专利名称：玻璃磁控多弧离子镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及玻璃加工技术领域，尤其是涉及到玻璃镀膜机。
背景技术：
玻璃镀膜是在玻璃的表面镀上ー层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，改变玻璃的光学性能，以满足某种特定要求的生产エ艺。磁控溅射镀膜是在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，使其原子获得足够的能量而溅出进入气相，然后在エ件表面沉积成膜。多弧离子镀膜是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极之间的弧光放电，使靶材蒸发，从而在空间中形成等离子体，对エ件进行沉积成膜。目前，传统的玻璃离子镀膜机无论是筒体式或卧式，都只是单腔室，毎次镀膜完毕，都要对镀膜室进行抽真空处理，生产效率低。而且镀膜室内大都是设置ー种镀膜源，镀膜的选材比较单一，难以适应多层复合镀膜玻璃的エ艺要求。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是提供ー种生产效率高，可复合多层镀膜的玻璃镀膜机。本实用新型所要解决的技术问题是通过以下的技术方案来实现ー种玻璃磁控多弧离子镀膜机，包括真空镀膜室，其特征在干所述真空镀膜室的前后两端分别连接有真空入料加热室以及真空出料室，所述真空入料加热室和真空出料室分别通过真空锁与真空镀膜室连通和隔离，所述真空镀膜室、真空入料加热室以及真空出料室的室腔内底部均设有传动机构，其中所述真空镀膜室的传动机构设成往复传动，所述真空镀膜室的室腔内顶部设有若干电弧蒸发离化源和若干磁控溅射源。采用本实用新型所帯来的有益效果由于本实用新型在真空镀膜室的前后两端设有分别设有真空入料加热室以及真空出料室，通过真空入料加热室和真空出料室完成玻璃入料和出料的真空过渡。真空镀膜室完成一次抽真空后，就可以连续地分批对玻璃进行镀膜处理，在真空镀膜室进行镀膜的过程中，可同时对真空入料加热室和真空出料室在入料后和出料后进行抽真空处理，实现玻璃镀膜的连续作业，提高效率，适合大批量镀膜玻璃的生产。并且真空镀膜室同时设有电弧蒸发离化源和磁控溅射源，可同时对玻璃进行多层镀膜的复合，以适应不同镀膜玻璃的エ艺要求。
图I为本实用新型玻璃磁控多弧离子镀膜机的结构示意图。
具体实施方式
如图I所示，ー种玻璃磁控多弧离子镀膜机，包括真空镀膜室I，所述真空镀膜室I的前后两端分别连接有真空入料加热室2以及真空出料室3，所述真空入料加热室2和真空出料室3分别通过真空锁4、5与真空镀膜室I连通和隔离，所述真空镀膜室I、真空入料加热室2以及真空出料室3的室腔内底部均设有传动机构6，其中所述真空镀膜室I的传动机构6设成往复传动，所述真空镀膜室I的室腔内顶部设有若干电弧蒸发离化源7和若干磁控溅射源8。工作流程首先将要镀膜的玻璃放入到专用耐高温传送托盘9，由传送机构6把托盘9送入到真空入料加热室2中，对玻璃进行加热保温，然后打开真空锁4，把装有玻璃的托盘9传送到真空镀膜室I中，在关闭真空锁4。利用真空镀膜室I的传送机构6的往程和返程先后进行磁控溅射镀膜和多弧离子镀膜，每种镀膜的时间和次数按エ艺要求设定。完成镀膜后，打开真空锁5，把装有玻璃的托盘8传送到真空出料室3，然后关闭真空锁5，卸下已镀膜玻璃。真空镀膜室I在完成一次抽真空后，就可以连续进行镀膜作业，在工作过程中，只 需对真空入料加热室2和真空出料室3在入料后和出料后进行抽真空处理，可实现玻璃镀膜的连续作业。
权利要求1.ー种玻璃磁控多弧离子镀膜机，包括真空镀膜室，其特征在于所述真空镀膜室的前后两端分别连接有真空入料加热室以及真空出料室，所述真空入料加热室和真空出料室分别通过真空锁与真空镀膜室连通和隔离，所述真空镀膜室、真空入料加热室以及真空出料室的室腔内底部均设有传动机构，其中所述真空镀膜室的传动机构设成往复传动，所述真空镀膜室的室腔内顶部设有若干电弧蒸发离化源和若干磁控溅射源。
专利摘要本实用新型公开一种玻璃磁控多弧离子镀膜机，真空镀膜室的前后两端分别连接有真空入料加热室以及真空出料室，入料加热室和出料室分别通过真空锁与镀膜室连通和隔离，镀膜室、入料加热室以及出料室的室腔内底部均设有传动机构，其中镀膜室的传动机构设成往复传动，镀膜室的室腔内顶部设有若干电弧蒸发离化源和若干磁控溅射源。本实用新型通过入料加热室和出料室完成玻璃入料和出料的真空过渡。镀膜室完成一次抽真空后，就可以连续地分批对玻璃进行镀膜处理，实现玻璃镀膜的连续作业。并且镀膜室同时设有电弧蒸发离化源和磁控溅射源，可同时对玻璃进行多层镀膜的复合，以适应不同镀膜玻璃的工艺要求。
文档编号C03C17/00GK202482421SQ201220044869
公开日2012年10月10日 申请日期2012年2月11日 优先权日2012年2月11日
发明者伍振良 申请人:伍振良