说明。首先需要说明的是，本发明并不限于下述【具体实施方式】，本领域的技术人员应该从下述实施方式所体现的精神来理解本发明，各技术术语可以基于本发明的精神实质来作最宽泛的理解。图中相同或相似的构件采用相同的附图标记表示。
[0026]现结合附图具体说明本发明的一个实施例的一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法(以下简称清除方法)。该方法在对X荧光光谱仪分光室内表面的可视油污、水汽进行清理擦除后实施，如图1所示，包括以下步骤:
[0027]p1:对分光室进行加温烘烤使油污水分挥发出来；
[0028]P2:将分子筛置入分子筛储存盒并使分子筛储存盒进入分光室对挥发出来的油污水分进行吸附(见图2至图4);
[0029]P3:从分光器真空泄漏口处，通过自封闭快速插拔接头接入气体泄漏电磁阀管路，在外部脉冲信号发生器和驱动电路的控制下，泄漏有规律的负压脉冲吹扫气流对分光室进行油污水汽吹扫清除(见图5和图6)；
[0030]P4:使各分光器轮流交替真空泄漏(使分光室内真空度为30Pa左右)，通过脉冲负压吹扫气流进行清除；
[0031]P5:使通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽沿着真空管道排出到真空泵外面，完成分光室内污染的彻底清除。
[0032]现结合图2至图6详细说明上述各步骤。
[0033]经过对X荧光光谱仪分光室6内表面可视油污、水汽进行清理擦除后，还有油污、水汽残留，经过上述各步骤进行进一步清理。
[0034]在Pl步骤中，首先，开启X荧光光谱仪的X射线管7使X射线维持一定功率并打分光系统开恒温加热功能，对分光室6起到烘烤作用，在热辐射的作用下分光室6内部残留的油污、水分及时挥发出来，以便于进行吸附和吹扫。
[0035]在P2步骤中，如图4所示，将装有分子筛(未图示)的分子筛储存盒11 (如图2、3所示)通过样品搬送系统13送入X荧光光谱仪样品室12进行真空预抽，待到真空度正常后打开分光室光闸(快门)10，储存盒11内的分子筛对分光室6中残留的油污蒸汽和水汽分子进行有效吸附。
[0036]在P3步骤中，进行X荧光光谱仪分光室6负压脉冲气流吹扫油污、水汽，当吹扫气流以间歇脉冲形式在分光室6内运动时可以得到很好的油污水分清除效果。X荧光光谱仪分光室6处于良好的密封形态,平时都维持着高真空度,例如5Pa以下,相对分光室6的外部大气环境就形成了负压状态，利用这一负压的气体动能，如图5和图6所示，分光器6上泄漏电磁阀21在脉冲信号发生器17和驱动电路控制下以一定的周期频率开闭，人为造成分光室6的分光器8真空泄漏，形成负压脉冲吹扫气流，对分光室6进行清扫去污染。
[0037]在P4步骤中，为了防止真空泵14、15的工作负荷过大引起故障，采用各分光器8轮流交替真空泄漏，例如使分光室6内真空度为30Pa左右，形成负压脉冲吹扫气流，此时也要开启X射线和恒温加热功能保持一定的热辐射，让发挥出来的油气、水汽被气流吹走。
[0038]在步骤5中，使通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽沿着真空管道16排出到真空泵14、15外面，完成分光室6内污染的彻底清除。
[0039]其中，开启X射线并维持一定功率(如30KV，20mA ;相当于600W功率的热辐射)和分光系统恒温加热功能，起到烘烤作用，在热辐射的作用下分光室6内部残留的油污、水分及时挥发出来，进行吸附和吹扫。
[0040]其中，用分子筛在X荧光光谱仪分光室6中对残余油污、水汽进行吸附去除，分光室6由于抽真空始终处于负压状态，分子筛进入分光室6要经过由大气到真空环境的变化，吸附完毕后又要从真空到大气环境的转换。本方法将适量的分子筛放入专门设计的金属材质的分子筛储存盒11中。分子筛储存盒11包括上盖2和容器主体3，所述分子筛储存盒11的外形符合X荧光光谱仪样品系统尺寸，并且分子筛储存盒11四周和底部均有压力释放孔
4、5，进入真空环境后储存盒内气体能快速平稳排出达到内外压力平衡，以防止分子筛进入真空环境后压力骤减四处飞溅造成二次污染；同时在上盖2安装有小于分子筛颗粒目数的金属网罩I以对分子筛约束再放入储存盒的容器主体3内，使用时将储存盒11通过样品搬送系统13送入X荧光光谱仪样品室12进行真空预抽，待到真空度正常后打开分光室光闸(快门)10，储存盒11内的分子筛对分光室6中残留的油污蒸汽和水汽分子进行有效吸附，吸附后再由原路退出，以此往复完成吸附作业。这样的方法避免了人工对分光室6放大气，打开分光室6去放置分子筛再抽真空,吸附后分光室6放大气打开分光室6取出分子筛这种冗长繁杂的手工作业方式。
[0041]其中，经过吸附后分光室6残留油污、水汽已减少，但尚未彻底清除，使用负压脉冲气流吹扫。对X荧光光谱仪分光系统的分光器通道进行适当改造，如图6所示，改装增加的负压脉冲气流产生控制装置，包括:在分光器通道上增加气流泄漏控制电磁阀21，电磁阀通过自封闭快速接头与连接气管23、快速接口 24与与分光器8的分光器泄漏快速接口 9连接，电磁阀21不通电时一直处于关闭状态，使分光室6保持良好的真空度，当进行分光室污染清除时，由脉冲信号发生器17产生可调节的周期脉冲信号，去推动放大电路例如信号放大器18，产生脉冲电压并通过继电器19驱动电磁阀21，由于电磁阀21的周期开闭造成间歇状态的真空泄漏，在分光器6内形成负压脉冲气流,气流由分光器8外向分光室6内部流动，吹扫受污染的分光室6内表面，经过连续吹扫后污染油气和水汽分子被气流带走，并通过真空管道16经真空泵14、15排除，最终达到不拆卸分解分光系统而清洁分光室内部污染的目的。
[0042]其中，分光室6的各分光器8的通道8a、8b交替吹气:由于X荧光光谱仪真空系统中真空泵抽气能力有限，且真空规(一般为皮拉尼规)在低真空环境下工作时，极易使其钼丝烧毁开路，无法观察分光室真空状态，因此使用每个分光器8的通道8a、8b轮流交替吹气，保持分光室6相对高真空环境，减轻真空泵14、15的工作负荷、防止真空规在低真空环境下损坏。
[0043]试验过程:在X荧光光谱仪分光室被油污、水汽污染后，经分光室内部初步清理后运用本方法对分光室残留油污、水汽进行彻底清除，对残留物清理、去除使用分子筛吸附和负压吹扫组合方法。
[0044]本发明的油污水汽的清除方法技术参数设置如下:
[0045]I)分光系统启动恒温加热功能，使分光室保持35± 1°C ；
[0046]2) X射线功率维持在600W (30KV，20mA)，保持分光室内的热辐射；
[0047]3)使用纳X型分子筛进行吸附；
[0048]4)分光系统分光室内维持30±2Pa压力的真空泄漏量；
[0049]5)电磁阀开闭动作频率为0.2?1Hz。
[0050]与其他技术相比本发明方法有如下优点:
[0051]⑴以X荧光光谱仪适当的X射线功率和分光系统的恒温加热功能使分光室6内产生热量，在热辐射的烘烤作用下加快了分光室内残余油污、水汽分子的挥发，为分子筛吸附和负压吹扫气流的应用创造了良好条件。
[0052]⑵分子筛吸附:分子筛具有高强度，热稳定性好，比表面积大，吸附性强的优点，如钠X型分子筛(X晶结构型钠型)能吸附临界直径1A以下的油气和水汽分子，其外形呈颗粒状有比较高的机械强度，进入真空环境后分子筛颗粒不会因为压力突然变化而破裂；同时分子筛进入分光室6后在X射线照射下随着温度的升高能保持物理化学性能的稳定。将适量的分子筛放入专门设计的金属储存盒11中，分子筛储存盒11外形符合X荧光光谱仪样品系统尺寸便于输送，为了防止分子筛进入真空环境后压力骤减四处飞溅造成二次污染，储存盒上下四周均有压力释放孔4、5，进入真空环境后储存盒内气体能快速平稳排出达到内外压力平衡；同时用小于分子筛颗粒目数的金属网罩I对分子筛放置约束再放入储存盒11内，使用时将分子筛储存盒11通过样品搬送系统13送入X荧光光谱仪样品室12进行真空预抽，待到真空度正常后打开分光室快门10，储存盒11内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽和水汽分子进行有效吸附。
[0053]⑶分光器8负压吹扫:正常状态下X突光光谱仪的分光室6外部是大气状态,而分光室6内是始终处于真空环境，即用真空泵14、15通过管道16对分光室6进行连续抽气，以保持分光室6内有5Pa压力以下的真空度。如果适当造成人为真空泄漏利用内外压力差形成负压气流通道，对分光室内残留的油污和水汽进行连续气流吹扫，可以最终去除油污和水汽残留。对X荧光光谱仪分光系统的分光器通道进行适当改造，在分光器通道上增加气流泄漏口并加装控制电磁阀21，平时不加电时电磁阀一直处于关闭状态，当进行分光室污染清除时，以脉冲信号发生器17和驱动电路通过对电磁阀开通周期的调节控制形成脉冲气流通过(使分光室真空度人为调整到20?30Pa压力的真空度)，即形成负压脉冲气流通道，气流由分光器外向分光室内部流动，吹扫受污染的分光室内表面，经过连续吹扫后污染油气和水汽分子被气流带走，并通过真空管道16经真空泵14、15排除，最终达到不拆卸分解分光系统而清洁分光室内部污染的目的。综上所述，本发明方法清除光谱仪分光室内部油污水汽效率高、清除彻底，运用本方法不必对光谱仪分光室的拆卸分解和重新安装，作业时间缩短效率高，尤其避免了重新安装分光室、分光通道带来的电子光学系统的精密调整，这种调整工作多为设备制造厂的工程师在专业设备支持下方能进行。本发明方法可适用于不同型号的X荧光光谱仪，适用范围广；操作方法掌握容易、上手快，使用中不会对分光系统造成损坏，油污水汽彻底清除后X荧光光谱仪硫、磷、硅等元素分析测试数据稳定，运行可靠。
[0054]油污水汽清除前后的X荧光光谱仪测量效果对比(见表一)，以英国标样局生铁标样SCRM 652/4在MXF-2300 X荧光光谱仪上连续10次测量化学含量为例(X射线管电压40KV,管电流60mA，积分时间40秒):
[0055]表一:X荧光光谱仪对比表
[0056]__清除前清除后元素名称他Si% _P%m% 硅Si% _P%硫8%
第 I 次酒量0.93 0.0700.1360.910.0690.132
第 2 次测 iit1,01 0.0780.1420.910.0690.132
第 3 次测童1.09 0.0810.1490.91__前后0.132
第 4 次测1,17__0.0820.154__(X91__0.0680.133
第 5 次测量1.20 0.0900.1660.910.0690.133
第 6次涵讀1,26 0.1000.1690.910.0680.133
第 7 次酒量1.29 0.1070.1760.910.0690.133
第 8次酒量 1.35__0.1110.189__091__0.0690.133
第 9 次测量 1.47__0.1160.195__091__0.0690.132
第 10 次测1.55 0.1190.2030.910.0690.133
M
平均值1.3230.09540.16790.91__0.0680.132
标准偏差0.194750.01746 0,022900.0000 0.0004210.000516
变动系数14.72%18.30%13.64%0.0000% 0.61284%0.38944%:判定结论不合I#不合I#不合格合I# 合格合格
[0057]综上所述，通过恒温加热，使分光室产生热量以利用热辐射作用将X荧光光谱仪分光室内残留油污水汽挥发；利用分子筛储存盒11将分子筛放入分光室6，通过真空预抽和开启分光室光闸10进行吸附残留油气和水汽分子；在分光真空系统中形成适当的真空泄露量，形成吹扫气流连续带走分光室6、真空管道16的残留油污、水汽，并通过真空泵14、15排泄口排除。为了保持分光室相对高真空环境，减轻真空泵的工作负荷、防止真空规在低真空环境下损坏，采取各通道交替吹扫方式。
[0058]现说明本发明的方法的一个应用实例如下。
[0059]炼钢炉前快分试验室MXF2300 X荧光光谱仪因X射线管质量缺陷铍窗破裂，引起高压绝缘油和冷却水进入分光室和真空管路，造成分光器和真空管道内部严重污染。对受污染的分光室和真空管道内表面进行了常规清洁和擦除后，仪器运行后随着分光室温度升高，在分光室恒温加热功能和X射线热辐射作用下，沉集在分光器犄角旮旯无法直接清除的残余油污、水汽逐渐挥发出来，污染样品造成炉前铁水样品分析时硅、磷和硫等轻元素检测数据出现异常波动，无法满足炉前的分析检测要求。在保证设备的完整性不进行解体的情况下，首先采用热辐射下分子筛吸附法，再对分光室中21个元素通道分光器进行轮流交替负压脉冲气流吹扫法，终于高效快速地清除残余的绝缘油油污和水汽，保证了炉前试验室X荧光光谱仪稳定运行。
[0060]本发明满足了 X荧光光谱仪分光系统被污染后，在保证设备的完整性不进行解体的情况下，不损坏分光系统电子光学器件和X射线光路的空间几何位置，高效、彻底地清除分光室和真空管道残留油污、水汽，防止被测量样品污染，保证X荧光光谱仪分析数据尤其是轻元素数据的稳定、可靠。本发明方法适应范围广，适合不同类型的X荧光光谱仪上，有广泛的应用推广价值。
[0061]应理解，在阅读了本发明的上述讲授内容之后，本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
【权利要求】
1.一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，在对X荧光光谱仪分光室内表面的可视油污、水汽进行清理擦除后实施，其特征在于包括以下步骤:对分光室进行加温烘烤使残留的油污水分挥发出来；将分子筛置入分子筛储存盒并使分子筛储存盒进入分光室对挥发出来的油污水分进行吸附；进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽；使各分光器轮流交替真空泄漏，通过脉冲负压吹扫气流进行清除；以及使通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽排出，以完成分光室内污染的彻底清除。
2.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，对分光室进行加温烘烤是开启X射线并维持所要求功率的热辐射和分光系统恒温加热。
3.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，所述分子筛储存盒包括上盖和容器主体，所述分子筛储存盒的外形符合X荧光光谱仪样品系统尺寸，并且分子筛储存盒上下四周均有压力释放孔。
4.根据权利要求3所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，在所述分子筛储存盒的上盖安装有小于分子筛颗粒目数的金属网罩。
5.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，所述对挥发出来的油污水分进行吸附的步骤包括将装有分子筛的储存盒通过样品搬送系统送入X荧光光谱仪样品室进行真空预抽，以及待到真空度正常后打开分光室光闸，以使储存盒内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽和水汽分子进行有效吸附。
6.根据权利要求6所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，储存盒内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽和水汽分子进行吸附后再由原路退出，以此往复完成吸附作业。
7.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，在分光器的通道上加设有气流泄漏口并加装控制电磁阀，电磁阀通过自封闭快速接头与分光器连接；电磁阀不通电时一直处于关闭状态，使分光室保持真空度；进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽的步骤，是在维持着高真空度的负压状态下；当进行分光室污染清除时，由脉冲信号发生器产生可调节的周期脉冲信号推动放大电路，产生脉冲电压并驱动电磁阀以一定的周期频率开闭，以形成分光室的分光器真空泄漏，以对电磁阀开通周期的调节控制形成脉冲气流，以形成负压脉冲气流通道，从而形成负压脉冲吹扫气流。
8.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽是沿着真空管道排出到真空泵外面，以完成分光室内污染的清除。
9.根据权利要求1至8之任一项所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，X荧光光谱仪真空分光室残留油污水汽的清除方法的技术参数设置成:分光系统启动恒温加热功能，使分光室保持35± I°C ；X射线功率维持在600W，保持分光室内的热辐射；使用纳X型分子筛进行吸附；分光系统分光室内维持30±2Pa压力的真空泄漏量；电磁阀开闭动作频率为0.2?1Hz。
【文档编号】B08B7/04GK104162523SQ201310182736
【公开日】2014年11月26日 申请日期:2013年5月16日 优先权日:2013年5月16日
【发明者】王平, 邵星炜, 邹诚 申请人:宝山钢铁股份有限公司