专利名称：光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置的制作方法
技术领域：
本实用新型关于一种洁净装置，尤指一种光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置。
背景技术：
光刻制程是半导体制程图案化的重要制程技术，当导体或半导体材料层沉积于基板之后，会将光致抗蚀剂涂布于上述材料层上，利用光源通过具有图案设计的屏蔽而照射光致抗蚀剂特定区域，进而使用显影液溶解部分光致抗蚀剂，以形成阻挡蚀刻或阻挡离子布值的图案化掩膜层(mask)。光刻制程的曝光显影技术，是利用光的能量使受光源照射的光致抗蚀剂性质改变，举正型光致抗蚀剂(positive photoresist)为例，正型光致抗蚀剂曝光部分其键结被打断，可被显影液溶解，而未曝光部分则存留使影像出现，做为蚀刻的阻挡；反之，负型光致抗蚀剂(negative photoresist)感光后产生键结，变成不溶解的光致抗蚀剂；显影即是利用曝光部分及未曝光部分的光致抗蚀剂在溶解度的差别达成。
光致抗蚀剂涂布设备的洁净度在光刻制程的良率上扮演相当关键的角色，由于光致抗蚀剂材料容易附着或沉积于涂布设备的各元件上，光致抗蚀剂涂布设备容易沾染灰尘粒子或是光致抗蚀剂凝固物质，进而影响光致抗蚀剂涂布的品质；因此，为维持光致抗蚀剂涂布设备的清洁度，定期的清洁与保养就成为必须的工作；然而，光致抗蚀剂涂布设备需要清洁的元件众多，加上光致抗蚀剂黏稠的特性去除不易，清洁工作常压缩到人力与时间，且因为所使用于清洗光致抗蚀剂的有机溶剂稀释液(thinner)，其挥发大量的有机气体，更加危害从业人员的身体健康，因此清洁光致抗蚀剂涂布设备的工作，成为光刻制程中相当令人困扰的保养工作。
一般光致抗蚀剂涂布设备的洁净步骤大致如下说明于无尘室地面上先行铺设一塑胶布以及一沾有大量光致抗蚀剂稀释液的无尘擦拭布，逐步拆解喷溅光致抗蚀剂液或显影液的基座(cup)、连接基座的稀释液管、环状O形圈(Oring)、外盖(outer cover)、环状喷嘴(ring nozzle)等元件，并将上述元件放置在地面塑胶布上，并特别将光致抗蚀剂材料附着量较多、分布较为宽广的外盖以及环状喷嘴放置于沾有光致抗蚀剂稀释液的无尘擦拭布上，能使稀释液得以逐渐溶解外盖以及环状喷嘴上的光致抗蚀剂，以利后续的清洁作业；接着，洁净人员徒手以沾有光致抗蚀剂稀释液的无尘擦拭布清除上述元件附着的光致抗蚀剂；此外，光致抗蚀剂涂布设备的基座或槽体所有沟槽位置均需以人员徒手利用稀释液进行洁净工作。
光致抗蚀剂涂布设备的传统洁净过程中，无尘擦拭布所能吸附的光致抗蚀剂稀释液有限，加上需覆盖的元件面积广大，往往需要多数清洁人员才足以执行清洁光致抗蚀剂涂布设备，且光致抗蚀剂涂布设备沟槽内死角更是清洁人员徒手所不及之处；此外，在垂直层流式(down flow)的无尘室中，由于地面铺上不透气的塑胶布，会使得当区的有机挥发气体不易逸散，加上洁净时间冗长，更增加了现场操作人员吸入过多有机气体的危险性。
为此，如能创作出一清洁装置，其不仅可缩短从业人员接触有机溶剂的时间，又能兼顾保养清洁度的目的，使光致抗蚀剂涂布设备元件的洁净保养工作达到高效率，节省成本，又维护从业人员身体健康的效果，将是人们所期盼的。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，可有效率的清洗光致抗蚀剂涂布设备的元件，不仅可洁净元件中死角，更可减少保养人员暴露于有机溶剂中的时间。
本实用新型的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，包括一槽体，容置该光致抗蚀剂涂布设备的一元件及一有机溶剂；至少一气体收集器，连接于槽体；以及一气体排放管，连接至少一气体收集器；其中，至少一气体收集器收集槽体内该有机溶剂的挥发性气体。
为节省有机溶剂使用量，并配合光致抗蚀剂涂布设备的元件外型，本实用新型洁净装置中用以浸泡欲清洗元件的槽体外型不限制，较佳为一环形槽体；而本实用新型的洁净装置较佳更包括一组合于槽体的上盖，此上盖较佳的可具有复数个固定元件，使上盖与槽体组合时，可固定于槽体上，一方面避免上盖滑落，另一方面又可密封槽体，减少槽体内有机溶剂的气体外逸，其中，用以作为固定元件的结构不限，较佳的可为复数个扣环、扣勾等，且除上盖外，槽体也同样形成有对应的扣环、扣勾，以利相互扣合密封。
由于用以清洗光致抗蚀剂的稀释液多为有机溶剂，且当各元件置入环形槽体中进行清洗后，元件欲取出时，常会因为虹吸现象，而必须相当费力的拉起各元件，同时，接触槽体底面的元件也会因为被溶剂浸渍的程度不够，而导致较差的清洗效果，因此，本实用新型洁净装置的槽体底部，较佳的可具有复数个支撑架或突块，以架空各浸入的元件，不仅可使光致抗蚀剂被稀释清洗完全，也可避免从溶剂中取出各元件时的虹吸现象。
本实用新型光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置中的有机溶剂供应单元，其可供应的有机溶剂种类不限，较佳为可用以溶解光致抗蚀剂而达清洗光致抗蚀剂涂布设备元件效果的有机溶剂，如一光致抗蚀剂稀释液；而有机溶剂供应单元与槽体相连接的方式不限，较佳为以一耐有机溶剂的材质所制成的管路，以利有机溶剂输送至槽体内。
为避免槽体内的有机溶剂因过多而溢出，本实用新型的洁净装置更可包括一液面检测部分，以观测该槽体内部有机溶剂的液面高度，此液面检测部分可以是一耐酸碱的透明管，与槽体相连接，或是一形成于槽体侧壁的透明壁，以清楚看到槽体内液面的升降。
本实用新型的洁净装置上，连接槽体上复数个气体收集器的气体排放管，主要排出收集自槽体的有机溶剂的挥发气体，其较佳的连接至一抽气装置，以有效的使气体排出装置外。同时，本实用新型的槽体更可包括一排出阀，以利更换槽体内有机溶剂时，溶剂的排出。
本实用新型较佳的可与一移动装置结合成一移动式洁净装置，以利于移动至无尘室各处进行光致抗蚀剂涂布设备元件的清洗；移动装置与洁净装置可以一轴承相连接为佳，以方便洁净装置在平行放置的使用后，可利用轴承进行直立式旋转，便于收藏，不占无尘室空间；适用于本实用新型的移动装置不限，较佳为一推车，以增加本实用新型清洗装置的机动性。
根据上述方案，本实用新型设计简单，可大幅缩短人员处理的时间，提高清洗元件的效率，且连人力无法触及的元件死角均可清洗干净，同时更降低了人员暴露于有机溶剂、气体的时间，确保人员的健康。
图1为本实用新型清洗装置的结构示意图。
图2为本实用新型移动式清洗装置的示意图。
主要元件符号说明10槽体 11注入口12排出阀13液面检知元件 14支撑架15扣环20上盖 21把手 25勾环30气体收集器 40气体排放管00洁净装置50推车 51，52轴承 60有机溶剂供应单元61输送管具体实施方式
本实用新型的光致抗蚀剂涂布设备元件的洁净装置提供了一种既能简易清洗元件，维持元件洁净度，又能有效率的节省人力支出的洁净装置，且当本洁净装置不用时，又可直立收起，不占空间。
由于本洁净装置用以盛装稀释光致抗蚀剂的有机溶剂，因此适用的材料应为耐酸碱的防腐蚀材料为佳，于本实施例中，所有洁净装置主要元件均为不锈钢材料。
参考图1所示，本实用新型的洁净装置包括有一上盖20以及一槽体10，其中，上盖20设有复数个把手21，以利于动作时的搬动与装设，同时在上盖20周围并设有复数个勾环25，以于组合时，与槽体10上的复数个扣环15相互扣合，防止槽体10内溶液的泄漏与溢出。
本实施例中的清洗槽体10为一环状槽体，以利于放入光致抗蚀剂涂布设备的环状外盖、环状喷嘴等元件，此环状设计也可减少有机溶剂的使用量；此外，槽体10具一注入口11，其以一输送管61与一有机溶剂供应单元60相连通，以提供一溶剂于槽体10中；而透过位于槽体10底部的一排出阀12，可有利于有机溶剂的移出；另外，在上盖20与槽体10结合后，将无法直接看到有机溶剂液面的高度，因此于槽体10上更可加设一液面检知元件13，此元件可以是一铁氟龙的透明管，也可以整合于槽体10的壁面上，以随时监控液面高度，避免溶剂使用过量造成溢出污染。
在槽体10的底面，另设有复数个支撑元件，于本实施例中为ㄇ字型的支撑架14，此支撑架14的作用可使环状外盖、环状喷嘴等元件放入槽体10后，可与槽体10底面保持一空间，使欲洁净的元件充分浸泡到有机溶剂，达成全面清洁的效果，同时，此支撑架14也可消去环形元件在取出时产生的虹吸力，而使取出元件时更轻松不费力。
由于用以清洗残留光致抗蚀剂的稀释液为高挥发性的有机溶剂，因此传统的清洗保养大多在一隔离的房间内进行，然而，在该清洗室中操作的人员仍有可能吸入过量有机气体影响健康，因此，本实施例的洁净装置更设置了复数个气体收集器30，其与槽体10相连接，以收集来自槽体10内溶剂挥发出的有机气体，最后并透过气体排放管40将槽体内挥发性气体有效的抽至洁净装置之外，确保操作者或周边人员的健康。
实际上，光致抗蚀剂涂布设备可能遍布无尘室各区，而为使本洁净装置更具有机动性，本实用新型另设计一结合移动装置的移动式清洗装置，如图2所示，本实用新型洁净装置00架设于一移动装置上，于本实施例为一不锈钢推车50，洁净装置00与推车50之间以轴承51，52相结合，此轴承机构可使洁净装置00不用时，利于旋动整个洁净装置00，使洁净装置00成一直立状收起，不占空间；为使洁净装置00可安全稳定的架设于移动装置上，较佳地，在移动装置上设有支撑台(图未示)，以使重达几十公斤的洁净装置00与被清洗的元件可平稳的在移动装置上进行清洗。
本实用新型洁净装置的操作方法，只要将装设有洁净装置00的推车50推至欲进行清洗保养的光致抗蚀剂涂布设备附近，自有机溶剂供应单元60中，通过输送管61将一有机溶剂注入槽体10中，并拆卸下光致抗蚀剂涂布设备的欲清洗元件，一一浸入含有稀释液的清洗槽体10内，盖上上盖20并锁合，静置1-2小时之后，即可取出浸泡的元件，再一一擦去多余的稀释液即可。
上述实施例仅是为了方便说明本实用新型所作的举例而已，本实用新型所主张的权利范围应以权利要求书为准，而并不局限于上述实施例。
权利要求1.一种光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，用以洁净一光致抗蚀剂涂布设备的元件，其特征在于，包括一槽体，用以容置该光致抗蚀剂涂布设备的一元件及一有机溶剂；至少一气体收集器，连接于该槽体；一气体排放管，连接该至少一气体收集器；其中，该至少一气体收集器收集该槽体内该有机溶剂的挥发性气体。
2.如权利要求1所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该槽体包含有一上盖。
3.如权利要求1所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，更包含一有机溶剂供应单元，连接至该槽体，以供应该有机溶剂于该槽体内。
4.如权利要求3所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该有机溶剂供应单元以一管路与该槽体连接。
5.如权利要求1所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该槽体包含一排出阀，以排出该有机溶剂。
6.如权利要求1所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该槽体为一环形。
7.如权利要求2所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该上盖具有复数个使该上盖与该槽体组合时固定于该槽体上的固定元件。
8.如权利要求7所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该复数个固定元件为复数个扣环。
9.如权利要求1所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该槽体侧面更包括一液面检知元件。
10.如权利要求1所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该槽体内底部具有复数个支撑架。
11.如权利要求1所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该气体排放管连接至一抽气装置。
12.如权利要求1所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该有机溶剂为一光致抗蚀剂稀释剂。
13.如权利要求1所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，其与一移动装置结合成一移动式清洗装置。
14.如权利要求13所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该移动装置与该清洗装置以一轴承相连接。
15.如权利要求13所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，位于该移动装置上的该洁净装置在收起状态成一直立式。
16.如权利要求13所述的光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，其特征在于，该移动装置为一推车。
专利摘要本实用新型有关于一种光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，包括一槽体，容置该光致抗蚀剂涂布设备的一元件及一有机溶剂；至少一气体收集器，连接于该槽体；以及一气体排放管，连接该至少一气体收集器；其中，该至少一气体收集器收集该槽体内该有机溶剂的挥发性气体。本实用新型的洁净装置可有效率的清洗光致抗蚀剂涂布设备的元件，不仅可洁净元件中死角，更可减少保养人员暴露于有机溶剂中的时间。
文档编号G03F7/26GK2888496SQ20062000044
公开日2007年4月11日 申请日期2006年1月9日 优先权日2006年1月9日
发明者张益彰, 董陵祥, 孙秉权, 陈新豪 申请人:广辉电子股份有限公司