专利名称：用于cvd的平滑多部分衬底支撑部件的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于大面积玻璃衬底的支撑部件。特别是，本发明涉及在高温处理期间用于支撑大面积玻璃衬底的支撑部件。
背景技术：
迄今为止已经在大玻璃衬底或板上制成薄膜晶体管，用于监视器、平板显示器、太阳能电池、个人数字辅助系统(PDA)、移动电话等。晶体管是通过在真空室中依次沉积包括非晶硅、掺杂和非掺杂氧化硅、氮化硅等的各种膜形成的。用于晶体管的薄膜例如可以通过化学汽相沉积(CVD)来沉积。沉积之后，很多用于晶体管制造的膜将被热处理。
CVD是温度较高的工艺，其要求衬底承受的温度在300℃-400℃的数量级。可以预想更高温度的工艺，如高于500℃。已经发现在玻璃衬底上制造集成电路时可广泛使用CVD膜处理。然而，由于玻璃是易碎的和在快速加热到高温时容易弯曲或破裂的介电材料，因此必须小心调整大面积衬底的加热速度，以便避免热应力和导致损坏。
目前系统都存在在处理之前对玻璃衬底进行预处理和进行后热处理操作。常规的加热腔室具有用于加热一个或多个玻璃衬底的一个或多个加热架。玻璃通常被支撑在间隔器上的搁板上，以便提高热均匀性和产量。为了是成本最低，常规间隔器通常由容易机械加工的金属例如不锈钢、铝和氮化铝等形成。但是，常规的间隔器可能会损伤玻璃表面，可能导致在玻璃表面中或上产生缺陷。然后，在切割操作期间，玻璃表面中或上的缺陷可能导致不正常的切割操作，导致器件损失或衬底破裂。
在有些情况下，相信与玻璃接触的间隔器的部分可能与玻璃反应和暂时粘接到玻璃上。当后来这些粘接部位破裂时，早先反应的残余物保留在间隔器上，将潜在地损坏正在被处理的衬底。此外，残余物将引起被处理的衬底被损坏或者可能成为热处理腔室内的污染源。而且，早先的残余物可能引起间隔器和玻璃之间的附加化学反应或者进一步使间隔器支撑表面退化或降低间隔器的寿命。
因此，需要一种用于减少或消除玻璃损伤的高温玻璃面板操作的玻璃支架。
发明内容
提供一种用于支撑玻璃衬底的装置。在一个实施例中，提供一种衬底支架，它具有基底部分和在其上具有表面的上顶部，以便适于使衬底支架和在其上支撑的衬底之间的摩擦和/或化学反应最小。
在另一实施例中，用于支撑衬底的装置包括支撑元件和多个支撑部件，至少一个支撑部件一般包括耦合到支撑元件的第一侧的基底结构部件和适于相对于支撑元件的第一侧隔开地支撑玻璃衬底的圆形顶部。
在另一实施例中，用于支撑衬底的装置包括搁板和多个支撑部件。至少一个支撑部件一般包括耦合到搁板的第一侧的基底结构部件和适于相对于搁板的第一侧间隔地支撑玻璃衬底的圆形顶部。
在另一实施例中，用于支撑衬底的装置包括腔室和间隔地设置在腔室中的多个搁板。每个搁板具有设置在其上的多个支撑部件。至少一个支撑部件一般包括耦合到搁板第一侧的基底结构部件和适于相对于搁板第一侧间隔地支撑玻璃衬底的圆形顶部。
在又一实施例中，用于支撑玻璃衬底的装置包括腔室主体和耦合腔室主体的侧壁的多个支撑元件。腔室主体具有第一玻璃传送端口和第二玻璃传送端口，它们分别被第一和第二槽形阀密封。多个支撑部件设置在支撑元件上。至少一个支撑部件包括耦合到支撑元件的基底结构部件和圆形顶部。圆形顶部适于相对于支撑元件间隔地支撑玻璃衬底。
附图简述本发明的多个具体描述已上面简要总结，为了获得上述的特征，优点和本发明的目标且能被详细理解，有必要参考具体实施例和附图。
应该注意，然而，附图只是表示本发明的典型实施例，因此不限制本发明的范围，本发明可以允许其它等效的实施例。
图1是根据本发明方案的具有支撑部件的加热腔室的一个实施例的剖面图。
图2是根据本发明方案的支撑部件的一个实施例的剖视图。
图3是具有多个支撑部件的搁板的一个实施例的平面图。
图4是具有多个支撑部件的支撑元件的负载锁定腔室的一个实施例的剖视图。
优选实施例的详细说明本发明涉及用于玻璃衬底的支撑部件，有利地用于减少由摩擦、化学反应或摩擦和化学反应的污染物产生的玻璃衬底损坏。
图1表示设置在示意加热腔室10内的本发明的支撑部件的实施例。常规加热腔室10包括侧壁12、14、底壁16和盖子18。另外的侧壁13、15(图1中未示出)垂直于侧壁12、14，由此构成加热腔室10的结构。与处理系统(未示出)相邻的侧壁13与槽形阀(未示出)配合，通过该槽形阀可以将玻璃板从处理系统传送到加热腔室10中和从中移出。
侧壁12和14与用于控制加热腔室10的温度的合适的加热线圈20配合。加热线圈可以是电阻加热器或用于循环热传递气体或液体的导管。底壁16分别与用于循环温度控制流体的入口和出口管道24和26配合，和/或与通道27配合，该通道27包含连接到电源(未示出)的用于加热线圈20的导线。或者，相同的通道24、26可用于封闭加热线圈20和用于循环通道22中的热传递介质。侧壁12、14的内部与多个支撑元件如导热搁板28配合。搁板28形成与壁12、14的良好热接触，以便确保快速和均匀地控制搁板28的温度。可用于搁板28的材料的例子包括但不限于铝、铜、不锈钢、包覆铜等。
一个或多个外部支承部件30适当地设置在搁板28上，以便支撑玻璃衬底32的周边，根据本发明的实施例，并且一个或多个内部支撑部件50设置在搁板28上，以便支撑玻璃衬底32的中心部分。在图3所示实施例中，3个支撑部件30设置在搁板28的相对侧壁12和14上，以便支撑衬底32的周边，同时两个支撑部件50设置于支撑部件30的内部，以便支撑玻璃衬底32的中心部分。
参见图1，支撑部件30、50用于支撑被处理的玻璃衬底32，使得在搁板28和玻璃衬底32之间产生间隙。这个间隙确保避免搁板28与玻璃衬底32的直接接触，它们之间的直接接触将导致玻璃衬底32中产生应力和碎裂或者导致对玻璃衬底32产生从搁板28传输来的污染物。玻璃衬底32由辐射和气体传导直接加热，而不是通过玻璃衬底32和搁板28的之间的直接接触来加热。
此外，玻璃衬底32和搁板28的交错设置使得能够从上面和下面提供玻璃衬底32的加热，这可以更快速和更均匀地加热玻璃衬底32。
图2是根据本发明方案的内部支撑部件50的一个实施例的剖视图。内部支撑部件50包括基底结构部件52和圆形顶部54，基底结构部件52具有一般为圆形的横截面。由内部支撑部件50支撑的玻璃衬底与圆形顶部54接触和由与圆形顶部54相邻的区域支撑。基底结构部件52具有空的中心部分56，该空的中心部分适当地形成以便接收安装杆58，由此通过在加热腔室10内部的示意示出的它的搁板28支撑内部支撑部件50。使用安装杆58代替将内部衬底支架50直接安装到搁板28上的一个优点是用于内部支撑部件50和搁板28的材料选择标准可以不同，并且可能导致不同材料的选择和涉及选择材料的不同热膨胀系数以及热膨胀系数的相关失配的可能问题。通过使用安装杆58，内部支撑部件50可与相邻搁板28的膨胀和收缩分开地膨胀和收缩。
基底结构部件52的顶部54具有圆形和平滑外表面。在一个实施例中，顶部54包括半球形、锥形、椭圆形或抛物线形端部。顶部54可具有适当平滑度的机械加工或抛光的表面光洁度或者其它合适的表面光洁度。在优选实施例中，顶部54具有为R4表面平滑度或更好的表面光洁度，这意味着该表面被抛光到小于4微英寸的粗糙度。在另一优选实施例中，内部衬底支架50的横截面形状为具有在顶部54的全半径的圆筒形。
基底结构部件52的材料被加工成适于在热处理期间支撑玻璃的形状。在一个实施例中，基底结构部件52的截面形状一般为具有圆形顶部的圆筒形。在优选实施例中，用于支撑玻璃衬底的最顶部被倒圆并具有平滑外表面。选择用于形成基底结构部件52的材料，以便容易加工，在一些实施例中为了降低成本。在一个实施例中，基底结构部件52是由不锈钢或低碳含量不锈钢形成的。在另一实施例中，基底结构部件52由铬镍铁合金(Inconel)或其它镍合金形成。
前面作为具有玻璃支撑部件而介绍了本发明的实施例，其中玻璃支撑部件具有由金属或金属合金并包括涂层60的基底结构部件52，应该理解其它材料也可以用于不需要涂层60的基底结构部件52。基底结构部件52可由提供摩擦减少和抑制本发明的特点的化学反应的材料形成。例如，基底结构部件52可以是石英或蓝宝石或者提供本发明优点的其它合适非金属材料。在有些情况下，可以在没有涂层60的情况下使用这些替代材料。
涂层60通常至少沉积在最顶部54的尖端90上。或者，涂层60可沉积在最顶部54的任何部分上和/或基底结构部件52上。在一个实施例中，本发明的涂层60具有足够的厚度，以便用作防止基底结构部件52和玻璃衬底32之间的接触的阻挡层。而且，基本上防止了基底结构部件50和内部衬底支架之间的污染物的反应。在本申请中，污染物可能是各种材料，包括存在与基底结构部件52内的迹线材料。例如，铬存在于适于用作基底结构部件32的很多种不锈钢中。相信本发明的表面涂层60的阻挡层实施例能够减少或消除存在于基底结构部件52中的铬和玻璃衬底32之间的反应。在涂层60减少或消除基底材料52和玻璃基衬底32之间的反应的实施例中，最顶部54可以被倒圆和/或具有用于支撑玻璃32的平面中部。平面中部通常被沟槽或辐射状部分包围，以便在装载和加热衬底32期间使潜在的刮伤最小化。
能减少或消除基底材料52和玻璃衬底32之间的反应的涂层60的实施例包括CVD氮化处理和PVD溅射处理。例如，如上成形的基底结构部件52可以设置在反应室中并暴露于包括氨、和/或氮气、和/或氢气、和/或其它还原气体的气氛中，以便在基底结构部件52的暴露表面上形成氮化层。这个工艺的结果是，在基底结构部件52的最顶部54上形成CVD氮化物涂层60。
上述CVD工艺或用于在基底结构部件52的暴露表面上形成氮化表面的其它合适工艺继续进行，直到氮化物层足够厚以便减少或防止基底结构部件52和玻璃衬底32之间的反应为止。在一个实施例中，涂层60通过CVD形成为至少约3微米的厚度。在另一个实施例中，涂层60通过CVD形成为约3微米到约20微米之间的厚度。
在替换实施例中，将能减少或消除基底材料52和玻璃衬底32之间的反应的涂层60溅射到基底结构部件52的最顶部54上。在一个实施例中，涂层60是通过合适的物理汽相沉积(PVD)工艺形成的，以便在基底结构部件52的外表面上形成氮化表面。在优选实施例中，涂层60包括氮化钛并且通过溅射法如物理汽相沉积形成。在另一替换实施例中，涂层60是通过物理汽相沉积形成的并具有足以减少或消除基底结构部件52和玻璃衬底32之间的化学反应的厚度。在另一替换实施例中，涂层60是通过物理汽相沉积方法形成并至少约为3微米厚。在另一替换实施例中，PVD涂层的厚度为约3微米和约20微米之间。在另一替换实施例中，该涂层是通过溅射方法或其它物理汽相沉积工艺形成的氮化钛。
在替换实施例，涂层60作为结构部件52和玻璃衬底32之间的摩擦减少层而工作。这里，摩擦减少指的是减少或消除由研磨、振动或玻璃衬底32和内部支撑部件50之间的其它接触引起的对玻璃衬底32的损伤。相信本发明的摩擦减少表面涂层60的实施例是适合的膜，以便保持基底结构部件52的总形状。在摩擦减少涂层60的优选实施例中，涂层60是合适的并保持下面的基底结构部件52的平滑的抛光光洁度。
能够减少引起玻璃衬底32损伤的摩擦的涂层60的实施方式包括CVD氮化工艺和PVD溅射工艺。例如，如上所述成形的基底结构部件52可设置在反应室中并暴露于包括氨气、和/或氮气、和/或氢气、和/或其它还原气体的气氛中，以便在基底结构部件52的暴露表面上形成氮化层。作为这个工艺的结果，适合的CVD氮化表面涂层60形成在基底结构部件52的最顶部上。上述CVD工艺或其它合适工艺继续进行直到氮化物层足够厚和适合以便减少内部支撑部件50和玻璃衬底32之间的摩擦损伤为止。
在一个替换实施例中，摩擦减少涂层60是通过CVD形成为至少约3微米。在另一实施例中，摩擦减少涂层60通过CVD形成为约3微米到约30微米。
在替换实施例中，能够减少内部支撑部件50和玻璃衬底32之间的摩擦损伤的涂层60被溅射到基底结构部件52的外表面上。在一个实施例中，摩擦减少涂层60是通过合适物理汽相沉积(PVD)工艺形成的，以便至少在基底结构部件52的最顶部54上形成氮化表面。在优选实施例中，摩擦减少涂层60包括氮化钛并且通过溅射法或物理汽相沉积形成。在另一替换实施例中，摩擦减少涂层60是通过物理汽相沉积形成的并且相对于基底结构部件52的形状和光洁度是适合的，其中基底结构部件52具有的厚度足以减少由内部支撑部件52引起的玻璃衬底32的摩擦损伤。
在本发明的摩擦减少涂层60的另一替换实施方式中，涂层60是通过物理汽相沉积形成的并且相对于内部支撑部件50的形状是保形的。涂层60适合于基底结构部件52和最顶部54的抛光光洁度。涂层60通常至少为约3微米厚。在另一替换实施例中，PVD涂层是适合的，并且厚度在约3微米和约20微米之间。在另一替换实施例中，涂层60是通过溅射或其它物理汽相沉积工艺形成的合适的氮化钛层。
应该理解不管形成方法怎样，表面涂层60提供基底结构部件52的光滑外表面。相信表面涂层60的上述替换实施例保持至少与基底结构部件52的原始光洁度相同的光滑表面。或者，涂层60可以被处理成具有光洁度。还相信根据本发明形成并具有上述表面涂层60的内部支撑部件50将减少被支撑在内部支撑部件50上的玻璃衬底32之间的摩擦，在有些实施例中，还将减少基底结构部件52内的金属或其它污染物和/或设置在其上的玻璃32之间的化学反应。
应该理解根据本发明的方案制造的内部支撑部件50适于在250℃以上进行的热处理操作。其它加热处理操作也可以使用本发明的内部支撑部件50进行，如在制造低温多晶硅时使用的热处理工艺。相信根据本发明制造的玻璃支撑部件适于在约450℃以上并高到和包括600℃进行的热处理操作，这取决于施加和玻璃材料性能。相信上述表面涂层60提供保护层，减少基底结构部件52和被支撑的玻璃衬底之间的摩擦损伤的可能性，同时还用作阻挡层以防止基底结构部件52内的污染物或金属和玻璃衬底32之间的反应。
前面已经示出和描述了作为中心支架的内部支撑部件50的实施方式，以便减少可能导致不正常分割操作的损伤或有源区损伤，这些损伤都将有害地影响器件产量。上述实施方式示出了作为中心支架的内部支撑部件50，同时常规外部支撑部件30可用于支撑玻璃面板32的周边。还应该理解外部支撑部件30可以与内部支撑部件30相同地有利地构成，特别对于高温玻璃序列。参照图2已经介绍了使用构成为内部支撑部件50的玻璃支撑部件30和50的结果，可以减少或消除对玻璃衬底32的损伤，由此增加给定玻璃衬底的产量。
前面关于特殊材料和杂质介绍了支撑部件30和50，应该理解其它热处理应用可能需要由其它不同材料制造的基底结构部件52，由此需要替换涂层60以便用作这里所述以外的其它不同杂质的阻挡层。
前面已经使用玻璃衬底介绍了本发明，本发明的支撑部件30和50的其它实施方式也可用于减少支撑部件30、50和不同衬底材料之间的摩擦损伤和化学反应。例如，可选择涂层60以便防止基底材料52杂质扩散到替换类型的衬底中，例如塑料衬底。前面已经作为用在上述加热系统10中而介绍了本发明，也可以使用其它热处理系统和腔室。例如，电阻加热器可直接安装到搁板28中，以便提供将在其中被处理的玻璃衬底32的加热和温度控制。本发明的方法和设备可单独实施而与其中采用本发明的实施例的加热腔室的类型无关。
前面关于用于容纳热膨胀失配的有利的应用已经介绍了空的中间部分56和安装杆58的设计，支撑部件30和50可使用其它装置固定到搁板28上。机械固定的其它形式例如冷压也可用于将玻璃支撑部件30和50固定到搁板28上。应该理解将玻璃支撑部件30和50的实施方式粘接或固定到加热搁板28上的方法也是可以的。
前面所述和所示的涂层60在上部54中示出并只覆盖基底结构部件52的一部分，应该理解也可以使用涂层的其它程度。例如，涂层60可覆盖基底结构部件52的所有暴露部分或者可以只用于覆盖上部54。在有些实施例中，涂层60可覆盖基底结构部件52的所有表面，包括与搁板28接触的那些表面。在优选实施例中，施加于基底结构部件52的涂层60的量最优化，以便提供本发明的化学和/或摩擦减少优点。
图4示出了具有多个支撑部件30和设置在其中的至少一个支撑部件50的负载锁定腔室400的一个实施方式的剖面图。负载锁定腔室400一般包括室主体402，该室主体402具有设置在其中的第一玻璃传送端口404和第二玻璃传送端口406。一般，每个端口404、406选择地被槽形阀408密封。通常，负载锁定腔室400设置在例如包含于腔室(未示出)中的第一气氛和真空气氛之间，该腔室分别设置在第一和第二端口404、406上，负载锁定腔室400用于允许玻璃32传送到真空气氛的内部或外部而不损失真空。腔室主体402另外包括可调整室主体402内的压力的泵送端口410。任选地，腔室主体402可包括用于升高室主体402内的压力的通道412。其中腔室主体402处于真空条件下。通常，通过通道412进入腔室400的空气或流体经过过滤器414，以使进入腔室400的颗粒最少。这种过滤器一般可从Riverdale、New Jersey的Camfil-USA公司获得。
多个支撑元件416一般设置在室主体402内，每个支撑元件支撑至少一个支撑部件30和50。每个支撑元件416通常耦合到腔室400的至少一个壁418上。在图4所示实施例中，支撑元件416包括第一组支撑元件420耦合悬挂到第二组支撑元件422上，其中第二组支撑元件422耦合在壁418和相对壁(未示出)之间。通常，第一组支撑元件420具有在其上支撑玻璃32的周边的支撑部件30，而第二组支撑元件422支撑玻璃32的中心部分。或者，支撑部件可耦合到室主体402的其它部分，如其它侧壁、底部或其组合。另外，一些或所有支撑部件30都设置在侧壁之间延伸的支撑元件416上，而一些或所有支撑部件50可设置在只耦合到一部分室主体(即耦合悬挂)上的支撑元件416上。此外，一个或多个支撑部件30可构成为与支撑部件50相同或相近。其它负载锁定腔室可构成为利用包括控制多个衬底的那些支撑部件的支撑部件50，其中多个衬底叠置在设置在图4所示的支撑元件416上或与其平行的平面中的第二组支撑元件上的腔室400内。
前面已经关于本发明的实施例进行了说明，在不脱离本发明的基本范围的情况下也可以实施本发明的其它和进一步的实施方式，并且本发明的范围由所附权利要求书确定。
权利要求
1.一种衬底支撑部件，包括具有基部和上部的主体；和适于接触和支撑其上衬底的上部的表面，其中该表面适于使摩擦最小和减少与支撑在其上的衬底的化学反应。
2.一种用于支撑玻璃衬底的设备，包括具有第一侧的支撑元件；和设置在支撑元件上的多个支撑部件，至少一个支撑部件包括耦合到支撑元件的第一侧的基底结构部件；和适于以与支撑元件的第一侧隔开的方式支撑玻璃衬底的圆形顶部。
3.根据权利要求2的设备，其中圆形顶部具有4微英寸的粗糙度或更高的平滑度。
4.根据权利要求2的设备，其中圆形顶部还包括半球形、锥形、椭圆形或抛物线形的端部。
5.根据权利要求2的设备，还包括耦合到支撑元件的第一侧的多个安装杆，每个安装杆耦合到相应的支撑部件。
6.根据权利要求5的设备，其中基底结构部件是中空的并接收安装杆的至少一部分。
7.根据权利要求2的设备，其中多个支撑部件，还包括沿着支撑元件的至少一部分周边设置的第一组支撑部件；和至少第二组支撑部件，它们包括设置在第一组内部的至少一个支撑部件。
8.根据权利要求2的设备，其中至少一个支撑部件由非金属材料构成。
9.根据权利要求8的设备，其中至少一个支撑部件由石英或蓝宝石构成。
10.根据权利要求2的设备，其中至少一个支撑部件由不锈钢或镍合金构成。
11.根据权利要求2的设备，其中至少一个支撑部件还包括涂层。
12.根据权利要求11的设备，其中涂层是氮化层。
13.根据权利要求12的设备，其中圆形顶部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
14.根据权利要求11的设备，其中涂层具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
15.根据权利要求2的设备，其中至少一个支撑部件是搁板。
16.一种用于支撑玻璃衬底的设备，包括具有第一侧的搁板；设置在搁板上的多个支撑部件，至少一个支撑部件包括耦合到搁板的第一侧的基底结构部件；适于以与搁板第一侧隔开的方式支撑玻璃衬底的顶部；和设置在顶部的至少尖端上的涂层。
17.根据权利要求16的设备，其中顶部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
18.根据权利要求16的设备，其中顶部还包括半球形、锥形、椭圆形或抛物线形的端部。
19.根据权利要求16的设备，其中顶部还包括平的中心部分。
20.根据权利要求16的设备，还包括耦合到搁板的第一侧的多个安装杆，每个安装杆耦合到相应的支撑部件。
21.根据权利要求20的设备，其中基底结构部件是中空的并接收安装杆的至少一部分。
22.根据权利要求16的设备，其中多个支撑部件还包括沿着搁板的至少一部分周边设置的第一组支撑部件；和至少第二组支撑部件，包括设置在第一组内部的至少一个支撑部件。
23.根据权利要求16的设备，其中至少一个支撑部件由非金属材料构成。
24.根据权利要求16的设备，其中至少一个支撑部件由石英或蓝宝石构成。
25.根据权利要求16的设备，其中至少一个支撑部件由不锈钢或镍合金构成。
26.根据权利要求16的设备，其中涂层是氮化层。
27.根据权利要求16的设备，其中涂层具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
28.一种用于支撑玻璃衬底的设备，包括腔室；以与腔室隔开的方式设置的多个搁板，每个搁板具有第一侧和设置在其上的多个支撑部件，至少一个支撑部件包括耦合到搁板的第一侧的基底结构部件；和适于以与搁板第一侧隔开的方式支撑玻璃衬底的圆形顶部。
29.根据权利要求28的设备，其中腔室还包括具有电阻加热或用于流过热传送流体的导管的至少一个侧壁。
30.根据权利要求28的设备，其中圆形顶部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
31.根据权利要求28的设备，其中圆形顶部还包括半球形、锥形、椭圆形或抛物线形的端部。
32.根据权利要求28的设备，还包括耦合到搁板的第一侧的多个安装杆，每个安装杆耦合到相应的支撑部件上。
33.根据权利要求32的设备，其中基底结构部件是中空的和接收安装杆的至少一部分。
34.根据权利要求28的设备，其中多个支撑部件还包括沿着搁板的至少一部分周边设置的第一组支撑部件；和至少第二组支撑部件，包括设置在第一组内部的至少一个支撑部件。
35.根据权利要求28的设备，其中至少一个支撑部件由非金属材料构成。
36.根据权利要求28的设备，其中至少一个支撑部件由石英或蓝宝石构成。
37.根据权利要求28的设备，其中至少一个支撑部件由不锈钢或镍合金构成。
38.根据权利要求28的设备，其中至少一个支撑部件还包括涂层。
39.根据权利要求38的设备，其中涂层是氮化层。
40.根据权利要求38的设备，其中圆形顶部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
41.根据权利要求38的设备，其中涂层具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
42.一种用于支撑玻璃衬底的设备，包括具有至少一个侧壁的腔室主体；耦合到侧壁上的多个支撑元件；选择地密封设置在腔室主体中的第一玻璃传送端口的第一槽形阀；和选择地密封设置在腔室主体中的第二玻璃传送端口的第二槽形阀；设置在支撑元件上的多个支撑部件，其中至少一个支撑部件包括耦合到支撑元件上的基底结构部件；和适于以与支撑元件隔开的方式支撑玻璃衬底的圆形顶部。
全文摘要
本发明提供一种用于支撑玻璃衬底的设备。在一个实施例中，提供基片支撑部件(50)，它具有基底结构部件(52)和上顶部(54)，上顶部(54)上具有表面，该表面适于使衬底支架和在其上支撑的玻璃衬底之间的摩擦和/或化学反应最小。衬底支架可用于各种处理腔室中，如负载锁定腔室和具有热处理的腔室。
文档编号C03C17/00GK1518757SQ02812495
公开日2004年8月4日 申请日期2002年5月2日 优先权日2001年5月22日
发明者W·A·巴格利, E·M·拉米雷, S·C·沃尔加斯特, W A 巴格利, 拉米雷, 沃尔加斯特 申请人:应用材料有限公司