磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备的制造方法

文档序号:10607902阅读:457来源:国知局
磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备的制造方法
【专利摘要】本发明提供一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备,其中,所述磁场移动调节装置包括:法兰座、驱动螺杆、调节手轮、导向轴、直线轴承以及安装板;所述法兰座为至少两个,所述驱动螺杆一端安装有法兰座,所述调节手轮螺接于所述驱动螺杆上,且所述调节手轮枢转安装于所述安装板上,所述导向轴与所述驱动螺杆间隔且平行设置,所述导向轴一端安装有法兰座,所述导向轴通过直线轴承滑动地安装于所述安装板上。本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置可实现磁场的移动调节,从而改变靶材表面的磁力,使得后期被溅射的面积得到提高,向下烧蚀的速度变慢,溅射工作时间变长,进而可将靶材的利用率提高到39%~45%。
【专利说明】
磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备
技术领域
[0001]本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备。
【背景技术】
[0002]在真空镀膜设备或太阳能行业设备中,制备薄膜普遍使用的磁控溅射装置。目前,磁控溅射装置中,较常用磁场固定的结构,如此导致靶材表面磁力固定不能调节。尤其在工作一定时间后,靶材表面被溅射的面积越来越小,而向下烧蚀的速度更快,使得溅射工作时间变短,导致贵重的靶材利用率极低下,大约为20%?30%左右。
[0003]因此,针对上述问题,有必要提出进一步的解决方案。

【发明内容】

[0004]本发明的目的在于提供一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置,以克服现有技术中存在的不足。
[0005]为实现上述发明目的,本发明提供一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置,其特征在于,所述磁场移动调节装置包括:法兰座、驱动螺杆、调节手轮、导向轴、直线轴承以及安装板;
[0006]所述法兰座为至少两个,所述驱动螺杆一端安装有法兰座,所述调节手轮螺接于所述驱动螺杆上,且所述调节手轮枢转安装于所述安装板上,所述导向轴与所述驱动螺杆间隔且平行设置,所述导向轴一端安装有法兰座,所述导向轴通过直线轴承滑动地安装于所述安装板上。
[0007]作为本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置的改进,所述驱动螺杆的端部具有尺寸刻度。
[0008]作为本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置的改进,所述导向轴的数量为两个,两个导向轴对称分布于所述驱动螺杆的两侧,两个导向轴的端部分别安装有法兰座。
[0009]作为本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置的改进,所述法兰座为绝缘法兰座。
[0010]为实现上述发明目的,本发明还提供一种真空镀膜设备,其包括:水冷座、安装底座、磁铁、导磁体以及如上所述的磁场移动调节装置;
[0011]所述磁场移动调节装置通过安装底座固定安装于所述水冷座上,所述磁铁和导磁体相互连接形成一整体,所述磁场移动调节装置通过所述法兰座与所述磁铁和导磁体形成的整体固定连接。
[0012]作为本发明的真空镀膜设备的改进,所述安装底座与所述磁场移动调节装置之间还设置有绝缘板。
[0013]作为本发明的真空镀膜设备的改进,所述磁铁为若干个,若干个磁铁并排设置,且并排设置的若干个磁铁位于所述导磁体之间。
[0014]作为本发明的真空镀膜设备的改进,所述磁场移动调节装置通过所述法兰座与所述导磁体进行固定连接。
[0015]作为本发明的真空镀膜设备的改进,所述真空镀膜设备还包括电源,所述电源与所述导磁体电性连接。
[0016]与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置可实现磁场的移动调节,从而改变靶材表面的磁力,使得后期被溅射的面积得到提高,向下烧蚀的速度变慢,溅射工作时间变长,进而可将靶材的利用率提高到39%?45%。
【附图说明】
[0017]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为本发明的真空镀膜设备一【具体实施方式】的平面示意图,其中,磁铁和导磁体形成的整体与靶材之间的距离最小;
[0019]图2为本发明的真空镀膜设备一【具体实施方式】的平面示意图,其中,磁铁和导磁体形成的整体与靶材之间的距离最大。
【具体实施方式】
[0020]下面结合附图所示的各实施方式对本发明进行详细说明,但应当说明的是,这些实施方式并非对本发明的限制,本领域普通技术人员根据这些实施方式所作的功能、方法、或者结构上的等效变换或替代,均属于本发明的保护范围之内。
[0021]如图1所示,本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置包括:法兰座10、驱动螺杆20、调节手轮30、导向轴40、直线轴承50以及安装板60。
[0022]所述法兰座10为至少两个,优选地,所述法兰座10为绝缘法兰座,如此,在调节磁铁位置时,不会对人体产生伤害。
[0023]所述驱动螺杆20—端安装有法兰座10,所述调节手轮30螺接于所述驱动螺杆20上,且所述调节手轮30枢转安装于所述安装板60上。由于所述安装边60位置保持固定,从而,当旋转调节手轮30时,调节手轮30可使得驱动螺杆20在轴向方向上相对调节手轮30和安装板60进行移动,进而带动其端部的法兰座10进行移动。
[0024]此外,为了便于观测驱动螺杆20移动的距离,所述驱动螺杆20的端部具有尺寸刻度。以调节手轮为参照,读取时,首先记录好尺寸刻度的初始读数,旋转调节手轮30后,然后读取移动后的读数,二者之差为驱动螺杆20移动的距离。
[0025]所述导向轴40在驱动螺杆20移动时起到导向的作用。具体地,所述导向轴40与所述驱动螺杆20间隔且平行设置,所述导向轴40—端安装有法兰座10,所述导向轴40通过直线轴承50滑动地安装于所述安装板60上。从而,由于驱动螺杆20的法兰座和导向轴40的法兰座具有相同的安装面,从而,当驱动螺杆20移动时,导向轴40可与驱动螺杆20做同步运动。其中,所述直线轴承50具有极低的摩擦系数,以方便导向杆40的运动。
[0026]作为一种实施方式,所述导向轴40的数量为两个,两个导向轴40对称分布于所述驱动螺杆20的两侧,其中,两个导向轴40的端部分别安装有法兰座10。
[0027]基于如上所述的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置,本发明还提供一种真空镀膜设备。
[0028]如图1-2所示,具体地,所述真空镀膜设备包括:水冷座210、安装底座220、磁铁230、导磁体240以及如上所述的磁场移动调节装置。
[0029]其中,所述磁场移动调节装置通过安装底座220固定安装于所述水冷座210的一面上,进行溅射的靶材200位于水冷座210的另一面上。所述磁铁230和导磁体240相互连接形成一整体,所述磁场移动调节装置通过所述法兰座10与所述磁铁230和导磁体240形成的整体固定连接。从而,水冷座210与安装板60之间的空间形成磁铁230和导磁体240形成的整体的移动调节空间。
[0030]进一步地,磁铁230和导磁体240形成的整体中,所述磁铁230为若干个,若干个磁铁230并排设置,且并排设置的若干个磁铁230位于所述导磁体240之间。优选地,所述磁场移动调节装置通过所述法兰座10与所述导磁体240进行固定连接。
[0031]从而,通过旋转调节手轮30,由于驱动螺杆20通过法兰座10与磁铁230和导磁体240形成的整体相连接,驱动螺杆20可带动磁铁230和导磁体240形成的整体发生移动,使其靠近或远离所述靶材,从而实现磁场的移动调节,改变靶材表面的磁力。
[0032]此外,所述安装底座220与所述磁场移动调节装置之间还设置有绝缘板250。所述真空镀膜设备还包括电源260,所述电源260与所述导磁体240电性连接。
[0033]本发明的磁场移动调节装置安装时,先将导磁体和磁铁连成一个整体,方便整体移动。然后,将磁场移动调节装置的法兰底座与导磁体和磁铁连成的整体进行固定连接,实现磁场移动调节装置与真空镀膜设备的组装。
[0034]综上所述,本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置可实现磁场的移动调节,从而改变靶材表面的磁力,使得后期被溅射的面积得到提高,向下烧蚀的速度变慢,溅射工作时间变长,进而可将靶材的利用率提高到39%?45%。
[0035]对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0036]此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【主权项】
1.一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置,其特征在于,所述磁场移动调节装置包括:法兰座、驱动螺杆、调节手轮、导向轴、直线轴承以及安装板; 所述法兰座为至少两个,所述驱动螺杆一端安装有法兰座,所述调节手轮螺接于所述驱动螺杆上,且所述调节手轮枢转安装于所述安装板上,所述导向轴与所述驱动螺杆间隔且平行设置,所述导向轴一端安装有法兰座,所述导向轴通过直线轴承滑动地安装于所述安装板上。2.根据权利要求1所述的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置,其特征在于,所述驱动螺杆的端部具有尺寸刻度。3.根据权利要求1所述的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置,其特征在于,所述导向轴的数量为两个,两个导向轴对称分布于所述驱动螺杆的两侧,两个导向轴的端部分别安装有法兰座。4.根据权利要求1所述的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置,其特征在于,所述法兰座为绝缘法兰座。5.—种真空镀膜设备,其特征在于,所述真空镀膜设备包括:水冷座、安装底座、磁铁、导磁体以及如权利要求1?4任一项所述的磁场移动调节装置; 所述磁场移动调节装置通过安装底座固定安装于所述水冷座上,所述磁铁和导磁体相互连接形成一整体,所述磁场移动调节装置通过所述法兰座与所述磁铁和导磁体形成的整体固定连接。6.根据权利要求5所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述安装底座与所述磁场移动调节装置之间还设置有绝缘板。7.根据权利要求5所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述磁铁为若干个,若干个磁铁并排设置,且并排设置的若干个磁铁位于所述导磁体之间。8.根据权利要求5所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述磁场移动调节装置通过所述法兰座与所述导磁体进行固定连接。9.根据权利要求5所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述真空镀膜设备还包括电源,所述电源与所述导磁体电性连接。
【文档编号】C23C14/35GK105970178SQ201610589607
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年7月25日
【发明人】陈轶
【申请人】昆山迅立光电设备有限公司
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