专利名称：一种光自洁陶瓷砖的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种建筑材料，特别涉及一种光自洁陶瓷砖。
背景技术：
随着经济的发展，人们对建筑物的内、外装修水平也提高了，楼房墙壁外贴上陶瓷砖显得整洁美观，陶瓷砖作为一种优秀的建筑材料也不再是简单的构建作用和美化作用， 它还可以拥有一些特殊的功能。现有的瓷砖在使用一段时间后表面会蒙上污垢灰尘，一般需要人工定期清洗，才能保持陶瓷砖表面的清洁，这种需要清洗的陶瓷砖维护费用较高，且外墙上一些比较高不容易清洁到的地方，要彻底清洁需要高空作业，人们在清洗陶瓷砖的过程中经常会发生安全事故，安全性极差，另外，人们在清洗陶瓷砖时通常需要使用化学剂，化学剂会对环境造成污染，不够节能、环保。
发明内容针对上述问题，本实用新型提出一种耐污垢灰尘、耐磨损、节能环保，可自行清洁的光自洁陶瓷砖。为解决此技术问题，本实用新型采取以下方案一种光自洁陶瓷砖，包括陶瓷基体，还包括釉面层及金属氧化薄膜层，所述釉面层设于陶瓷基体上方，所述金属氧化薄膜层设于釉面层上方。进一步所述釉面层由底釉层及设于底釉层上方的生料釉层组成。通过采用前述技术方案，本实用新型的有益效果是本实用新型光自洁陶瓷砖，在陶瓷基体上方设有釉面层，所述釉面层上方设有金属氧化薄膜层，金属氧化薄膜层在光的照射下可以分解陶瓷砖表面各种有机化合物和部分无机化合物，从而达到自洁的功能，而且无须利用化学剂进行人工清洗，既节省了人力物力又符合环保要求。
图1是本实用新型实施例结构示意图。
具体实施方式
现结合附图和具体实施例对本实用新型进一步说明。参考图1，一种光自洁陶瓷砖，包括陶瓷基体1，还包括釉面层及金属氧化薄膜层 3，所述釉面层设于陶瓷基体1上方，所述金属氧化薄膜层3设于釉面层上方，所述釉面层由底釉层21及设于底釉层21上方的生料釉层22组成，所述金属氧化薄膜层为金属钛氧化薄膜层，金属钛氧化薄膜层在光的照射，具有超亲水性和超亲油性，令附着在金属氧化薄膜层表面的水分变成超亲水性水膜，使污迹不易附着，金属钛氧化薄膜层在光的照射下可以分解陶瓷砖表面各种有机化合物和部分无机化合物，从而使陶瓷砖达到自我清洁的效果，另外，本新型光自洁陶瓷砖无须利用化学剂进行人工清洗，既节省了人力物力又符合环保要求。 以上所记载，仅为利用本创作技术内容的实施例，任何熟悉本项技艺者运用本创作所做的修饰、变化，皆属本创作主张的专利范围，而不限于实施例所揭示者。
权利要求1.一种光自洁陶瓷砖，包括陶瓷基体，其特征在于还包括釉面层及金属氧化薄膜层， 所述釉面层设于陶瓷基体上方，所述金属氧化薄膜层设于釉面层上方。
2.根据权利要求1所述的光自洁陶瓷砖，其特征在于所述釉面层由底釉层及设于底釉层上方的生料釉层组成。
专利摘要本实用新型涉及建筑材料，提供一种耐污垢灰尘、耐磨损、节能环保，可自行清洁的光自洁陶瓷砖，包括陶瓷基体，还包括釉面层及金属氧化薄膜层，所述釉面层设于陶瓷基体上方、所述金属氧化薄膜层设于釉面层上方。
文档编号E04F13/075GK202194331SQ20112024141
公开日2012年4月18日 申请日期2011年7月8日 优先权日2011年7月8日
发明者黄家洞 申请人:晋江恒达陶瓷有限公司