一种缓釉装置的制作方法

本实用新型涉及瓷砖制造技术领域，具体涉及一种淋釉设备用的缓釉装置。

背景技术：

在瓷砖的生产工艺流程中，给瓷砖上釉料的过程是非常重要的一个环节，在这个环节中，釉料从钟罩式淋釉器或直线式淋釉器中形成釉膜，要进行淋釉的瓷砖通过传送带等传送装置输送到淋釉装置的下面，釉料显釉布状施淋在通过的瓷砖的表面。

现有的钟罩式淋釉器，釉料从出釉装置到钟罩的过程中，为了减缓釉料的速度，需要在出釉装置和钟罩之间设置一组装置，但现有技术中，这种装置过于复杂，装调麻烦，影响设备的使用和维修。

技术实现要素：

本实用新型的目的是提供一种缓釉装置，结构简单，能节省大量的人力物力成本。

为实现上述目的，本实用新型的一个实施例所采取的技术方案是：

包括小钟罩和与其连接的储釉斗，小钟罩为球冠体状，包括多段相互连接的圆弧，位于靠近钟罩上部的圆弧的半径小于位于钟罩下部的圆弧的半径，储釉斗与小钟罩之间设有连接底面，储釉斗呈上部开口的筒状，其上部边缘设有用于釉料流出的缺口。

本实用新型的缓釉装置产生的有益效果为：

1.部件简单，只设两个零件，安装方便，不需要过多调试。

2.小钟罩为球冠体状，包括多段相互连接的圆弧，釉料在小钟罩上流速更加平缓。

附图说明

图1所示为本实用新型的缓釉装置的一个实施例的结构图。

图2所示为本实用新型的缓釉装置的一个实施例的剖视结构图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型具体实施例及相应的附图对本实用新型技术方案进行清楚、完整地描述。

参考图1、图2，在本实用新型的一个实施例中，缓釉装置包括小钟罩20和与其连接的储釉斗10，小钟罩20为球冠体状，包括多段相互连接的圆弧，位于靠近钟罩20上部的圆弧的半径小于位于钟罩20下部的圆弧的半径，储釉斗10与小钟罩20之间设有连接底面12，储釉斗10呈上部开口的筒状，其上部边缘设有用于釉料流出的缺口11。圆弧之间需要平滑过渡。

参考图1、图2，在本实用新型的一个实施例中，所述圆弧的数量为2个，包括第一圆弧21和第二圆弧22。

参考图1、图2，在本实用新型的一个实施例中，连接底面12与储釉斗10一体成形。连接底面12也可以与小钟罩一体成形。

参考图1、图2，在本实用新型的一个实施例中，连接底面12呈向下弯曲的弧形，储釉斗10可以存储更多的釉料。

本缓釉装置可以安装在钟罩式淋釉器上，用于减缓釉料的速度，使得釉料在大钟罩上流动更加均匀。

上述实施方式用来解释说明本实用新型，而不是对本实用新型进行限制，在本实用新型的精神和权利要求的保护范围内，对本实用新型做出的任何修改和改变，都落入本实用新型的保护范围。

技术特征：

1.一种缓釉装置，其特征在于：包括小钟罩和与其连接的储釉斗，所述小钟罩为球冠体状，包括多段相互连接的圆弧，位于靠近所述钟罩上部的圆弧的半径小于位于所述钟罩下部的圆弧的半径，所述储釉斗与所述小钟罩之间设有连接底面，所述储釉斗呈上部开口的筒状，其上部边缘设有用于釉料流出的缺口。

2.根据权利要求1所述的缓釉装置，其特征在于：所述圆弧的数量为2个。

3.根据权利要求1所述的缓釉装置，其特征在于：所述连接底面与所述储釉斗一体成形。

4.根据权利要求1所述的缓釉装置，其特征在于：所述连接底面与所述小钟罩一体成形。

5.根据权利要求3或4所述的缓釉装置，其特征在于：所述连接底面呈向下弯曲的弧形。

6.根据权利要求2所述的缓釉装置，其特征在于：所述圆弧之间平滑过渡。

技术总结
本实用新型公开了一种缓釉装置，包括小钟罩和与其连接的储釉斗，小钟罩为球冠体状，包括多段相互连接的圆弧，位于靠近钟罩上部的圆弧的半径小于位于钟罩下部的圆弧的半径，储釉斗与小钟罩之间设有连接底面，储釉斗呈上部开口的筒状，其上部边缘设有用于釉料流出的缺口。本实用新型的缓釉装置，部件简单，只设两个零件，不需要过多调试。小钟罩为球冠体状，包括多段相互连接的圆弧，釉料在小钟罩上流速更加平缓。

技术研发人员：李小成;钟文华
受保护的技术使用者：四川汉莫尼机械设备有限公司
技术研发日：2019.01.05
技术公布日：2020.04.14