一种快速的真空磁控溅射镀膜设备及其加工方法
【专利摘要】本发明公开了一种快速的真空磁控溅射镀膜设备，包括上件架、前清洗机、覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，所述上件架和前清洗机连接，所述覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架依次连接；还包括两套真空镀膜机构、第一平移拐弯架和第二平移拐弯架，两套所述真空镀膜机构平行设置，且两套所述真空镀膜机构的一端均通过第一平移拐弯架与前清洗机连接，两套所述真空镀膜机构的另一端均通过第二平移拐弯架与覆膜段连接。本发明公开了一种快速的真空磁控溅射镀膜设备的加工方法。本发明在一段时间内可同时对两个工件快速镀膜处理，这提高了生产效率，还提高了设备的紧凑性以减少占用厂房的使用空间，降低了生产成本，提高镀膜反射率。
【专利说明】
一种快速的真空磁控溅射镀膜设备及其加工方法
技术领域
[0001]本发明涉及镀膜设备技术，具体来说是一种快速的真空磁控溅射镀膜设备及其加工方法。
【背景技术】
[0002]真空磁控溅射镀膜设备广泛应用在玻璃镀镜、灯具的聚光灯杯、汽车后视镜汽车的车灯反光灯罩等领域。如图1所示，传统的真空磁控溅射镀膜设备主要由上件架1、前清洗机2、进件架3、进件粗抽室4、进件预抽室5、进件过渡室6、进件缓冲室7、真空镀膜室8、出件缓冲室9、出件过渡室10、出件预抽室11、出件粗抽室12、出件架13、覆膜段14、烘烤箱15、风干段16、后清洗机17和下件架18构成。这传统的真空磁控溅射镀膜设备还存在以下技术缺陷:
[0003](I)传统真空磁控制溅射镀膜设备中各个部件为一直线分布，每次加工时只能针对一件工件进行单独加工，这生产效率不高。
[0004](2)传统真空磁控溅射镀膜设备的真空镀膜段共有九个真空室，且各个部件直线分布，对于厂房不够大的客户就不能用，这增加了生产成本。
[0005](3)传统真空磁控溅射镀膜设备的真空镀膜段共要用七套抽真空的机组，即进件粗抽室机组、出件粗抽室机组、进件预抽室机组、出件预抽室机组、进件过渡室机组、出件过渡室机组及进件缓冲室、真空镀膜室和出件缓冲室共用的机组，设备结构复杂，操控繁琐，功率消耗大，生产成本高。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于克服以上现有技术存在的不足，提供了一种结构紧凑、加工效果好及可提高生产效率的快速的真空磁控溅射镀膜设备。同时，本发明还提供了一种快速磁镀膜设备的加工方法。
[0007]为了达到上述目的，本发明采用以下技术方案:一种快速的真空磁控溅射镀膜设备，包括上件架、前清洗机、覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，所述上件架和前清洗机连接，所述覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架依次连接;还包括两套真空镀膜机构、第一平移拐弯架和第二平移拐弯架，两套所述真空镀膜机构平行设置，且两套所述真空镀膜机构的一端均通过第一平移拐弯架与前清洗机连接，两套所述真空镀膜机构的另一端均通过第二平移拐弯架与覆膜段连接。
[0008]优选的，两套真空镀膜机构分别为第一真空镀膜机构和第二真空镀膜机构；
[0009]所述第一真空镀膜机构包括依次连接的第一进件过渡架、第一进件抽气真空室、第一镀膜真空室、第一出件抽气真空室和第一出件过渡架，所述第一进件过渡架通过第一平移拐弯架与前清洗机连接，所述第一出件过渡架通过第二平移拐弯架与覆膜段连接；
[0010]所述第二真空镀膜机构包括依次连接的第二进件过渡架、第二进件抽气真空室、第二镀膜真空室、第二出件抽气真空室和第二出件过渡架，所述第二进件过渡架通过第一平移拐弯架与前清洗机连接，所述第二出件过渡架通过第二平移拐弯架与覆膜段连接。
[0011]优选的，所述第一真空镀膜机构还包括四套真空气锁，此四套真空气锁分别位于第一进件过渡架和第一进件抽气真空室之间、第一进件抽气真空室和第一镀膜真空室之间、第一镀膜真空室和第一出件抽气真空室之间及第一出件抽气真空室和第一出件过渡架之间；
[0012]所述第二真空镀膜机构还包括四套真空气锁，此四套真空气锁分别位于第二进件过渡架和第二进件抽气真空室之间、第二进件抽气真空室和第二镀膜真空室之间、第二镀膜真空室和第二出件抽气真空室之间及第二出件抽气真空室和第二出件过渡架之间。
[0013]优选的，所述第一平移拐弯架包括第一纵向输送组件、第一横向输送组件、第一连接架、第一气缸、第二气缸、第二横向输送组件、第二纵向输送组件、第一底架和第二底架，所述第一纵向输送组件、第一横向输送组件和第一气缸均安装于第一底架，且所述第一气缸的伸缩杆与第一横向输送组件连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第一气缸的伸缩杆伸出顶起第一横向输送组件，令第一横向输送组件的输送面高于第一纵向输送组件的输送面；
[0014]所述第二纵向输送组件、第二横向输送组件和第二气缸均安装于第二底架，且所述第二气缸的伸缩杆与第二横向输送组件连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第二气缸的伸缩杆伸出顶起第二横向输送组件，令第二横向输送组件的输送面高于第二纵向输送组件的输送面；
[0015]所述第一横向输送组件通过第一连接架与第二横向输送组件连接;所述第一真空镀膜机构通过第一纵向输送组件与前清洗机连接;所述第二真空镀膜机构、第二横向输送组件、第一连接架和第一横向输送组件依次连接。
[0016]优选的，所述第一纵向输送组件包括第一固定框和多条第一纵向输送转轴，多条所述第一纵向输送转轴均匀安装于第一固定框，所述第一固定框安装于第一底架；
[0017]所述第一横向输送组件包括第一升降框和多条第一横向输送转轴；多条所述第一横向输送转轴均匀安装于第一升降框，且所述第一横向输送转轴与第一纵向输送转轴空间垂直;所述第一升降框与第一气缸的伸缩杆连接；
[0018]所述第二纵向输送组件包括第二固定框和多条第二纵向输送转轴，多条所述第二纵向输送转轴均匀安装于第二固定框，所述第二固定框安装于第二底架；
[0019]所述第二横向输送组件包括第二升降框和多条第二横向输送转轴；多条所述第二横向输送转轴均匀安装于第二升降框，且所述第二横向输送转轴与第二纵向输送转轴空间垂直;所述第二升降框与第二气缸的伸缩杆连接；
[0020]所述第一连接架包括第一连接框和多条第一连接输送转轴，多条所述第一连接输送转轴均匀安装于第一连接框;所述第一连接输送转轴与第一横向输送转轴平行。
[0021]优选的，所述第二平移拐弯架包括第三纵向输送组件、第三横向输送组件、第二连接架、第三气缸、第四气缸、第四横向输送组件、第四纵向输送组件、第三底架和第四底架，所述第三纵向输送组件、第三横向输送组件和第三气缸均安装于第三底架，且所述第三气缸的伸缩杆与第三横向输送组件连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第三气缸的伸缩杆伸出顶起第三横向输送组件，令第三横向输送组件的输送面高于第三纵向输送组件的输送面；
[0022]所述第四纵向输送组件、第四横向输送组件和第四气缸均安装于第四底架，且所述第四气缸的伸缩杆与第四横向输送组件连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第四气缸的伸缩杆伸出顶起第四横向输送组件，令第四横向输送组件的输送面高于第四纵向输送组件的输送面；
[0023]所述第三横向输送组件通过第二连接架与第四横向输送组件连接;所述第一真空镀膜机构通过第四纵向输送组件与覆膜段连接;所述第二真空镀膜机构、第三横向输送组件、第二连接架和第四横向输送组件依次连接。
[0024]优选的，所述第三纵向输送组件包括第三固定框和多条第三纵向输送转轴，多条所述第三纵向输送转轴均匀安装于第三固定框，所述第三固定框安装于第三底架；
[0025]所述第三横向输送组件包括第三升降框和多条第三横向输送转轴；多条所述第三横向输送转轴均匀安装于第三升降框，且所述第三横向输送转轴与第三纵向输送转轴空间垂直;所述第三升降框与第三气缸的伸缩杆连接；
[0026]所述第四纵向输送组件包括第四固定框和多条第四纵向输送转轴，多条所述第四纵向输送转轴均匀安装于第四固定框，所述第四固定框安装于第四底架；
[0027]所述第四横向输送组件包括第四升降框和多条第四横向输送转轴；多条所述第四横向输送转轴均匀安装于第四升降框，且所述第四横向输送转轴与第四纵向输送转轴空间垂直;所述第四升降框与第四气缸的伸缩杆连接；
[0028]所述第二连接架包括第二连接框和多条第二连接输送转轴，多条所述第二连接输送转轴均匀安装于第二连接框;所述第二连接输送转轴与第三横向输送转轴平行。
[0029]优选的，所述第一镀膜真空室和第二镀膜真空室均具有镀膜腔室，所述第一镀膜真空室和和第二镀膜真空室的镀膜腔室均连接有一套快速抽气机组，每套快速抽气机组包括两个高真空分子栗、增压栗、粗抽栗、精抽阀和连接管，两个高真空分子栗均通过精抽阀与一个镀膜腔室连接，两个高真空分子栗均通过连接管与增压栗连接，所述增压栗与粗抽栗连接。
[0030]—种基于上述的快速的真空磁控溅射镀膜设备的加工方法，其特征在于，包括以下步骤:
[0031 ] (I)首个工件由上件架送入前清洗机后，进入第一平移拐弯架，此第一平移拐弯架中的第一纵向输送组件工作，将首个工件第一纵向输送组件输送至第一真空镀膜机构，以对首个工件进行镀膜加工处理；
[0032]当首个工件进入第一真空镀膜机构时，第二个由上件架送入前清洗机后，进入第一平移拐弯架，此时，第一气缸的伸缩杆伸出顶起第一横向输送组件，则第二工件由第一横向输送组件移动到第一连接架上再进移动至第二纵向输送组件，则第二气缸的伸缩杆顶起第二横向输送组件，令第二横向输送组件的输送面高于第二纵向输送组件的输送面，则第二个工件被第二横向输送组件输送至第二真空镀膜机构，以对第二个工件进行镀膜加工处理；
[0033](2)当首个工件自第一真空镀膜机构出来后进入第二平移拐弯架，此第二平移拐弯架中的第四纵向输送组件工作，将首个工件被第四纵向输送组件输送覆膜段后，再依次经过烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，以完成加工；
[0034]而第二个工件自第二真空镀膜机构出来后，再依次通过第三横向输送组件、第二连接架和第四横向输送组件输送到第四纵向输送组件上，则第二个工件被第四纵向输送组件输送覆膜段后，再依次经过烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，以完成加工；
[0035](3)由此后续的工件被第一平移拐弯架交替送至第一真空镀膜机构和第二真空镀膜机构后，再通过第二平移拐弯架交替送至覆膜段，最后依次经过烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，以完成加工。
[0036]优选的，
[0037]当工件进入第一真空镀膜室的过程中，工件的行进速度为40m/min，而第一镀膜真空室内的真空镀为5 X 10E—3?9 X 10E—2，同时采用10kw的直流电源为第一镀膜真室内的磁控靶提供600?800V的电压，从而对工件进行快速镀膜处理；
[0038]当工件进入第二真空镀膜室的过程中，工件的行进速度为40m/min，而第二镀膜真空室内的真空镀为5 X 10E—3?9 X 10E—2，同时采用10kw的直流电源为第二镀膜真室内的磁控靶提供600?800V的电压，从而对工件进行快速镀膜处理。
[0039]本发明相对于现有技术，具有如下的优点及效果:
[0040]1、本发明采用了两套平行设置的真空镀膜机构、第一平移拐弯架和第二平移拐弯架，从而在一段时间内可同时对两个工件进行镀膜处理，这提高了生产效率。
[0041]2、本发明中的每套真空镀膜机构仅使用三个真空室(即进件抽气真空室、镀膜真空室、出件抽气真空室)，这提高了设备的紧凑性，可减少占用厂房的使用空间，降低了生产成本。
[0042]3、本发明中的工件进入第一镀膜真空室或第二镀膜真空室时，工件会处于5 X 1e—2的真空镀及800伏的电压的工作环境，这提高了镀膜效果，使工件表面与所镀膜层更紧密地结合，提高了膜层的牢固度，使膜层不容易氧化
【附图说明】
[0043]图1是传统真空磁控溅射镀膜设备的整体结构示意图。
[0044]图2是本发明快速的真空磁控溅射镀膜设备的结构示意图。
[0045]图3是本发明第一平移拐弯架的俯视图。
[0046]图4是本发明第二平移拐弯架的侧视图。
[0047]图5是本发明快速抽气机组的正视图。
[0048]图6是本发明快速抽气机组的俯视图。
【具体实施方式】
[0049]为便于本领域技术人员理解，下面结合附图及实施例对本发明作进一步的详细说明。
[0050]如图2所示，本快速的真空磁控溅射镀膜设备，包括上件架1、前清洗机2、覆膜段14、烘烤箱15、风干段16、后清洗机17和下件架18，所述上件架I和前清洗机2连接，所述覆膜段14、烘烤箱15、风干段16、后清洗机17和下件架18依次连接;还包括两套真空镀膜机构19、第一平移拐弯架20和第二平移拐弯架21，两套所述真空镀膜机构19平行设置，且两套所述真空镀膜机构19的一端均通过第一平移拐弯架20与前清洗机2连接，两套所述真空镀膜机构19的另一端均通过第二平移拐弯架20与覆膜段14连接。
[0051]两套真空镀膜机构19分别为第一真空镀膜机构22和第二真空镀膜机构23;所述第一真空镀膜机构22包括依次连接的第一进件过渡架24、第一进件抽气真空室25、第一镀膜真空室26、第一出件抽气真空室27和第一出件过渡架28，所述第一进件过渡架24通过其中第一平移拐弯架20与前清洗机2连接，所述第一出件过渡架24通过第二平移拐弯架21与覆膜段14连接;所述第二真空镀膜机构23包括依次连接的第二进件过渡架29、第二进件抽气真空室30、第二镀膜真空室31、第二出件抽气真空室32和第二出件过渡架33，所述第二进件过渡架29通过第一平移拐弯架20与前清洗机2连接，所述第二出件过渡架33通过第二平移拐弯架21与覆膜段14连接。
[0052]所述第一真空镀膜机构22还包括四套真空气锁，此四套真空气锁分别位于第一进件过渡架24和第一进件抽气真空室25之间、第一进件抽气真空室25和第一镀膜真空室26之间、第一镀膜真空室26和第一出件抽气真空室27之间及第一出件抽气真空室27和第一出件过渡架28之间；
[0053]所述第二真空镀膜机构23还包括四套真空气锁，此四套真空气锁分别位于第二进件过渡架29和第二进件抽气真空室30之间、第二进件抽气真空室30和第二镀膜真空室31之间、第二镀膜真空室31和第二出件抽气真空室32之间及第二出件抽气真空室32和第二出件过渡架33之间。这每个真空镀膜机构(即第一真空镀膜和第二真空镀膜机构)均具有三个真空室(进件抽气真空室、镀膜室和出件抽气真空室)和四套真空气锁，这减小了整个设备的长度，且可快速镀膜，提高了生产效率。具体的，真空气锁可采用现使用的真空气锁，其主要由气缸、齿条、齿轮、转轴、转臂和锁板构成，所述气缸的伸缩杆与齿条连接，所述齿轮与齿条啮合，且所述齿轮通过转轴与转臂连接，所述转臂与锁板连接。这保证了各个真空室的密封度，保证工作的可靠性。
[0054]如图3和图4所示，所述第一平移拐弯架20包括第一纵向输送组件34、第一横向输送组件35、第一连接架36、第一气缸37、第二气缸38、第二横向输送组件39、第二纵向输送组件40、第一底架41和第二底架42，所述第一纵向输送组件34、第一横向输送组件35和第一气缸37均安装于第一底架41，且所述第一气缸37的伸缩杆与第一横向输送组件35连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第一气缸37的伸缩杆伸出顶起第一横向输送组件35，令第一横向输送组件35的输送面高于第一纵向输送组件34的输送面;所述第二纵向输送组件40、第二横向输送组件39和第二气缸38均安装于第二底架42，且所述第二气缸38的伸缩杆与第二横向输送组件39连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第二气缸38的伸缩杆伸出顶起第二横向输送组件39，令第二横向输送组件39的输送面高于第二纵向输送组件40的输送面;所述第一横向输送组件34通过第一连接架36与第二横向输送组件39连接;所述第一真空镀膜机构22通过第一纵向输送组件34与前清洗机2连接;所述第二真空镀膜机构23、第二横向输送组件39、第一连接架36和第一横向输送组件34依次连接。具体的，第一气缸37和第二气缸38的数量均为两个，这保证第一升降框和第二升降框的稳定性。此结构第一平移拐弯架的工作可靠性高，且稳定性好。
[0055]所述第一纵向输送组件34包括第一固定框43和多条第一纵向输送转轴44，多条所述第一纵向输送转轴44均勾安装于第一固定框43，所述第一固定框43安装于第一底架41 ；所述第一横向输送组件35包括第一升降框45和多条第一横向输送转轴46;多条所述第一横向输送转轴46均勾安装于第一升降框48，且所述第一横向输送转轴46与第一纵向输送转轴44空间垂直;所述第一升降框45与第一气缸37的伸缩杆连接;所述第二纵向输送组件40包括第二固定框47和多条第二纵向输送转轴48，多条所述第二纵向输送转轴48均匀安装于第二固定框47，所述第二固定框47安装于第二底架42;所述第二横向输送组件39包括第二升降框49和多条第二横向输送转轴50 ；多条所述第二横向输送转轴50均勾安装于第二升降框49，且所述第二横向输送转轴50与第二纵向输送转轴48空间垂直;所述第二升降框47与第二气缸38的伸缩杆连接;所述第一连接架36包括第一连接框51和多条第一连接输送转轴52，多条所述第一连接输送转轴52均匀安装于第一连接框51;所述第一连接输送转轴52与第一横向输送转轴46平行。
[0056]所述第二平移拐弯架包括第三纵向输送组件、第三横向输送组件、第二连接架、第三气缸、第四气缸、第四横向输送组件、第四纵向输送组件、第三底架和第四底架，所述第三纵向输送组件、第三横向输送组件和第三气缸均安装于第三底架，且所述第三气缸的伸缩杆与第三横向输送组件连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第三气缸的伸缩杆伸出顶起第三横向输送组件，令第三横向输送组件的输送面高于第三纵向输送组件的输送面;所述第四纵向输送组件、第四横向输送组件和第四气缸均安装于第四底架，且所述第四气缸的伸缩杆与第四横向输送组件连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第四气缸的伸缩杆伸出顶起第四横向输送组件，令第四横向输送组件的输送面高于第四纵向输送组件的输送面;所述第三横向输送组件通过第二连接架与第四横向输送组件连接;所述第一真空镀膜机构通过第四纵向输送组件与覆膜段连接;所述第二真空镀膜机构、第三横向输送组件、第二连接架和第四横向输送组件依次连接。实际上，第一平移拐弯架和第二平移拐弯架的结构相同。
[0057]所述第三纵向输送组件包括第三固定框和多条第三纵向输送转轴，多条所述第三纵向输送转轴均匀安装于第三固定框，所述第三固定框安装于第三底架;所述第三横向输送组件包括第三升降框和多条第三横向输送转轴;多条所述第三横向输送转轴均匀安装于第三升降框，且所述第三横向输送转轴与第三纵向输送转轴空间垂直;所述第三升降框与第三气缸的伸缩杆连接;所述第四纵向输送组件包括第四固定框和多条第四纵向输送转轴，多条所述第四纵向输送转轴均匀安装于第四固定框，所述第四固定框安装于第四底架；所述第四横向输送组件包括第四升降框和多条第四横向输送转轴;多条所述第四横向输送转轴均匀安装于第四升降框，且所述第四横向输送转轴与第四纵向输送转轴空间垂直;所述第四升降框与第四气缸的伸缩杆连接;所述第二连接架包括第二连接框和多条第二连接输送转轴，多条所述第二连接输送转轴均匀安装于第二连接框;所述第二连接输送转轴与第三横向输送转轴平行。
[0058]如图5和图6所示，所述第一镀膜真空室26和第二镀膜真空室31均具有镀膜腔室，所述第一镀膜真空室26和第二镀膜真空室31的镀膜腔室均连接有一套快速抽气机组53，每套快速抽气机组53包括两个高真空分子栗54、增压栗55、粗抽栗56、精抽阀57和连接管58，两个高真空分子栗54均通过精抽阀57与一个镀膜腔室连接，两个高真空分子栗54均通过连接管58与增压栗55连接，所述增压栗55与粗抽栗56连接。这采用两个高真空油扩散栗54作为主栗进行抽气，并配置有高性能的增压栗55和粗抽栗56，镀膜腔室的气体由精抽阀57直接进入两个高真空油扩散栗54内，再经过设计紧凑的管道进入增压栗55，最后由粗抽栗56将气体排出大气中，这抽气效率高，且保证镀膜腔室内的真空镀高且稳定性强，从而保证一分钟内可完成4件工件的镀膜，提高了生产效率。
[0059]—种基于上述的快速的真空磁控溅射镀膜设备的加工方法，其特征在于，包括以下步骤:
[0060](I)首个工件由上件架送入前清洗机后，进入第一平移拐弯架，此第一平移拐弯架中的第一纵向输送组件工作，将首个工件第一纵向输送组件输送至第一真空镀膜机构，以对首个工件进行镀膜加工处理；
[0061]当首个工件进入第一真空镀膜机构时，第二个由上件架送入前清洗机后，进入第一平移拐弯架，此时，第一气缸的伸缩杆伸出顶起第一横向输送组件，则第二工件由第一横向输送组件移动到第一连接架上再进移动至第二纵向输送组件，则第二气缸的伸缩杆顶起第二横向输送组件，令第二横向输送组件的输送面高于第二纵向输送组件的输送面，则第二个工件被第二横向输送组件输送至第二真空镀膜机构，以对第二个工件进行镀膜加工处理；
[0062](2)当首个工件自第一真空镀膜机构出来后进入第二平移拐弯架，此第二平移拐弯架中的第四纵向输送组件工作，将首个工件被第四纵向输送组件输送覆膜段后，再依次经过烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，以完成加工；
[0063]而第二个工件自第二真空镀膜机构出来后，再依次通过第三横向输送组件、第二连接架和第四横向输送组件输送到第四纵向输送组件上，则第二个工件被第四纵向输送组件输送覆膜段后，再依次经过烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，以完成加工；
[0064](3)由此后续的工件被第一平移拐弯架交替送至第一真空镀膜机构和第二真空镀膜机构后，再通过第二平移拐弯架交替送至覆膜段，最后依次经过烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，以完成加工。
[0065]当工件进入第一真空镀膜室的过程中，工件的行进速度为40m/min，而第一镀膜真空室内的真空镀为8 X 10E—2，同时采用10kw的直流电源为第一镀膜真室内的磁控靶提供800V的电压，从而对工件进行快速镀膜处理；
[0066]当工件进入第二真空镀膜室的过程中，工件的行进速度为40m/min，而第二镀膜真空室内的真空镀为8 X 10E—2，同时采用10kw的直流电源为第二镀膜真室内的磁控靶提供800V的电压，从而对工件进行快速镀膜处理。这不仅提高镀膜速度，同时还提高了镀膜的质量。
[0067]上述【具体实施方式】为本发明的优选实施例，并不能对本发明进行限定，其他的任何未背离本发明的技术方案而所做的改变或其它等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种快速的真空磁控溅射镀膜设备，包括上件架、前清洗机、覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，所述上件架和前清洗机连接，所述覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架依次连接;其特征在于:还包括两套真空镀膜机构、第一平移拐弯架和第二平移拐弯架，两套所述真空镀膜机构平行设置，且两套所述真空镀膜机构的一端均通过第一平移拐弯架与前清洗机连接，两套所述真空镀膜机构的另一端均通过第二平移拐弯架与覆膜段连接。2.根据权利要求1所述的快速的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:两套真空镀膜机构分别为第一真空镀膜机构和第二真空镀膜机构； 所述第一真空镀膜机构包括依次连接的第一进件过渡架、第一进件抽气真空室、第一镀膜真空室、第一出件抽气真空室和第一出件过渡架，所述第一进件过渡架通过第一套平移拐弯架与前清洗机连接，所述第一出件过渡架通过第二平移拐弯架与覆膜段连接； 所述第二真空镀膜机构包括依次连接的第二进件过渡架、第二进件抽气真空室、第二镀膜真空室、第二出件抽气真空室和第二出件过渡架，所述第二进件过渡架通过第一平移拐弯架与前清洗机连接，所述第二出件过渡架通过第二平移拐弯架与覆膜段连接。3.根据权利要求2所述的快速的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:所述第一真空镀膜机构还包括四套真空气锁，此四套真空气锁分别位于第一进件过渡架和第一进件抽气真空室之间、第一进件抽气真空室和第一镀膜真空室之间、第一镀膜真空室和第一出件抽气真空室之间及第一出件抽气真空室和第一出件过渡架之间； 所述第二真空镀膜机构还包括四套真空气锁，此四套真空气锁分别位于第二进件过渡架和第二进件抽气真空室之间、第二进件抽气真空室和第二镀膜真空室之间、第二镀膜真空室和第二出件抽气真空室之间及第二出件抽气真空室和第二出件过渡架之间。4.根据权利要求2所述的快速的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:所述第一平移拐弯架包括第一纵向输送组件、第一横向输送组件、第一连接架、第一气缸、第二气缸、第二横向输送组件、第二纵向输送组件、第一底架和第二底架，所述第一纵向输送组件、第一横向输送组件和第一气缸均安装于第一底架，且所述第一气缸的伸缩杆与第一横向输送组件连接;当玻璃工件需要横向输送时，所述第一气缸的伸缩杆伸出顶起第一横向输送组件，令第一横向输送组件的输送面高于第一纵向输送组件的输送面； 所述第二纵向输送组件、第二横向输送组件和第二气缸均安装于第二底架，且所述第二气缸的伸缩杆与第二横向输送组件连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第二气缸的伸缩杆伸出顶起第二横向输送组件，令第二横向输送组件的输送面高于第二纵向输送组件的输送面； 所述第一横向输送组件通过第一连接架与第二横向输送组件连接;所述第一真空镀膜机构通过第一纵向输送组件与前清洗机连接;所述第二真空镀膜机构、第二横向输送组件、第一连接架和第一横向输送组件依次连接。5.根据权利要求4所述的快速的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:所述第一纵向输送组件包括第一固定框和多条第一纵向输送转轴，多条所述第一纵向输送转轴均匀安装于第一固定框，所述第一固定框安装于第一底架； 所述第一横向输送组件包括第一升降框和多条第一横向输送转轴；多条所述第一横向输送转轴均匀安装于第一升降框，且所述第一横向输送转轴与第一纵向输送转轴空间垂直;所述第一升降框与第一气缸的伸缩杆连接； 所述第二纵向输送组件包括第二固定框和多条第二纵向输送转轴，多条所述第二纵向输送转轴均匀安装于第二固定框，所述第二固定框安装于第二底架； 所述第二横向输送组件包括第二升降框和多条第二横向输送转轴；多条所述第二横向输送转轴均匀安装于第二升降框，且所述第二横向输送转轴与第二纵向输送转轴空间垂直;所述第二升降框与第二气缸的伸缩杆连接； 所述第一连接架包括第一连接框和多条第一连接输送转轴，多条所述第一连接输送转轴均匀安装于第一连接框;所述第一连接输送转轴与第一横向输送转轴平行。6.根据权利要求4所述的快速的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:所述第二平移拐弯架包括第三纵向输送组件、第三横向输送组件、第二连接架、第三气缸、第四气缸、第四横向输送组件、第四纵向输送组件、第三底架和第四底架，所述第三纵向输送组件、第三横向输送组件和第三气缸均安装于第三底架，且所述第三气缸的伸缩杆与第三横向输送组件连接;当玻璃工件需要横向输送时，所述第三气缸的伸缩杆伸出顶起第三横向输送组件，令第三横向输送组件的输送面高于第三纵向输送组件的输送面； 所述第四纵向输送组件、第四横向输送组件和第四气缸均安装于第四底架，且所述第四气缸的伸缩杆与第四横向输送组件连接；当玻璃工件需要横向输送时，所述第四气缸的伸缩杆伸出顶起第四横向输送组件，令第四横向输送组件的输送面高于第四纵向输送组件的输送面； 所述第三横向输送组件通过第二连接架与第四横向输送组件连接;所述第一真空镀膜机构通过第四纵向输送组件与覆膜段连接;所述第二真空镀膜机构、第三横向输送组件、第二连接架和第四横向输送组件依次连接。7.根据权利要求6所述的快速的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:所述第三纵向输送组件包括第三固定框和多条第三纵向输送转轴，多条所述第三纵向输送转轴均匀安装于第三固定框，所述第三固定框安装于第三底架； 所述第三横向输送组件包括第三升降框和多条第三横向输送转轴；多条所述第三横向输送转轴均匀安装于第三升降框，且所述第三横向输送转轴与第三纵向输送转轴空间垂直;所述第三升降框与第三气缸的伸缩杆连接； 所述第四纵向输送组件包括第四固定框和多条第四纵向输送转轴，多条所述第四纵向输送转轴均匀安装于第四固定框，所述第四固定框安装于第四底架； 所述第四横向输送组件包括第四升降框和多条第四横向输送转轴；多条所述第四横向输送转轴均匀安装于第四升降框，且所述第四横向输送转轴与第四纵向输送转轴空间垂直;所述第四升降框与第四气缸的伸缩杆连接； 所述第二连接架包括第二连接框和多条第二连接输送转轴，多条所述第二连接输送转轴均匀安装于第二连接框;所述第二连接输送转轴与第三横向输送转轴平行。8.根据权利要求7所述的快速的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于:所述第一镀膜真空室和第二镀膜真空室均具有镀膜腔室，所述第一镀膜真空室和和第二镀膜真空室的镀膜腔室均连接有一套快速抽气机组，每套快速抽气机组包括两个高真空分子栗、增压栗、粗抽栗、精抽阀和连接管，两个高真空油扩散栗均通过精抽阀与一个镀膜腔室连接，两个高真空分子栗均通过连接管与增压栗连接，所述增压栗与粗抽栗连接。9.一种基于权利要求6所述的快速的真空磁控溅射镀膜设备的加工方法，其特征在于，包括以下步骤: (1)首个工件由上件架送入前清洗机后，进入第一平移拐弯架，此第一平移拐弯架中的第一纵向输送组件工作，将首个工件第一纵向输送组件输送至第一真空镀膜机构，以对首个工件进行镀膜加工处理； 当首个工件进入第一真空镀膜机构时，第二个由上件架送入前清洗机后，进入第一平移拐弯架，此时，第一气缸的伸缩杆伸出顶起第一横向输送组件，则第二工件由第一横向输送组件移动到第一连接架上再进移动至第二纵向输送组件，则第二气缸的伸缩杆顶起第二横向输送组件，令第二横向输送组件的输送面高于第二纵向输送组件的输送面，则第二个工件被第二横向输送组件输送至第二真空镀膜机构，以对第二个工件进行镀膜加工处理； (2)当首个工件自第一真空镀膜机构出来后进入第二平移拐弯架，此第二平移拐弯架中的第四纵向输送组件工作，将首个工件被第四纵向输送组件输送覆膜段后，再依次经过烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，以完成加工； 而第二个工件自第二真空镀膜机构出来后，再依次通过第三横向输送组件、第二连接架和第四横向输送组件输送到第四纵向输送组件上，则第二个工件被第四纵向输送组件输送覆膜段后，再依次经过烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，以完成加工； (3)由此后续的工件被第一平移拐弯架交替送至第一真空镀膜机构和第二真空镀膜机构后，再通过第二平移拐弯架交替送至覆膜段，最后依次经过烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架，以完成加工。10.根据权利要求9所述的快速的真空磁控溅射镀膜设备的加工方法，其特征在于: 当工件进入第一真空镀膜室的过程中，工件的行进速度为40m/min，而第一镀膜真空室内的真空镀为5 X 10E—3?9 X 10E—2，同时采用10kw的直流电源为第一镀膜真室内的磁控靶提供600?800V的电压，从而对工件进行快速镀膜处理； 当工件进入第二真空镀膜室的过程中，工件的行进速度为40m/min，而第二镀膜真空室内的真空镀为5 X 10E—3?9 X 10E—2，同时采用10kw的直流电源为第二镀膜真室内的磁控靶提供600?800V的电压，从而对工件进行快速镀膜处理。
【文档编号】C23C14/56GK105970174SQ201610415481
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年6月14日
【发明人】苏贵方
【申请人】肇庆市大力真空设备有限公司