防静电性能优异的离型膜及其制造方法

文档序号:2475470阅读:333来源:国知局
专利名称:防静电性能优异的离型膜及其制造方法
技术领域
本发明是关于防静电性能优异的离型膜及其制造方法,更详细地说是具有良好的离型特性,并且具有优异的防静电性能的离型膜及其制造方法。
背景技术
一般来说,离型膜的主要使用目的是用于保护粘着剂层(或者胶粘剂层)。离型膜一般多用于产业用粘着带(或者胶粘带)等,近年来,在移动电话、LCD、半导体、显示器等 IT领域等的应用增加得很快。离型膜包含基材膜和离型层。基材膜多采用纸、塑料薄膜,离型层主要由硅混合物构成。离型膜要求具有离型カ和残留胶粘率等离型特性。具体来说,要求粘着剂(胶粘剂) 层具有适当的离型カ(剥离力)的同吋,离型层的成分附着到粘着剂(胶粘剂)层时,粘着力(胶粘力)也不会降低的残留胶粘率等。此外,近年来,随着IT领域的产品对于合成树脂和合成纤维的利用在迅速地增加,静电的问题开始显现。因此,要求IT产品所使用的离型膜要具有防静电性能。但是,原来的离型膜不具有所希望的防静电性能,由于静电的产生导致离型膜受损,特别是应用在静电的发生数量很多的IT领域产品时,从粘着剂(胶粘剂)层剥离的时候,经常发生静电导致弄脏产品等问题。尤其是,当周围的异物通过静电混入粘着剂(胶粘剂)吋,导致产品的品质不良等问题有明显地增加。因此,原来尝试过在离型膜的离型层中添加防静电物质的技术,但是在这种情况下,离型膜所要求的离型カ和残留胶粘率等离型特性发生劣化,而且防静电性能也不是很好,不适合应用到I T领域的产品。专利文献lKR2005-0034专利文献2KR1999_0019010

发明内容
鉴于上述原因,本发明的目的在于提供具有良好的离型カ及残留胶粘率等离型特性,而且提供具有优异的防静电性能的离型膜及其制造方法。在本发明的具体实施例中,有包含基材膜及离型层的离型膜,上述的离型膜是包括防静电层的离型膜,防静电层含有粘着剂和防静电剂。此外,本发明的其他具体实施例中,是含有基材膜及离型层的离型膜的制造方法, 该方法是提供在上述的基材膜的一面或者两面涂布含有粘着剂和防静电剂的防静电混合物的步骤的离型膜的制造方法。在本发明的ー个具体实施例中,上述的防静电层的成分构成是,相对于上述的粘着剂5 25重量份,上述的防静电剂为1 30重量份。本发明具体实施例的离型膜,其离型カ及残留胶粘率等离型特性良好,而且具有优异的防静电性能。


图1是本发明的一个示例的具体实施例的离型膜的剖面图。;图2是本发明的其他示例的具体实施例的离型膜的剖面图。图3是本发明的另ー个其他示例的具体实施例的离型膜的剖面图。附图标记说明10:基材膜20 离型层30:防静电层
具体实施例方式下面參照附图,详细说明本发明的具体实施例。本发明具体实施例的离型膜包括基材膜和离型层,还包括防静电层。上述的防静电层可以在基材膜的一面或者两面形成,上述的离型层可以在上述的防静电层上形成,或者在上述形成防静电层的基材膜的一面和相反一面形成。參照图1至图3进行说明,本发明具体实施例的离型膜包括基材膜10和离型层 20。此外,本发明具体实施例的离型膜还包括単独为ー层的防静电层30。在本发明的具体实施例中,为了不损害离型层20的离型特性、而是提供优异的防静电性能,上述的防静电层30和基材膜10及离型层20分別独立、自成ー层。在本发明具体实施例的离型膜中,上述的防静电层10可以包括1层或者2层以上。图1至图3示例了具体实现。如图1至图3所示,上述的防静电层30可以在基材膜10 的下面形成(图1),或者在基材膜10和离型层20之间形成(图幻。此外,防静电层30,还可以加在基材膜10的下面,在基材膜10和离型层20之间形成(图3)。更具体地说,本发明列举的具体实施例的离型膜包括防静电层30,如图1所示,从表面(图中的上面)向下依次排列的多层构造可以是离型层20、基材膜10、及防静电层30。 或者如图2所示,从表面(图中,上面)向下依次排列的多层构造可以是离型层20、防静电层30、及基材膜10。或者如图3所示,从表面(图中,上面)向下依次排列的多层构造可以是离型层20、防静电层30、基材膜10、及防静电层30,该构造含有2层的防静电层30。上述的基材膜10可以是有支持力的材料。举例来说,基材膜10可以从纸、无纺布、及塑料薄膜等材料中选择。在列举的具体实施例中,上述的基材膜10是塑料薄膜, 比如可以是包括聚酯类及/或者聚烯烃类的薄膜。基材膜10优选含有从聚对苯ニ甲酸乙 ニ酉旨(Polyethylene ter印hthalate ;PET)、聚对苯ニ 甲酸丁ニ酯(Polyb utylene terephthalate ;PBT)、聚乙ニ醇对苯ニ 甲酸酯(Polyethylenenaphthalate ;PEN)、聚萘ニ 甲酸丁ニ醇酯(Polybutylene naphthalat e;PBN)、聚乙烯(polyetylene 、及聚丙烯 (Polypropylene ;PP)等构成的群中选择1种以上的树脂,但是没有必要受此限制。上述的离型层20可以使用具有良好的离型カ(剥离カ)和残留胶粘率等离型特性的材料。如果离型层20是涂布了有机硅混合物的有机硅离型层则比较理想。举例来说, 作为离型层20的有机硅离型层,分子内具有Si-H键的化合物和聚硅氧烷的聚合物的物质即可。举例来说,商业用产品可以使用3 7 0 5 (信越公司生产)或者7 2 2 6 (道康宁公司生产)等。在示例的具体实施例中,上述的离型层20是涂布、硬化有机硅混合物后形成的,有机硅混合物是可以包括有机聚硅氧烷(Organo Polysi loxane)、有机含氢聚硅氧烷(Organo Hydrogen Polysiloxane)、钼螯合物、及溶剂的有机硅混合物。更具体地说,上述的离型层20是涂布、硬化有机硅混合物后形成的,有机硅混合物的成分是,如果以有机聚硅氧烷作为100重量份,含氢有机聚硅氧烷为0. 1 10重量份,钼螯合物为0. 1 3重量份,溶剂为100 2000重量份。这种情况下,构成有机硅混合物的上述溶剂没有特別限定为哪些物质,举例来说, 可以使用从甲苯、丁酮(MEK)、及正已烷(n-Hexane)等物质中选择1种的溶剂、或者2种以上的混合溶剤。如果离型层20是由上述的成分并按照适当含量組成的有机硅混合物构成的话, 离型カ(剥离力)及残留胶粘率等离型特性将很好。上述的离型层20,比较理想的是在基材膜10上涂布上述的有机硅混合物(图1),或者在防静电层30上涂布(图2及图幻上述的有机硅混合物。这里所说的涂布方法,举例来说,可以从凹版(Gravure)涂布、微凹版(Micro Gravure)涂布、吻合式凹版(kiss Gr avure)涂布、逗号刮刀(Comma Knife)涂布、门辊 (Roll)涂布、喷雾式(Spray)涂布、线棒式(Meyer Bar)涂布、狭缝式模头挤出(Slot Die) 涂布、及逆转式(Reverse)涂布方法中选择某一种,但是不必局限于这些方法。此外,上述的离型层20的涂布厚度可以是0.05 Ιμπι。如果离型层20的涂布厚度小于0.05 μ m,很难获得良好的离型特性;如果超过1 μ m,发生阻挡的可能性将増大。比较理想的离型层20的涂布厚度是0. 1 0. 3 μ m。上述的防静电层30包括粘着剂和防静电剂。上述的粘着剂不仅用在防静电剂之间,还用于层间粘着力,即防静电层30和基材膜10及/或者和离型层20之间的层间粘着力。粘着剂是具有粘着力的材料即可,没有特別的限制。上述的粘着剂包括水溶性或者非水溶性(有机溶剂类型)等,举例来说,可以从具有丙烯基、氨基甲酸酯基、环氧基、酰胺基、 水酸基、及硅烷基等官能基中的选择ー种以上官能基的高分子化合物的単独ー种或、或者2 种以上高分子化合物混合使用。作为非限制的示例,粘着剂可以从聚丙烯、聚丙烯酸脂、聚氨基甲酸酷、聚环氧、聚酰胺、聚酯、乙烯醋酸乙烯酯、聚硅氧烷、及这些的共聚物等中选择1 种以上使用。上述的防静电剂是具有防静电(防止带电)性能的物质即可,没有特別的限制。举例来说,上述的防静电剂可以从传导性高分子、碳素素材及界面活性剂等构成的群中选择1 种以上使用。作为本发明示例的具体实施例中使用的上述传导性高分子的举例,可以从聚乙炔(Polyacetylene)、聚对亚苯基乙烯撑(Poly (p-phenylene vinylene))、聚对亚苯基(Pol バ p-phenylene))、聚噻吩乙烯撑(PolHthieny Iene vinylene))、 聚噻吩(Polythiophene)、聚苯胺(Polyaniline)、聚乙烯ニ 氧噻吩(Polyethylene dioxythiophene)、聚非经典噻吩(Polyisothianaphthene)、聚吡咯(Polypyrrole)、及聚苯硫醚(Poly(p-phenylene sulfide)等构成的群中选择1种以上。作为上述的碳素素材,可以从炭黑(carbon black)、石墨(graphite)、石墨烯(graphene)、碳纳米管(CNT ,carbon nano tube)、及碳纳米纤维(CNF,carbon nano fiber) 等构成的群中选择1种以上。此外,作为上述的界面活性剤,可以是磺酸盐、四价铵盐、十二
烷基ニ甲基苄基铵盐等。上述的防静电剂可以使用上述的传导性高分子、碳素素材、及界面活性剤等,比较理想的是包含聚乙烯ニ氧噻吩(Polyethylene dioxythiophene ;PED0T)的物质。具体来说,作为上述的防静电剂,聚乙烯ニ氧噻吩(PEDOT)可以单独使用,也可以聚乙烯ニ氧噻吩 (PEDOT)和上述列举的防静电剂中的1种以上混合使用。上述的聚乙烯ニ氧噻吩(PEDOT) 的可见光线透过率高,聚合的时候作为搀杂剂使用聚苯乙烯磺酸(Polystyrenesulfonate) 后,往基材膜10上涂布的时候,和其他传导性高分子相比,其涂布安定性更优异,和粘着剂的混合特性更优异,而且发挥更高的防静电性能,对本发明很有效。在本发明较好的具体实施例中,防静电层30的成分是,相对于粘着剂的5 25重量份,防静电剂的量可以占到1 30重量份。即,上述的粘着剂和防静电剂,可以按照5 25 1 30的重量配比混合(粘着剂重量防静电剂重量=5 25 1 30)。这里,粘着剂的重量配比低于5份的话,粘着力将变弱,导致和基材膜10等的层间粘着力劣化;如果重量配比超过25份、粘着剂的含量过高、相対的防静电剂的含量降低,很难获得良好的防静电性能。此外,如果防静电剂的重量配比小于1份的话,它带来的防静电性能将很微弱; 如果其重量配比大于30份,相対的粘着剂的含量降低,会导致层间粘着力劣化,效果不好。在更好的具体实施例中,相对于粘着剂的重量10 20重量份,防静电剂的重量可以占到5 25重量份(即,粘着剂重量防静电剂重量=10 20 5 25)。按照这样的重量配比混合,层间粘着力很优异,而且离型膜的表面电阻小于108Q/c m2,更理想的时候会小于IO5 Ω/cm2,具有可以用于IT领域产品的优异的防静电性能。在本发明的示例的具体实施例中,在基材膜10的一面或者两面涂布防静电混合物,形成上述的防静电层30。如前所述,防静电混合物含有粘着剂和防静电剂,优选地,防静电混合物的整体重量为100份的话,粘着剂的重量可以占5 25份,防静电剂的重量占 1 30份。而且,为了获得涂布性能,可以含有溶剤。此时,溶剂可以是醇和水构成的物质, 上述的醇,举例来说,可以从甲醇、乙醇、及丙醇等中选择。在较好的具体实施例中,上述的防静电混合物的成分是,把防静电混合物的整体重量做为100份的话,粘着剂的重量可以占到5 25份,防静电剂的重量占1 30份,乙醇的重量占5 30份,及水的重量占10 50份。此时,作为溶剤,乙醇和水的含量低于上述范围的话,涂布性能劣化;如果高于上述范围的话,相対的粘着剂及防静电剂的含量将降低,层间粘着力及/或者防静电性能有时会很差。而且,为了均一地分散上述的防静电混合物的各种成分,可以按照0. 011份的重量配比加入分散剂和颜料等添加剤。此外,可以从下列的某种方法涂布上述的防静电混合物,举例来说有凹版 (Gravure)涂布、微凹版(Micro Gravure)涂布、吻合式凹版(kiss Gravure)涂布、逗号刮刀(Comma Knife)涂布、门辊(Roll)涂布、喷雾式(Spray)涂布、线棒式(Meyer Bar)涂布、狭缝式模头挤出(Slot Die)涂布、及反转式(Reverse)涂布等,但是不必局限于这些方法。另夕卜,上述的防静电层30的涂布厚度可以介于IOnm ΙΟμπι之间。此时,如果防静电层30的涂布厚度小于lOnm,很难获得良好的防静电性能;如果厚度超过10 μ m,有时会导致硬化不足、密着力会劣化、发生层间脱离。优选的是防静电层30的涂布厚度在50nm IOOOnm 之间。另外,本发明具体实施例的离型膜的制造方法,是上述本发明的具体实施例的离型膜,即包括基材膜10、离型层20、及防静电层30的离型膜的制造方法,包括在基材膜10 的一面或者两面涂布含有粘着剂和防静电剂的防静电混合物的步骤。此时,上述的防静电混合物的构成如上所述。防静电混合物的成分如上所述,混合物整体的重量作为100份的话,其中粘着剂的重量可以占到5 25份,防静电剂的重量占 1 30份。粘着剂及防静电剂的具体种类如上所述。更具体地说,上述的防静电混合物的成分如上所述,混合物整体的重量作为100份的话,其中粘着剂的重量可以5 25份,防静电剂的重量1 30份,醇类的重量5 30份,及水的重量10 50份。此外,上述的离型层20是涂布、硬化的有机硅混合物,如上所述,其成分如下,如果把有机聚硅氧烷的重量作为100份的话,含氢有机聚硅氧烷的重量可以为0. 1 10份, 钼螯合物的重量为0. 1 3份,及溶剂的重量为100 2000份。上述的本发明具体实施例的离型膜,其离型カ及残留胶粘率等离型特性良好,而且具有优异的防静电性能。为了提高防静电性能,如果像原来那样将防静电剂放到构成离型层20的混合物中的话,将妨碍(阻碍)离型层20的离型カ(剥离カ)及残留胶粘率等离型特性。此外,为了不妨碍离型层20的离型特性,如果降低防静电物质含量的话,防静电性能将劣化,特別是很难用于静电发生量多的IT领域产品中。但是,通过本发明的具体实施例,将防静电层30涂布在和离型层20独立的基材膜10上、形成防静电层后,不会损害离型层20的离型特性,还具有优异的防静电性能。本发明具体实施例的离型膜不仅可以用于以保护粘着剂(胶粘剂)层为目的的一般的产业用粘着带(或者胶粘带)等,还可以有效地用于IT领域的产品等。举例来说,可以有效地用于移动电话、IXD、半导体、显示器等IT领域的产品。实施例下面对本发明的实施例及对比例进行示例。下面的实施例仅仅是为了帮助理解本发明的具体实施例而提供的示例,并不是说本发明的技术范围限定于此。[实施例1]在聚对苯ニ甲酸乙ニ酯(PET)膜的一面形成有机硅离型层,在另一面形成防静电层,如图1所示,制作3层构造的离型膜试片。上述的有机硅离型层的重量配比按照有机聚硅氧烷的重量占10份、含氢有机聚硅氧烷的重量占0. 01份、钼螯合物的重量占0. 1份、及溶剂(甲苯)的重量占100份构成。而且,上述的防静电层的防静电混合物的重量配比是,作为粘着剂的丙烯酰氯树脂的重量15份、作为防静电剂的聚乙烯ニ氧噻吩(PEDOT)的重量10份,乙醇(普通酒精) 的重量30份,及水的重量45份,将防静电混合物涂布在聚对苯ニ甲酸乙ニ酯(PET)膜上形成防静电层。[实施例2]和上述的实施例1相同,将防静电层放在聚对苯ニ甲酸乙ニ酯(PET)膜和有机硅离型层之间,具有图2所示的3层构造。具体来说,在聚对苯ニ甲酸乙ニ酯(PET)膜上涂布和实施例1相同的防静电混合物,形成防静电层,之后,防在静电层上形成有机硅离型层。
[实施例3]和上述的实施例1相比较,在聚对苯ニ甲酸乙ニ酯(PET)膜的两面形成防静电层, 如图3所示,具有4层构造。具体来说,在聚对苯ニ甲酸乙ニ酯(PET)膜的两面涂布防静电混合物,形成2层的防静电层,之后,在一面形成有机硅离型层。此时,2层的防静电层使用和上述的实施例相同的防静电混合物。[对比例1]和上述的实施例1相比较,除了不形成防静电层之外,实施方式相同。具体来说, 在聚对苯ニ甲酸乙ニ酯(PET)膜的一面形成有机硅离型层,具有2层构造。[对比例2 4]和上述的对比例1相比较,除了在有机硅离型层添加防静电剂之外,实施方法相同。具体来说,在聚对苯ニ甲酸乙ニ酯(PET)膜的一面形成有机硅离型层,具有2层构造, 可是涂布有机硅离型层的时候,在涂布混合物(有机聚硅氧烷的重量为10份、含氢有机聚硅氧烷的重量为0. 01份、钼螯合物的重量为0. 1份、溶剂(甲苯)的重量为100份)中添加作为防静电剂的聚乙烯ニ氧噻吩(PEDOT)后再涂布,对比例2中聚乙烯ニ氧噻吩(PEDOT) 的重量为0. 05份,对比例3中的重量为0. 1份,对比例4中的重量为0. 5份。针对按照上述的各实施例及对比例制作的离型膜试片,如下所示測量表面电阻、 离型カ及残留胶粘率,其结果显示在下面的表1中。下面的表1中显示的多层构造的项目中的“As”表示防静电层,“PET”表示作为基材膜的聚对苯ニ甲酸乙ニ酯(PET)膜,“Si” 表示有机硅离型层。表面电阻使用Disco株式会社的表面电阻测试仪(Surface Resistance meter,型号-19781),在22°C、55% RH的恒温、恒湿条件下,对各试片的内侧和外侧进行测试。离型カ离型カ(剥离力),使用FINAT-10,首先,在各试片的有机硅离型层上附着宽 50mmX长175mm的标准带(TESA7475-丙烯酰氯类)。接着,利用FINAT试验辊QKg载荷), 以lOmm/sec的速度往返2次把标准带压在试片上后,为了让有机硅离型层和标准带充分地压紧,用2块平整的金属板夹住试片,ー边加上70g/cm2的压力,在大约23°C的温度下保持20小吋。之后,卸掉压力,4小时后把试片固定到治具后,将标准带从180度的方向按照 300mm/min的速度剥离、测试。此时,对每个试片反复测试5次,将其平均值(g/25mm)写入下面的表1中。残留胶粘率(% )将标准粘着带(No. 31B)附着到每个试片的有机硅离型层后,在22°C、55% RH的恒温、恒湿条件下,如下所示,测试残留粘着力和基础粘着力。-残留粘着力在试片的有机硅离型层上用2kg的橡胶辊往返压着1次No.31B粘着帯,在100°C温度下1加热小时处理后,从压着的样本剥离试片,对上述的No. 31B粘着带进行粘着力测试。即,将剥离、除去了试片的上述No. 31B粘着带压着、附着在金属板后,按照从180度的方向拉拽、剥离的方法测试粘着力,测试的数值作为残留粘着力。-基础粘着力和测试残留粘着力使用相同的粘着带(No.31B),可是把上述的粘着带压着、附着在金属板后,按照从180度的方向拉拽的方法测试粘着力,此时测试的数值
8作为基础粘着力。把上述测试的残留粘着力和基础粘着力按照下面的算式计算残留胶粘率(% ), 将其结果写入下表表1残留胶粘率(% )=(残留粘着力/基础粘着力)X 100表1表面电阻及离型特性的评价结果
权利要求
1.包含基材膜及离型层的离型膜,上述的离型膜是包括含有粘着剂和防静电剂的防静电层的离型膜。
2.根据权利要求1所述的离型膜,上述的防静电层中,相对于粘着剂的重量5 25份, 防静电剂的重量为1 30份。
3.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的防静电剂从聚乙炔、聚对苯撑乙烯撑 (p-Phenylene Vinylene)、聚对苯(p-Phenylene)、聚噻吩乙烯撑(Thienylene Vinylene)、 聚噻吩、聚苯胺、聚乙烯ニ氧噻吩、聚异苯并噻吩、聚吡咯、及聚苯硫醚(p-Pheny 1 ene Sulfide)构成的群中选择1种以上。
4.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的防静电层的厚度为IOnm 10μ m。
5.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的离型层是有机硅离型层。
6.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的离型层的厚度为0.05 1 μ m。
7.根据权利要求1或者2所述的离型膜,上述的防静电层在基材膜的一面或者两面上形成,上述的离型层可以在上述的防静电层上形成,或者在上述形成防静电层的基材膜的一面和相反一面形成。
8.包含基材膜及离型层的离型膜的制造方法,包含在基材膜的一面或者两面涂布含有粘着剂和防静电剂的防静电混合物、形成防静电层的步骤。
9.根据权利要求8所述的离型膜的制造方法,其中上述的防静电混合物的重量作为 100份的话,粘着剂的重量占5 25份,防静电剂的重量占1 30份,醇类的重量占5 30份,水的重量占10 50份。
全文摘要
本发明是包括基材膜及离型层的离型膜,提供包括含有粘着剂和防静电剂的防静电层的离型膜及其制造方法。上述的离型膜具有良好的离型力及残留胶粘率等离型特性,而且防静电性能优异,可以有效地使用在IT领域的产品等。
文档编号B32B27/06GK102582174SQ20111046048
公开日2012年7月18日 申请日期2011年12月28日 优先权日2010年12月28日
发明者皇甫绤, 裴钟佑, 金义城 申请人:栗村化学株式会社
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