釉面装饰板的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及建筑板材领域，特别是涉及釉面装饰板。
【背景技术】
[0002]随着国际贸易面越来越广，外国房地产商在国内采购的建筑部件也越来越多，而且许多客商想在国内采购成套的建筑部件，但到目前为止国内还没有一个真正义意上的产业化公司和配套厂家。组装房屋的墙体一般都是直接铺设装饰板；但现有的装饰板容易掉色，且表面不坚固，容易出现裂痕。
【实用新型内容】
[0003]针对上述存在的缺陷，本实用新型提供了釉面装饰板，生产出的釉面装饰板不易掉色，表面坚固，不易出现裂痕。
[0004]本实用新型所采取的技术方案是:釉面装饰板，包括基板、底漆层、腻子粉层和釉面漆层；底漆层、腻子粉层和釉面漆层依次设在基板上。
[0005]在上述结构中，底漆层和腻子粉层之间还设有界面胶层；腻子粉层和釉面漆层之间也设有界面胶层。
[0006]在上述结构中，底漆层为渗透底漆层。
[0007]在上述结构中，釉面漆层为低温釉面漆层。
[0008]在上述结构中，底漆层厚度为10-25 μ m。
[0009]在上述结构中，腻子粉层的层数为2-3层。
[0010]本实用新型的有益效果是:上述技术方案的釉面装饰板，具有色泽的底漆层位于最底层，而且表面具有釉面漆层保护，使装饰板不易掉色；釉面漆层在最表面，釉面漆层坚硬，不易破裂，很好地保护装饰板的完整性。
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型的截面图。
[0012]图中，1、基板；2、底漆层；3、腻子粉层；4、釉面漆层；5、界面胶层。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。
[0014]图1示意性地显示了根据本实用新型的一种实施方式的釉面装饰板。
[0015]釉面装饰板，包括基板1、底漆层2、腻子粉层3和釉面漆层4 ;基板I为纤维板，底漆层2、腻子粉层3和釉面漆层4依次设在基板I上。
[0016]上述的，底漆层2和腻子粉层3之间还设有界面胶层5 ;腻子粉层3和釉面漆层4之间也设有界面胶层5 ;界面胶层5使底漆层2、腻子粉层3和釉面漆层4各层间隔，不会相互污染。
[0017]上述的，底漆层2为渗透底漆层2，底漆层2厚度为10-25 μ m。
[0018]上述的，釉面漆层4为低温釉面漆层4。
[0019]上述的，腻子粉层3的层数为2-3层，腻子粉层3的作用是填平表面，使装饰板表面平整。
[0020]该釉面装饰板生产工艺，其步骤包括:
[0021]a、以纤维板为基板1，首先要对基板I进行打磨，使基板I表面平整；再对基板I表面进行除尘，清除基板I表面杂物，尤其是对基板I进行打磨后，表面的粉尘需要清除；在基板I表面滚涂底漆，形成底漆层2，选用的底漆为渗透底漆，底漆层2厚度为10-25 μ m ;对底漆层2进行光固化工序，加温使底漆部分渗透进入基板1，使底漆不易掉色；在底漆层2上滚涂一层界面胶，形成界面胶层5，使底漆层2不受后续工序的影响。
[0022]b、在上述工艺后，滚涂腻子粉，形成腻子粉层3，再对腻子粉层3进行光固化直至腻子粉层3为半干状态，重复此步骤，直至在底漆层2上滚涂2-3层腻子粉层3，最后，再对腻子粉层3进行光固化工序，直至腻子粉层3为全干状态；对腻子粉层3表面进行打磨，使基板I表面平整，再对腻子粉层3表面进行除尘，清除腻子粉层3表面杂物；在腻子粉层3上滚涂一层界面胶，形成界面胶层5，使腻子粉层3不受后续工序的影响。
[0023]C、在腻子粉层3上浇淋釉面漆，形成釉面漆层4 ;再对釉面漆层4进行低温烘烤，该烘烤温度为100-220 °C。
[0024]以上的实施例只是在于说明而不是限制本实用新型，故凡依本实用新型专利申请范围所述的方法所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。
【主权项】
1.釉面装饰板，其特征在于，包括基板、底漆层、腻子粉层和釉面漆层；底漆层、腻子粉层和釉面漆层依次设在基板上。
2.根据权利要求1所述的釉面装饰板，其特征在于:底漆层和腻子粉层之间还设有界面胶层；腻子粉层和釉面漆层之间也设有界面胶层。
3.根据权利要求1所述的釉面装饰板，其特征在于:所述底漆层为渗透底漆层。
4.根据权利要求1所述的釉面装饰板，其特征在于:所述釉面漆层为低温釉面漆层。
5.根据权利要求1所述的釉面装饰板，其特征在于:底漆层厚度为10-25μ m。
6.根据权利要求1所述的釉面装饰板，其特征在于:腻子粉层的层数为2-3层。
【专利摘要】本实用新型公开了釉面装饰板，属于建筑板材领域。釉面装饰板，包括基板、底漆层、腻子粉层和釉面漆层；底漆层、腻子粉层和釉面漆层依次设在基板上。该釉面装饰板，生产出的釉面装饰板耐候性强同瓷砖表面，不易掉色，表面坚固，不易出现裂痕。
【IPC分类】E04F13-075
【公开号】CN204418576
【申请号】CN201420749102
【发明人】刘焱才
【申请人】刘焱才
【公开日】2015年6月24日
【申请日】2014年12月3日