1.一种包括两个纳米结构型的、选择性的、无源的和非均匀的“线栅”型的偏振器的透明多层装置，所述偏振器沿着电磁辐射的传播方向的路径连续布置，并且所述偏振器中的每一个能够相对于另一个执行线性平移运动，其中丝状体之间的间距是恒定的且小于390nm，并且所述丝状体占据介于间距间隔的2.5％到50％之间的基本上恒定的空间，所述丝状体由规则形状的平行带构成，所述带具有相同的尺寸，但具有不同取向的偏振轴，其中每个带的偏振轴相对于相邻带的偏振轴顺时针或逆时针旋转穿过在1/10度到45度之间的范围内选择的恒定角度。
2.根据权利要求1所述的装置，其设置有用于所述两个偏振器的线性平移运动的致动器的系统。
3.根据权利要求1-2中任一项所述的装置，其中所述偏振器的丝状体根据在透明基板上的多个取向构造，任选地由另一保护层覆盖。
4.根据权利要求1-3中的任一项所述的装置，其中所述偏振器中的每一个根据图案中的带的宽度和数量包含多个偏振轴。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中所述平移运动对于不同取向或倾斜取向的部分能够为水平的、垂直的、曲线型的或正弦型的。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的装置，其中所述偏振器的所述纳米取向的丝状体以介于160[nm]到390[nm]之间的范围内的恒定间距产生。
7.根据权利要求1-5中任一项所述的装置，其中所述纳米取向的丝状体以小于160[nm]的恒定间距产生。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的装置，其中相对于所述两个偏振滤波器添加附加层。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的装置，其中所述电磁辐射在其撞击所述装置的所述偏振器之前沿其传播方向通过去偏振器。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的装置，其中所述外部偏振器包括彼此粘附的2或3个部件。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的装置，其中所述偏振器包含透明基板，计算所述透明基板的折射率以排除高阶折射。
12.根据权利要求11所述的装置，其中所述基板选自对VIS和NIR分量具有高透射能力，并且任选地对UV分量具有高吸收能力的无机或有机材料。
13.根据权利要求10-12中任一项所述的装置，其中用于构造偏振光栅的材料具有高反射率。
14.根据权利要求1-13中任一项所述的装置，其中所述线是由介电材料与非介电材料层交替而组成的多层。
15.根据权利要求11-14中任一项所述的装置，其中在所述基板和所述偏振图案之间存在介电材料层。
16.根据权利要求1-15中任一项所述的装置，其中所述图案的特征在于单个金属光栅由规则形式的平行带构造。
17.根据权利要求1-16中任一项所述的装置，其中所述线的高度在10[nm]到1[μm]之间，优选在60[nm]到180[nm]之间。
18.根据权利要求16-17中任一项所述的装置，其中，所述带中的每一个的宽度在5微米到9.9米之间。
19.根据权利要求3-18中任一项所述的装置，其中所述保护层是用于紫外(UV)辐射的滤波器。
20.根据权利要求1-19中任一项所述的装置，其中所述第一和所述第二滤波器的各个偏振轴彼此平行并且沿着所述入射电磁波的所述传播方向对准。
21.根据权利要求1-20中任一项所述的装置，其中所述第一和所述第二滤波器的各个偏振轴彼此正交，并且沿着所述入射电磁波的所述传播方向对准。
22.根据权利要求1-21中任一项所述的装置，其中所述第一和所述第二滤波器的各个偏振轴以所述偏振轴之间的中间角度布置。
23.一种用于电磁辐射的屏蔽，其包括根据权利要求1-22中的任一项所述的装置。
24.一种包括根据权利要求1-22中任一项所述的装置的玻璃系统。