备有具有热性能的多层涂层的基材的制作方法

专利名称：：备有具有热性能的多层涂层的基材的制作方法备有具有热性能的多层涂层的基材本发明涉及透明基材，特别是由刚性无机材料如玻璃制成的那些，所述基材上涂有薄膜多层涂层，该涂层包含至少一个能作用于太阳辐射和/或长波红外射线的金属型功能层。更具体地说，本发明涉及此种基材用于制造热绝缘和/或防晒保护玻璃单元的应用。此种玻璃单元旨在装备建筑物和机动车，其目的尤其在于减少玻璃配装表面在建筑物和机动车的乘客车厢中日益广泛应用所带来的空调负担和/或緩解温度的过度升高(一种被称作"防晒"玻璃的玻璃)和/或减少散失到外部的能量(被称作"低-E"或"低发射率"玻璃)。一种类型已知能赋予基材此种性能的多层涂层由至少一个金属功能层组成，例如，银层，它被置于由金属氧化物或氮化物类型介电材料构成的2层薄膜之间。该多层涂层通常由以下顺序制取:采用真空技术实施的沉积操作，例如，通过賊射，可能地借助磁场强化的，或^t子溅射。还可设置2个非常薄的薄膜，它们被分別置于银层的两侧——贴底表面的薄膜，起连接、成核和/或保护层的作用以便在沉积后可能的热处理期间起保护作用，以及靠上表面的薄膜作为"牺牲层"或保护层以防止银受到损伤，如果由于在氧气存在下的溅射而在其上表面沉积氧化物层，和/或如果多层涂层在沉积后接受热处理的话。譬如，此类型多层涂层，连同1或2个银基金属功能层，见诸于欧洲专利EP隱0611213,EP-0678484和EP-0638528。目前，对此种低发射率或防晒玻璃提出日益提高的要求，希望基材本身也具有各种固有特性，尤其是美学特性(以便使玻璃能够弯曲)、力学性能(更结实)或安全性能(破裂碎片不伤人)。这要求玻璃基材接受本身公知的热处理，包括弯曲、退火或钢化型的，和/或与层压玻璃生产相联系的各种处理。因此，多层涂层必须符合能保持银层型功能层完整性的要求，尤其是防止其损伤。第一解决方案包括大幅度增加包围功能层的上述薄金属层的厚度:于是，采取措施，以便使易于在高温下从周围大气扩散进来和/或从玻璃基材迁移出来的氧气被这些金属层"俘获"，即，任氧气氧化它们而令其达不到功能层。这些层有时被称作"阻挡层"或"阻断物层"。有关具有介于锡层与镍铬层之间的银层的"可钢化"多层涂层的内容，尤其可参见专利申请EP-A-0506507。可是4艮清楚，热处理前涂布的基材一向被视为"半成品，，而已一其光学特性常常使它无法直接使用。因此，必须平行地研发和制造2种类型多层涂层，一种供非弯曲/非钢化的玻璃，而另一种供打算接受钢化或弯曲处理的玻璃使用，这可能太复杂了，尤其从库存管理和生产的角度。专利EP-0718250建议的改进已克服了这一约束，该文献的公开内容在于设计了一种薄膜多层涂层，一旦基材上涂布多层涂层之后其光学和热性能实际上保持不变，不论是否要经受热处理。这样的结果是通过以下2个特4i的组合达到的一方面，在功能层顶面提供一种层，由能起阻止高温氧扩散的阻挡层作用的材料构成，该材料在高温下不发生将改变其光学性能的化学或结构改变。于是，该材料可以是氮化硅Sl3N4或氮化铝A1N;以及另一方面，功能层可直接接触贴底表面的介电，尤其是氧化锌ZnO,涂层。在1或多个功能层上优选也提供单一阻挡层(或单层阻挡涂层)。该阻挡层主要成分是选自铌Nb、钽Ta、钛Ti、铬Cr或镍Ni的金属，或选自基于这些金属中至少两种的合金，尤其是铌/钽(Nb/Ta)合金、铌/铬(Nb/Cr)合金或钽/铬(Ta/Cr)合金或者镍/铬(Ni/Cr)合金。尽管该解决方案实际的确在热处理后能保持基材外反射光中的TL水平和外观保持相当恒定，但它仍有待改进。另外，对于更好的多层涂层电阻率，就是说更^^电阻率，的追求乃是永恒的目标。功能层的状态一向是许多研究的课题，因为它，显然，是功能层电阻率的主要因素。本发明人已选择开发另一种改进电阻率，即功能层与其紧邻阻挡层之间界面的固有性能的途径。从国际专利申请WO2004/058660得知，现有才支术公开过一种解决方案，按此方案，该罩面阻挡膜是一种NiCr(X单层，且可具有氧化梯度。按照该文献，阻挡层与功能层接触的那部分的氧化程度低于采用特定沉积气氛时该层与功能层最远部分的氧化程度。因此，本发明的目的是克服现有技术的缺陷，从而研发出一种新型多层涂层，它包含1或多个上面描述的那种类型功能层，该多层涂层在保留其光学品质及其机械完整性和具有改进电阻率的同时能经受弯曲、钢化或退火类型的高温热处理。本发明特别涉及针对所在领域的该普遍问题的适宜解决方案，并在于在薄膜多层涂层热性能与光学品质之间研发出一种折中方案。事实上，改进多层涂层的电阻率、红外反射性能和发射率，通常将导致该多层涂层在透光率和反射颜色方面的恶化。因此，本发明的目的，就其最广泛的意义而言，是一种基材，尤其是一种透明玻璃基材，它备有薄膜多层涂层，该涂层包含如下交替层:具有在红外和/或太阳辐射范围的反射性能的n个功能层，尤其是基于银或基于含银金属合金的金属功能层，以及(n+l)层介电薄膜，其中n>l,(显然，n是整数)，所述介电薄膜由1或多个层组成，包括至少一个由介电材料组成的层，使得其中每个功能层被置于至少2层介电薄膜之间，特征在于，至少一个功能层包括一种阻挡薄膜，该阻挡薄膜由直接接触所述功能层的至少一个界面层组成，该界面层基于氧化钛TiOx。因此，本发明在于给具有至少一层的功能层提供阻挡薄膜，该阻挡薄膜位于功能层底下("下阻挡膜")和/或在功能层上面("上阻挡膜")。因此，本发明人考虑到以下事实，即，直接接触功能层的层的氧化态，甚至氧化度，可对该层的电阻率产生重大影响。本发明不仅适用于包含被放置在2层膜之间的单一"功能"层的多层涂层，它也适用于具有多个功能层的多层涂层，尤其是具有2个功能层与3层膜交替排列，或3个功能层与4层膜交替排列，或甚至4个功能层与5层膜交替排列的那些。在具有多个功能层的多层涂层的情况下，至少一个功能层，优选每个功能层备有本发明的下阻挡膜和/或备有上阻挡膜，就是说，阻挡薄膜包含至少2个单独层。在一种特定实施方案中，界面层被部分地氧化。因此，它不是按照MOx型的化学计量形式而是以非化学计量形式，优选地以亚化学计量形式沉积的，其中M代表该材料，x是不同于二氧化钛Ti02的化学计量的数，就是说不同于2，且优选地小于2,特別是介于0.75倍到0.99倍该氧化物的正常化学计量。TiOx具体地说可以是这样的1.5《x《1.98或1.5<x<1.7,甚至1.7《x<1.95。界面层优选地具有小于5nm，优选介于0.52nm的几何厚度，因此，阻挡薄膜优选地具有小于5nm,优选介于0.52nm的几何厚度。然而，该厚度可以大于，特别是2倍于该界面层的厚度，如果在阻挡薄膜中设有另一层的话。本发明背后的此种效应可通过采用透射电子显农i镜(TEM)结合电子能量损失光谱法(EELS)对与功能层和阻挡薄膜接触所进行的局域化学分析来证实。本发明界面层可包括1个(或多个)其他化学元素，选自至少一种下列材料Ti,V，Mn)Co,Cu，Zn，Zr,Hf,AL,Nb，Ni,Cr，Mo,Ta或基于这些材沐+至少之一的合金。另外，本发明阻挡薄膜还包括离功能层比TiOx界面层更远的1个(或多个)其他层，例如，金属层，特别是钛金属Ti层。本发明玻璃至少包括该载有本发明多层涂层的基材，任选地结合至少一种其他基材。每种基材可以是透明或着色的。基材中至少之一尤其可由本体-染色的玻璃构成。着色类型的选择将取决于玻璃一旦完全制成后所要求的透光率和/或色度学外观。因此，就准备装备才几动车的玻璃来i兌，挡风玻璃应遵循的标准失见定透光率11为约75%，按照某些标准;或70%,按照其他标准，而这样的透光程度，对于例如侧窗或天窗来说，则并不要求。可使用的着色玻璃为，例如，这样的:在4mm厚度的情况下，1\介于65%~95%,能量透过率Te介于40%~80%,主透射波长介于470nm~525nm,与发光体Dm之下0.4%~6%的透射纯度相联系，这将，在(L,a^b"色度制中，分别产生-9~0和-8~+2之间的透射&*和bM直。就用于装备建筑物的玻璃而言，它优选地具有至少75%或更高的透光率TL,在"低-E"应用领域的情况下；以及至少40%或更高的透光率TL,这是指就"防晒"用途而言。本发明的玻璃可具有层压结构，尤其是结合了至少2片玻璃型刚性基材与至少一片热塑性聚合物的那种，以便具有如下类型的结构:玻璃/薄膜多层涂层/片材/玻璃。该聚合物尤其可基于聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、乙烯/醋酸乙烯酯(EVA)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚氯乙烯(PVC)。该玻璃还可具有所谓不对称层压玻璃结构，它结合了玻璃型刚性基材与至少一片具有吸能性能的聚氨酯型聚合物，任选地再结合另一层具有"自愈"性能的聚合物。有关此类型玻璃的更详细的描述，尤其可参见专利EP-0132198、EP-O131523和EP-O389354。因此，该玻璃具有如下类型结构:玻璃/薄膜多层涂层/聚合物片材。在层压结构中，承载多层涂层的基材优选与聚合物片材接触。本发明玻璃能接受热处理而不伤及薄膜多层涂层。因此，该玻璃可进行弯曲和/或钢化加工。当由备有多层涂层的单一基材组成时，该玻璃可以进行弯曲和/或钢化加工。此种玻璃于是被称作"整块"玻璃。当它进行弯曲，尤其是为了制成机动车窗时，其薄膜多层涂层优选地位于至少部分地为非平面的那一面上。该玻璃也可以是多玻璃单元，尤其是一种双玻璃的单元，至少载有多层涂层的基材接受过弯曲和/或钢化处理。在多玻璃构型中优选的是，将多层涂层面朝中间充气空间地放置。当玻璃是整块或者是双玻璃或层压玻璃类型的多玻璃形式时，至少载有多层涂层的基材可由弯曲或钢化的玻璃构成，基材既可在沉积上多层涂层之前也可在以后进行弯曲或钢化加工。本发明还涉及制造本发明基材的方法，包括釆用真空阴极溅射技术，任选地磁子溅射型技术，在其基材，特别是由玻璃组成的那些上面沉积薄膜多层涂层。于是，可以对涂布的基材实施弯曲/钢化或退火热处理，而不会降低其光学和/或机械品质。但是，也不排除这样的可能，即:第一层或第一层组可利用另一种技术例如通过热解型热分解技术，实现沉积。界面层优选地利用陶瓷靶在优选地由稀有气体(He、Ne、Xe、Ar、Kr)组成的非氧化性气氛(即，不故意引入氧气)中实施沉积。本发明的细节及优势特征在看过下面由相关附图画出的非限制性实施例之后就明白了。图l描述了一种多层涂层，包括单一功能层，其功能层上涂有本发明的阻挡薄膜；图2描述了一种多层涂层，包括单一功能层，其功能层被沉积在本发明的阻挡薄膜上；图3描述了一种包括单一功能层的多层涂层，该功能层^L沉积在本发明的上阻挡膜上和本发明下阻挡膜的底下；图4描述了以Q/口(homsparcar")为单位的实施例5的多层涂层电阻率随以埃为单位的本发明界面层厚度变化的情况；图5描述了一种包括2个功能层的多层涂层，每个功能层被沉积在本发明下阻挡膜上;以及图6描述了一种包括4个功能层的多层涂层，每个功能层被沉积在本发明下阻挡膜上。附图中的多层涂层的各个层的厚度，为方便阅读，未按比例画出。图1和2描述了包括单一功能层的多层涂层的示意图，其中功能层分别备有上阻挡膜和下阻挡膜。在下面的实施例1~5和11~13中，多层涂层一皮沉积在基材IO上，后者是由透明钠钙玻璃制成的2.1mm厚基材。该多层涂层包括单一银基功能层40。在功能层40下面是由多个重叠的电介质基的层22、(23)、24构成的介电薄膜20，同时在功能层40上面是由多个重叠的电介质基的层62、64构成的介电薄膜60。在实施例1~3和11~13中层22基于SisN4并具有20nm的物理厚度；层24基于ZnO并具有8nm的物理厚度；层62基于ZnO并具有8nm的物理厚度；层64基于Si3N4并具有20nm的物理厚度；层40基于4艮并具有10nm的物理厚度。在各个实施例1~3和11~13中，只有阻挡薄膜的性质和厚度变化。在实施例1和11这些对比例的情况下，相应阻挡薄膜50、30分别包含各自的单一金属层,由既未氧化也未氮化的钛金属构成，该层是在纯氩气气氛中沉积的。在实施例2和12这些本发明实施例的情况下，相应阻挡薄膜50、30包含各自界面层52、32，由氧化物构成，这里，厚lnm的亚化学计量氧化钛层是采用陶瓷阴极在纯氩气气氛中沉积的。在实施例3和13这些本发明实施例的情况下，相应阻挡薄膜50、30包含各自氧化物界面层52、32,这里，厚2nm的亚化学计量氧化钛TlOx层是采用陶瓷阴极在纯氩气气氛中沉积的。在所有这些实施例中，多层涂层的顺序层依次利用磁子阴极溅射进行沉积，但是其他沉积技术可用，只要各个层以充分可控的方式沉积到充分控制的厚度即可。沉积设施包括至少一个溅射室，该溅射室备有阴极，阴极上备有由适当材料构成的輩巴，基材l依次从耙下方通过。每一种层的这些沉积条件如下银基层40采用银靶，在0.8Pa压力的纯氩气气氛中沉积；ZnO基的层24和62通过反应溅射采用锌靶，在0.3Pa压力下和在氩气/氧气气氛中沉积;以及Si3N4基的层22和64通过反应溅射采用铝掺杂的硅耙，在0.8Pa压力的氩气/氮气气氛中沉积。功率密度和基材10的移动速度按照熟知的方式进行调节以便获得要求的层厚。在每一个实施例中,先测定每一种多层涂层热处理前的电阻(BHT),并在该热处理后测定热处理后的电阻(AHT)。每一次施加的热处理包括在620。C加热5mm,然后在环境空气(约25。C)中迅速冷却。电阻测定值的结果被换算为以Q/口(ohmsparcarr6)为单位的电阻率R并一皮表示在下表中。表l:上阻挡膜50<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table>在TiOx界面层的情况下，实施例1的热处理前电阻率数值与实施例2和3的热处理前电阻率数值之间的比较清楚地显示，实施例2和3的电阻率有了明显改进，其数值大大低于实施例1的数值。因此，沉积在银基金属功能层上TlOx层替代钛金属层的存在改进了热处理之前或未经热处理的电阻率。实施例1的热处理后电阻率数值与实施例2和3的热处理后电阻率数值之间的比较也清楚地显示，实施例2和3的情况中电阻率有了改进，其电阻率数值低于从实施例1获得的那些。这些结果证明，在上阻挡膜中，与银基功能金属层相邻的界面处的氧化态具有显著影响。因此，在上阻挡膜的情况下，与银基层毗邻的该界面处于氧化态能改善电阻率，而金属态则不利于电阻率。为确认这一点，我们随后按照与实施例3相同的方式进行了沉积，不同的是，沉积由TiOx构成的界面层52用的气氛做了修改:从非氧化性气氛出发，我们一直过渡到轻微氧化性气氛，其中在150sccm氩气流率之夕卜力口人1sccm氧气《u率。我们观察到，仅凭轻微的氧化态，多层涂层的电阻率依然远高于实施例1工况中的。此种氧化银界面处电阻率降低的基本机理尚未完全搞清。很可能发生了某种化学反应和/或氧扩散。采用电子能量损失光语法(EELS)，从实施例3的对比例获得了一种横贯阻挡薄膜的曲线。该实验表明，在接近功能层时检测到了氧信号。表2:下阻挡膜30/8W7YD/□)R4W丌Q实施例ll84,881.484.5实施例127.75实施例136.74.782.987.3下阻挡膜的情况比上阻挡膜复杂，因为该膜影响到下相邻氧化物层，在本工况中为基于氧化锌的层上的银的异质外延。不同于上阻挡膜，下阻挡膜通常不暴露在含氧等离子体气氛之中。这就是说，当下阻挡膜由未氧化和/或非氮化的钛金属构成时，它将当然在与银基功能层的界面处既不被氧化也不被氮化。在金属阻挡层与金属功能层之间沉积一种氧化物界面，因此是控制下阻挡膜与功能金属层之间界面处氧含量的唯一途径。在TlOx界面层的情况下，实施例11的热处理前电阻率数值与实施例12和13的热处理前电阻率^:值之间的比4支清楚地显示，实施例12和13的电阻率有改进，其电阻率数值远低于实施例11的。因此，替代钛金属层并沉积在银基金属功能层底下的TiOx层的存在将改善热处理前或未处理的电阻率。实施例11的热处理后电阻率数值与实施例12和13的热处理后电阻率数值之间的比较也清楚地显示，实施例12和13的情况中电阻率有了改进，其电阻率数值接近于从实施例ll获得的那些。这些结果还证明与银基功能金属层相邻的下阻挡膜界面处的氧化态具有显著影响。因此，在下阻挡膜的情况下，与银基层相邻的该界面处钛的氧化态也能改善电阻率，而金属态则不利于电阻率。另外，TiOx界面层32的存在能改善透光率，不论热处理前抑或该处理后。最后，针对多层涂层一侧上的反射光测得的色度测定值显示，在实施例13的情况下，LAB色度制中的&*和1>*值依然保持在优选的"调色板"范围内，就是说，其aM直为约0，同时bM直为约-3.5,而在实施例ll的情况下，aM直则为约1.2,同时bM直为约-6.8。对薄膜多层涂层实施的各种测试的机械耐受力结果(Taber(泰伯尔耐磨)试验，Enchsen(埃里克森)刷痕试验等)通常不是非常好，但是这些结果通过在多层涂层上面设置保护层可得到改善。在本发明的实施例4和5中，采用了类似于图l的构型，其中各个层在基材上按如下顺序排列SnCV基的层22;TiCV基的中间层23(在图1中未画出)；ZnO-基的层24;银基功能层40;界面层52,由亚化学计量氧化钛TiOx构成，物理厚度为2nm;ZnO-基的层62;Si3N4-基的层64;保护层，基于锡锌混合氧化物，物理厚度为3nm。在作为本发明实施例的实施例4和5的情况下，相应阻挡薄膜50包含氧化物界面层52,这里2nm厚亚化学计量氧化钛TiOx是采用陶瓷阴极在纯氩气气氛中沉积的。层24、40、52、62和64的沉积仿照前面。SnO2-基的层22是采用金属锡靶在0.3Pa压力下和氩气/氧气气氛中借助反应溅射沉积的;丁102-基的层23是采用金属锡靶在0.3Pa压力下和氩气/氧气气氛中借助反应溅射沉积的。下表3总括了本发明实施例4和5的各层物理厚度的纳米数;表4总括了这些实施例的基本特征。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>另外，实施例5的对比例是通过在惰性(氩气)气氛中沉积与实施例5相同的多层涂层生产的，只是层52不是以2nm厚氧化钛的形式沉积的，而是以0.5nm厚金属钛形式。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>现已发现，采用同样类型多层涂层但使用金属钛阻挡层以替代界面层，正如在对比例5的工况中那样，又在同样厚度范围内改变金属钛阻挡层的厚度，从该范围一端到另一端观察到几个欧姆的变化。下阻挡膜30和上阻挡膜50图3描述了一种本发明的实施方案，它对应于一种包括单一功能层40的多层涂层，其功能层40备有下阻挡膜30和上阻挡膜50。现已发现，一方面，/人实施例2、3得到的，另一方面，/人和12、13得到的多层涂层的效应乃是累加的，因此多层涂层的电阻率得到进一步改善。为改善力学耐受性，给多层涂层覆盖以保护层200,它基于一种混合氧化物，例如，混合锡锌氧化物。还制备了包含几个功能层的实施例。它们给出与上面相同的结论。因此，图5描述了一种实施方案，它具有2个银基功能金属层40、80和3个介电薄膜20、60、IOO,所述薄膜分别由多层，22、24;62、64、66;102、104组成，使得其中让每一个功能层处于至少两层介电薄膜之间银基层40、80采用银靶，在0.8Pa压力下在纯氩气气氛中进行沉积；层24;62、66;102基于ZnO并采用锌靶，在0.3Pa压力下在氩气/氧气气氛中通过反应溅射达到沉积；层22、64和104基于Si3N4，并采用铝掺杂的硅耙，在0.8Pa压力下在氩气/氮气气氛中通过反应賊射完成沉积。该多层涂层被覆盖以保护层200,它基于混合氧化物，例如混合锡《辛氧化物。每个功能层40、80沉积在下阻挡膜30、70上，后二者分别由界面层32、72组成,该界面层由氧化钛TiOx构成并直接接触功能层。图6又展示一种实施方案，这次具有4个银基金属功能层40、80、120、160,以及5层介电薄膜20、60、100、140、180,所述薄膜分别由多层，22、24;62、64、66;102、104、106;142、144、146;182、184构成，使得其中让每一个功能层处于至少2层介电薄膜之间银基层40、80、120、160采用银靶，在0.8Pa压力下在纯氩气气氛中沉积；层24;62、66;102、106;142、146;182基于ZnO并采用锌靶，在0.3Pa压力下在氩气/氧气气氛中通过反应溅射沉积；层22、64、104、144和184基于Si3N4并采用硼掺杂的或铝掺杂的i圭耙，在0.8Pa压力下在氩气/氮气气氛中通过反应溅射沉积。该多层涂层也被覆盖以保护层200,它基于混合氧化物，例如混合锡锌氧化物。每个功能层40、80、120、160沉积在下阻挡膜30、70、110、150上，下阻挡膜分别由界面层32、72、112、152组成,该界面层由氧化钛TiOx构成，直接接触功能层。上面，通过实施例描述了本发明。应当理解，本领域技术人员能想出各种不同本发明的替代实施方案，而不致因此偏离如权利要求所定义的本专利范围。权利要求1.基材(10)，尤其是透明玻璃基材，它备有薄膜多层涂层，该涂层包含如下交替层具有在红外和/或太阳辐射范围的反射性能的n个功能层(40)，尤其是基于银或基于含银金属合金的金属功能层，以及(n+1)层介电薄膜(20、60)，其中n≥1，所述薄膜由1或多个层(22、24、62、64)组成，包括至少一个由介电材料组成的层，使得其中每个功能层(40)被置于至少2层介电薄膜(20、60)之间，特征在于，至少一个功能层(40)包括阻挡薄膜(30、50)，该阻挡薄膜由直接接触所述功能层的至少一个界面层(32、52)组成，所述界面层基于氧化钛TiOx。2.权利要求1的基材(IO),其特征在于，多层涂层包含2个功能层(40、80),它们与3层薄膜(20、60、IOO)交替排列。3.权利要求1或权利要求2的基材(IO)，其特征在于，由TiOx构成的界面层(32、52)是部分氧化的，其中1.5《x《1.98。4.以上权利要求中任何一项的基材(IO),其特征在于，界面层(32、52)的几何厚度小于5nm,优选介于0.52nm。5.以上权利要求中任何一项的基材(IO),其特征在于，界面层(32、52)包括1种(或多种)其他化学元素，选自下列材料至少之一Ti',V,Mn,Co，Cu,Zn，Zr,Hf,At，Nb,Ni，Cr,Mo,Ta,或基于这些才才泮牛至少之一的合金。6.以上权利要求中任何一项的基材(IO),其特征在于，界面层(32、52)采用陶瓷靶，在非氧化性气氛中进行沉积。7.以上权利要求中任何一项的基材(10),其特征在于，阻挡薄膜(30、50)还包括1个(或多个)其他层。8.以上权利要求中任何一项的基材(10),其特征在于，阻挡薄膜(30、50)的几何厚度介于0.5~5nm,甚至介于l10nm，如果它包含至少两层的话。9.包含至少一种以上权利要求中任何一项的基材(10)的玻璃，任选地结合了至少一种其他基材。10.以上权利要求的玻璃，以整块玻璃或双玻璃型的多玻璃或层压玻璃的形式安装，特征在于，至少载有多层涂层的基材由弯曲的或钢化的^皮璃构成。11.制造权利要求1~8中任何一项的基材(10)的方法，其特征在于，薄膜多层涂层借助真空阴极溅射技术，任选是磁子溅射型的，沉积到基材(10)上，且特征在于界面层(32、52)采用陶瓷靶在非氧化性气氛中进行沉积。全文摘要本发明涉及一种基材(10)，例如一种透明玻璃基材，它备有薄层的叠层，后者包含如下交替叠层具有在红外和/或太阳辐射范围的反射性能的n个功能层(40)，尤其是银基金属功能层，以及(n+1)层介电薄膜(20、60)，其中n＝1，所述介电薄膜由1或多个层(22、24、62、64)组成，后者当中至少一个由介电材料组成，其中每个功能层(40)包含阻挡涂层(30、50)，后者由至少一个直接接触功能层并基于氧化钛TiO_x的界面层(32、52)构成。文档编号C03C17/36GK101304956SQ200680041721公开日2008年11月12日申请日期2006年11月8日优先权日2005年11月8日发明者E·佩蒂特让,E·马丁,E·马特曼,J·施奈德,P·鲁特勒申请人:法国圣戈班玻璃厂