一种用于深厚软基处理的新型ptc型有螺旋状孔锥形管桩的制作方法

文档序号:9989784阅读:285来源:国知局
一种用于深厚软基处理的新型ptc型有螺旋状孔锥形管桩的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种管粧,尤其涉及一种孔呈螺旋状分布的有孔锥形管粧。
【背景技术】
[0002]在我国沿江和沿海地区,存在着深厚软土地基,因此预应力有孔管粧被广泛用于我国各类建设工程中,其在承载力、抗弯、抗拔性能等方面都有着显著优越性,而且其能够有效地控制地基不均匀沉降。但是静压沉粧过程会产生明显的挤土效应,对工程造成一系列的不良影响:包括沉粧时对邻粧的影响,会产生“浮粧”现象;对周围建(构)筑物的影响,如造成邻近建(构)筑物的不均匀沉降;沉粧时产生过高的超孔隙水压力,会对地基的承载力产生一定的影响;沉粧时对粧周土体抗剪强度的影响,会使得粧周土体抗剪强度明显减小。为了减轻沉粧过程中产生的挤土效应、加快超空隙水压力的消散、保证成粧质量,这就必须要采取一定的措施,通过实验证明和理论推导可以得知在锥形管粧管壁按要求设置一些圆孔可以减轻静压沉粧对周边环境的不利影响,有效地控制地基沉降变形,减小最大超孔隙水压力值,从而提高地基承载力。同时,由于锥形管粧自身特点,直径小的一端在下,锥形粧有利于发挥粧侧土体的侧摩阻力,锥形管粧的挤土效应也可适当降低。

【发明内容】

[0003]本实用新型的目的在于提供了一种用于深厚软基处理的新型PTC型螺旋状有孔锥形管粧,对该管粧设置一些圆孔,形成带孔管粧,使孔隙水能够通过粧孔进入管粧内腔,这充分利用管粧空腔的聚水作用,从而降低超孔隙水压力最大值。
[0004]本实用新型是这样来实现的,它包括锥形管粧壁、孔两部分,其特征是在锥形管粧壁同一高度开三个呈等边三角形分布的圆孔,然后将所开的三个孔整体旋转60°后沿粧长方向10倍孔径处再开孔,按照这种开孔方式自上而下开有若干在锥形管粧壁上呈螺旋状分布的孔。
[0005]本实用新型的技术效果是:在施工期,由于管粧挤土效应产生了超孔隙水压,土中自由水可以进入管粧内;在施工间歇期,在静水压力作用下,随着超孔隙水压的消散,土中自由水也可以进入锥形管粧孔内。若施工中遇到淤泥质土,淤泥可通过粧孔流入管粧内;若是孔内水比较多,则可采取抽水方式将其排除;随着孔内水位降低,土中自由水又会渗入管粧内,使土的含水量得以进一步降低,土的抗剪强度得以提高,地基承载力增强;带螺旋状孔锥形管粧施工时可有效降低邻粧挤土效应,清洁环境,还具有节能优点。而锥形管粧直径小的一端在下,锥有利于发挥粧侧土体的侧摩阻力,同时锥形管粧的挤土效应也可适当降低。
【附图说明】
[0006]图1为本实用新型的结构示意图。
[0007]图2为本实用新型A-A、B-B、C-C的切面图。
[0008]图3为本实用新型D-D、E-E、F-F的切面图。
[0009]在图中,1、锥形管粧壁;2、螺旋状粧孔。图1中圆孔处实线代表在剖切截面此处开孔;虚线代表截面此处未开孔,但在其下一定距离开孔。
【具体实施方式】
[0010]如图1、图2、图3所示,PTC型锥形形管粧壁I同一高度开三个圆孔,孔呈等边三角形分布,然后将所开的三个孔整体旋转60°后沿粧长方向10倍孔径处再开孔,按照这种开孔方式自上而下开有若干在锥形管粧壁上呈螺旋状分布的孔2,圆孔之间间隔和孔的直径根据工程要求安排,并采用静压沉粧方式施工。施工中,土中自由水通过锥形管粧壁上的若干个孔流入锥形管粧的空腔内,然后实用栗将空腔内的淤泥和水抽出,降低了超孔隙水压力最大值,从而减少了沉粧挤土效应的影响。
【主权项】
1.一种用于深厚软基处理的新型PTC型有螺旋状孔锥形管粧,它包括锥形管粧壁、孔两部分,其特征是在锥形管粧壁同一高度开三个呈等边三角形分布的圆孔,然后将所开的三个孔整体旋转60°后沿粧长方向10倍孔径处再开孔,按照这种开孔方式自上而下开有若干在锥形管粧壁上呈螺旋状分布的孔。
【专利摘要】一种用于深厚软基处理的新型PTC型有螺旋状孔锥形管桩,它包括锥形管桩壁、孔两部分,其特征是在锥形管桩壁同一高度开三个呈等边三角形分布的圆孔,然后将所开的三个孔整体旋转60o后沿桩长方向10倍孔径处再开孔,按照这种开孔方式自上而下开有若干在锥形管桩壁上呈螺旋状分布的孔。本实用新型的技术效果是:在锥桩沉桩施工期,由于沉桩挤土效应产生了超孔隙水压力,土中孔隙水可以通过桩孔主动进入有孔管桩内腔,降低超孔隙水压力最大值,减轻沉桩对邻桩造成的危害,加速超孔隙水压力消散,节省工期;另一方面,由于锥形管桩自身特点,直径小的一端在下,有利于发挥桩侧土体的侧摩阻力,同时锥形管桩的挤土效应也可适当降低。
【IPC分类】E02D5/24
【公开号】CN204898650
【申请号】CN201520487034
【发明人】柳俊, 雷金波, 廖幼孙, 其他发明人请求不公开姓名
【申请人】南昌航空大学
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年7月8日
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