曝光方法及装置、维护方法、以及组件制造方法

专利名称：曝光方法及装置、维护方法、以及组件制造方法
技术领域：
国际y〉开第99/49504号小册子
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发明内容
本发明第八形态提供一种使村底(P)啄光的曝光方法，其特 征在于包括在保持于衬底载台的衬底上，通过液浸机构(IO等)用液 体填满啄光用光(EL)的光路空间；用上迷啄光用光经由上述液体使上 述衬底曝光(SS1);及在不进行上述衬底的曝光的期间，对上述液浸机 构的上述液体供给口 (13、 14)及回收口 (23A - 23D)的至少 一方供给洗 净用液体(1A)(SS2)。另外，附加于以上本发明的规定组件的带括号符号，对应 于表示本发明一种实施形态的附图中的构件，各符号只不过是为了容 易了解本发明，来例示本发明的组件，而并非将本发明限定于其实施 形态的结构。在衬底载台PST上的衬底保持具PH上设有反射镜55B， 在与反射镜55B相对的位置设有激光干涉仪56B。反射镜55B实际上 如图8 (A)所示，由X轴的反射镜55BX及Y轴的反射镜55BY构 成，激光干涉仪56B也由X轴的激光干涉仪56BX及Y轴的激光干涉 仪56BY构成。回到图l,衬底载台PST上的衬底保持具PH(衬底P) 的二维方向位置及旋转角，通过激光干涉仪56B实时计测，计测结果 输出至控制装置CONT。控制装置CONT依据其计测结果，驱动衬底 载台驱动装置PSTD，来进行被衬底载台PST支撑的衬底P的移动或 定位。另外，激光干涉仪56B也可计测衬底载台PST的Z方向位置 及eX、 0Y方向的旋转信息，其详细内容如^>开于日本特表2001 -510577号公报(对应的国际公开第1999/28790号小册子)。另外，也可 取代反射镜55B，而使用如将衬底载台PST或衬底保持具PH的侧面 等实施镜面加工而形成的反射面。
0033此外，在衬底保持具PH上，以包围衬底P的环状而"&有 平面的板部97。板部97的上面是与被衬底保持具PH保持的衬底P 的表面大致相同高度的平坦面。在本例中，该平坦面为疏液性。此处， 在衬底P的边缘与板部97之间有O.l-lmm程度的间隙，不过在本例 中，因为衬底P的抗蚀剂为疏液性，且液体l具有表面张力，所以液 体l几乎不流入到其间隙，即使膝光衬底P周缘附近时，仍可在板部 97与投影光学系统PL之间保持液体1。另外，本例的流入板部97与 衬底P间隙的液体1，可通过图5所示的吸引装置50，而排出于衬底 保持具PH的外部(详细于后述)。因此，衬底P的抗蚀剂(或上涂层) 也可不为疏液性。此外，本例是在衬底保持具PH上设有板部97，不过，也可将包围衬底P的衬底保持具PH的上面实施疏液化处理，而 形成平坦面。回到

图1，流路形成构件30在其内部具有连通于回收口 23A 23D(参照图3)的回收流路84(84A、 84B、 84C、 84D)。另外，回 收流路84B、84D(未图示)是用于连通图3的非扫描方向的回收口 23B、 23D与图2的回收管22B、 22D的流路。回收流路84A 84D的另一端 部经由图2的回收管22A 22D分别连通于液体回收部21。在本例中， 流路形成构件30构成液体供给机构10及液体回收机构20的各个的一 部分。即，流路形成构件30是本例的液浸机构的一部分。另外，液浸 机构的一部分，如至少流路形成构件30也可吊挂支撑于保持投影光学系统PL的主框架(包含前述镜筒平台)，也可设于与主框架不同的框架 构件。或是，如前所述吊挂支撑投影光学系统PL的情况下，也可与 投影光学系统PL —体地吊挂支撑流路形成构件30，也可在与投影光 学系统PL分开而吊挂支撑的计测框架上设置流路形成构件30。为后 者的情况下，也可不吊挂支撑投影光学系统PL。以下，参照图5及图6，详细说明图1中的衬底保持具PH 的结构。图1是吸附保持虚拟衬底CP状态下的衬底保持具PH的侧 剖面图，图6是图5的重要部分放大图。
如图5所示，衬底保持具PH具备基部PHB;及形成于该基部 PHB上，吸附保持虚拟衬底CP(或啄光对象的衬底P,以下相同)的保 持部PH1。保持部PH1具备形成于基部PHB上，支撑虚拟衬底CP 的背面CPb，且上面46A为平坦的小圆锥状的多数支撑部46;及形 成于基部PHB上，与虛拟衬底CP的背面CPb相对，包围多数支撑 部46而设置的圆周状的周壁部(边缘部)42。保持部PH1配置于形成于 衬底保持具PH并收纳虛拟衬底CP的凹部97a内。另外，本例对应于进行经由投影光学系统PL与液体1通 过曝光用光EL来曝光衬底P的液浸曝光，而使用曝光用光EL计测 时所使用的上述照度不均传感器、照度监视器、空间图像计测器、波 面像差计测器等，经由投影光学系统PL及液体1而接收曝光用光EL。 因此，在板101的表面施有疏液涂层。此外，本例将上述多个计测器 的至少一个与基准标记作为计测用构件而i殳于计测台MTB，不过，计测用构件的种类及/或数量等不限于此。计测用构件也可设置如计测投
影光学系统PL的透射率的透射率计测器及/或观察前述液浸机构8、 如流路形成构件30(或光学元件2)等的计测器等。另外，上述计测器 也可仅将其一部分设于计测载台MST，其余设于计测栽台MST的外 部。此外，也可将与计测用构件不同的构件，如清扫流路形成构件30、 光学元件2等的清扫构件等搭载于计测载台MST上。另外，也可将 计测用构件及清扫构件等设于计测载台MST上。此时，计测载台MST 如在更换衬底P时等，为了维持该的液浸区域AR2，通过与衬底栽台 PST更换，而与投影光学系统PL相对来配置。
如以上所述，本专利实施形态的曝光装置EX、 EX，，以保 持规定机械性精度、电气性精度及光学性精度，而组装包含本专利申 请的范围内所列举的各构成要素的各种子系统来制造。为了确保这些 各种精度，而在该组装的前后，就各种光学系统，进行用于达成光学性精度的调整，就各种机械系统，进行用于达成机械性精度的调整， 就各种电气系统，进行用于达成电气性精度的调整。自各种子系统对
曝光装置的组装步骤，包含各种子系统相互的机械性连接、电气电 路的配线连接及气压管路的配管连接等。在从各种子系统对曝光装置 组装步骤之前，当然有各子系统各个的组装步骤。在各种子系统对啄 光装置的组装步骤结束后，进行综合调整，来确保整个膝光装置的各 种精度。另外，曝光装置的制造，必须在管理温度及洁净度等的洁净 室中进行。
[0143就公开于本专利说明书的各种美国专利及美国专利申请公 开文件，除特别援用表示之外，在指定国或选择国的法令容许的范围 内，也援用这些公开作为本文的一部分。
[0144采用本发明的爆光方法及組件制造方法时，由于液浸区域 的液体中的杂质量减少，因此，制造的组件的良率提高。所以，本发 明在包含我国的半导体产业的精密机器产业的发展上一定有显著贡 献。
权利要求
1.一种使衬底曝光的曝光方法，其特征在于包括在保持于衬底载台的上述衬底上形成液浸区域，用曝光用光经由上述液浸区域的液体来使上述衬底曝光；及在不进行上述衬底的曝光的期间，相对移动上述液浸区域与上述衬底载台，以洗净上述衬底载台。
2. 根据权利要求1所述的膝光方法，其特征在于 使用规定的洗净用液体形成上述液浸区域。
3. 根据权利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于 上述衬底载台具有保持部，保持上述衬底；及平坦面，配置在上述保持部的周围，且与用上述保持部保持的衬 底的表面大致平行，上述洗净时，在上述平坦面上形成上迷液浸区域的至少一部分的 状态下，相对移动上述液浸区域与上述衬底载台。
4. 根据权利要求3所述的曝光方法，其特征在于 在上述洗净时，上述保持部保持平板状的虛拟衬底。
5. 根据权利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于 在上述洗净时，保持上述衬底载台的上述衬底的保持部，其周围的平坦面与上面被大致平行的虛拟衬底覆盖。
6. 根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于 相对移动上述液浸区域与上述衬底栽台以使上述液浸区域的至少一部分实质上仅在上述虚拟衬底上移动。
7. 根据权利要求4至6中的任一项所述的曝光方法，其特征在于 上述虛拟衬底的至少上面为疏液性，且在上述上面形成有多个亲液性的槽部。
8. 根据权利要求1至7中的任一项所述的啄光方法，其特征在于 相对移动上述液浸区域与上述衬底载台以便在上述洗净时在上述衬底载台上的上述液浸区域的移动范围的至少一部分与上述曝光时 不同。
9. 根据权利要求1至8中的任一项所述的曝光方法，其特征在于 相对移动上述液浸区域与上述衬底载台以使垂直于上述膝光用光的光轴的方向的速度及加速度的至少一方比在上述衬底曝光时大。
10. 根据权利要求1至9中的任一项所述的瀑光方法，其特征在于 相对移动上述液浸区域与上述衬底载台以使平行于上述爆光用光的光轴的方向的速度及行程的至少一方比在上述衬底曝光时大。
11. 根据权利要求1至10中的任一项所述的曝光方法，其特征在于在与上述衬底栽台可独立地移动的计测载台上形成上述液浸区 域，相对移动上述液浸区域与上述计测载台以洗净上述计测载台。
12. 根据权利要求11所述的曝光方法，其特征在于 为了洗净上述衬底载台及上述计测载台，使上述衬底栽台与上述计测载台接近，在上述衬底载台与上述计测载台的边界部形成上述液 浸区域，使上述衬底载台与上述计测栽台在沿着边界线的方向上，以 反相位相对地振动。
13. 根据权利要求1至12中的任一项所述的曝光方法，其特征在于在上述洗净时，沿着进行上述衬底的曝光时的上述衬底载台的移 动轨迹以外的轨迹，相对上述液浸区域移动上述衬底载台。
14. 根据权利要求13所述的膝光方法，其特征在于 在上述洗净时，沿着上述衬底对准时或在上述衬底啄光前后移动上述衬底载台时的轨迹移动上述衬底载台。
15. 根据权利要求1至14中的任一项所述的曝光方法，其特征在于在上述洗净时回收上述液浸区域的液体。
16. 根据权利要求1至15中的任一项所述的膝光方法，其特征在于上述膝光用光经由光学构件及上述液体而照射于上述衬底， 以液体填满上述衬底与上述光学构件间的上述膝光用光的光路空间，而在上述衬底载台上形成包含上述曝光用光的照射区域的局部的液浸区域。
17. 根据权利要求16所述的膝光方法，其特征在于使用用于进行对上述液浸区域供给及回收液体的至少一方的液 浸构件，在上述衬底载台的洗净时，也进行上述液浸构件的洗净。
18. 根据权利要求1至17中的任一项所述的曝光方法，其特征在于在不进行上述衬底的曝光的期间，对上述液浸区域供给洗净用液体。
19. 根据权利要求18所述的曝光方法，其特征在于 上述洗净用液体是在上述啄光时所形成的液浸区域的液体中混入规定溶剂而构成的洗净用液体，或是与上述液体不同的液体。
20. 根据权利要求18或19所述的膝光方法，其特征在于 上述洗净用液体经由供给上述液体的液体供给机构供给至上述液浸区域。
21. 根据权利要求1至20中的任一项所述的曝光方法，其特征在于在上述洗净时，以虛拟衬底覆盖上述衬底载台的保持上述衬底的 保持部，并且在上述衬底载台侧回收液体。
22. 根据权利要求21所述的曝光方法，其特征在于 回收在上述衬底载台经由上述虚拟衬底与其周围平坦面的间隙而流入的液体o
23. 根据权利要求21或22所述的曝光方法，其特征在于 上述虚拟衬底的上面为疏液性，且与上述平坦面大致为同一面高。
24. 根据权利要求1至23中的任一项所述的曝光方法，其特征在于在上述洗净时将上述曝光用光照射于上述衬底载台侧。
25. 根据权利要求1至24中的任一项所述的膝光方法，其特征在于在上述洗净时使上述衬底载台在与上述瀑光用光的光轴平行的方向上振动。
26. 根据权利要求1至25中的任一项所述的曝光方法，其特征在于在上述洗净时以超音波使上述液浸区域的液体振动。
27. —种经由光学构件及液体用爆光用光使衬底曝光的膝光方 法，其特征在于包括将与液体接触的可动构件与上述光学构件对向配置；及将形成于上述光学构件与上述可动构件之间的洗净用液体的液 浸区域与上述可动构件相对移动，以洗净上述可动构件。
28. 根据权利要求27所述的啄光方法，其特征在于 上述洗净用液体，与上述曝光时形成于上述光学构件与上述衬底间的液浸区域的液体相同。
29. 根据权利要求27项或第28所述的曝光方法，其特征在于 上述可动构件包含保持上述衬底的衬底载台、及/或与上述衬底栽台可独立移动的计测载台。
30. 根据权利要求27至29中的任一项所述的曝光方法，其特征在于在上述洗净动作与上述膝光动作中，使上述可动构件的移动轨迹 的至少一部分不同。
31. —种经由液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装置，其特征在 于包括衬底载台，保持上述衬底；液浸机构，对上述衬底上供给液体以形成液浸区域；及控制装置，在不进行上述衬底的曝光的期间，为了洗净上述衬底 载台而相对移动上述液浸区域与上述衬底载台。
32. 根据权利要求31所述的膝光装置，其特征在于 上述衬底载台具有保持部，保持上述衬底；及平坦面，配置于上述保持部的周围，且与用上述保持部保持的衬 底的表面大致平行，上述控制装置，在上述平坦面上形成上述液浸区域的至少一部分 的状态下，相对移动上述液浸区域与上述衬底载台。
33. 根据权利要求32所述的曝光装置，其特征在于 在上述洗净时，以平板状的虛拟衬底覆盖上述保持部。
34. 根据权利要求33所述的曝光装置，其特征在于 上述虚拟衬底的至少上面为疏液性，且在上述上面形成有多个亲液性的槽部。
35. 根据权利要求31至34中的任一项所述的膝光装置，其特征在于上述控制装置具有第一模式，进行上述衬底的曝光；及第二模式，相对移动上述液浸区域与上述衬底载台以使垂直于上 述啄光用光的光轴的方向的速度及加速度的至少一方比在上述第一模 式时大。
36. 根据权利要求35所述的曝光装置，其特征在于 上述控制装置具有第三模式，相对移动上述液浸区域与上述衬底载台以使平行于上述膝光用光的光轴的方向的速度及行程的至少一方比在上述第一模式 时大。
37. 根据权利要求31至36中的任一项所述的曝光装置，其特征在 于包括计测载台，与上述衬底载台独立地移动，上述控制装置在不进行上述衬底的膝光的期间，在上述计测载台 上形成液浸区域，相对移动上述液浸区域与上述计测载台，来执行上 述计测载台的洗净。
38. 根据权利要求37所述的曝光装置，其特征在于 上述控制装置为了洗净上述衬底载台及上述计测载台，而使上述衬底载台与上述计测载台接近，在上述衬底载台与上迷计测载台的边 界部形成上述液浸区域，使上述衬底载台与上述计测栽台在沿着边界 线的方向上，以反相位相对地振动。
39. 根据权利要求31至38中的任一项所述的膝光装置，其特征在于上述液浸机构包含 液体供给机构，供给上述液体；及 液体回收机构，回收上述供给的液体。
40. 根据权利要求39所述的曝光装置，其特征在于 上述液浸机构包含用于进行对上述液浸区域供给及回收液体的至少一方的液浸构件；在上述衬底载台洗净时，也进行上述液浸构件的洗净。
41. 根据权利要求31至40中的任一项所述的啄光装置，其特征在于上述液浸机构具有第一液体供给机构，供给上迷液体；及 第二液体供给机构，供给包含规定溶剂的洗净用的液体， 在上述洗净时，上述第二液体供给机构对上述衬底载台上供给上 述洗净用液体。
42. 根据权利要求41所述的曝光装置，其特征在于 上述第二液体供给机构具有混入机构，在自上述第一液体供给机构供给的液体中混入上述规 定的溶剂，上述洗净用液体在上述曝光时形成的液浸区域的液体中混入上 述规定的溶剂。
43. 根据权利要求31至42中的任一项所述的曝光装置，其特征在于上述衬底载台具有保持上述衬底的保持部，在上述洗净时，可将用于覆盖上述保持部的平板状的虚拟村底与 上述衬底更换。
44. 根据权利要求31至43中的任一项所述的曝光装置，其特征在于在上述洗净时，上述衬底载台以虚拟衬底覆盖保持上述衬底的保持部；且包括回收部，其至少一部分设于上述衬底载台，而回收经由上述虛拟 衬底与其周围的平坦面的间隙而流入的液体。
45. 根据权利要求43或44所述的曝光装置，其特征在于 上述虛拟衬底的上面为疏液性，且与上述平坦面大致为同一面。
46. 根据权利要求31至45中的任一项所述的曝光装置，其特征在于上述控制装置在上述洗净动作中使上述曝光用光发光。
47. 根据权利要求31至46中的任一项所述的膝光装置，其特征在于上述衬底载台具有 保持部，保持上述衬底； 平坦面，设于上述保持部的周围；及 可在与上述膝光用光的光轴平行的方向上移动的台， 上述控制装置在上述洗净动作中，使上述台在与上述光轴平行的 方向上振动。
48. 根据权利要求31至47中的任一项所述的曝光装置，其特征在 于包括振子，在上述洗净时，用超音波使上述液浸区域的液体振动。
49. 一种经由光学构件及液体用曝光用光使衬底曝光的曝光装 置，其特征在于包括可动构件，与上述光学构件相对配置，且与上迷液体接触； 液浸机构，在上述光学构件与上述可动构件之间形成洗净用液体 的液浸区域；及控制装置，为了洗净上述可动构件，而相对移动上述液浸区域与 上述可动构件。
50. 根据权利要求49所述的曝光装置，其特征在于 上述洗净用液体与上述瀑光时形成于上述光学构件与上述衬底间的液浸区域的液体相同。
51，根据权利要求49或50所述的曝光装置，其特征在于 上述可动构件包含 保持上述衬底的衬底载台；及/或 与上述衬底载台可独立移动的计测载台。
52. 根据权利要求51所述的曝光装置，其特征在于 在上述衬底载台洗净时，上述衬底载台用保持上述衬底的保持部来保持覆盖构件。
53. 根据权利要求49至52中的任一项所迷的膝光装置，其特征在于上述控制装置在上述洗净动作与上述瀑光动作时使上述可动构 件的移动轨迹的至少一部分不同。
54. 根据权利要求49至53中的任一项所述的曝光装置，其特征在于上述控制装置在不进行上述衬底的瀑光的期间，执行上述洗净动作。
55. —种曝光装置的维护方法，上述啄光装置在保持于衬底载台 的衬底上形成液浸区域，用曝光用光经由上述液浸区域的液体使上述 衬底曝光，所述维护方法的特征在于与进行对上述液浸区域供给及回收液体的至少其中 一方的液浸 构件对向配置上述衬底栽台；及在不进行上述衬底的膝光的期间，相对移动上述液浸区域与上述 衬底载台，来洗净上述液浸构件及上述衬底栽台的至少一方。
56.根据权利要求55所述的维护方法，其特征在于:上述衬底载台具有 保持部，保持上述衬底；及平坦面，配置于上述保持部的周围，且与用上述保持部保持的衬 底的表面大致平行，在上述洗净时，在上述平坦面上形成上述液浸区域的至少一部分 的状态下，相对移动上述液浸区域与上述衬底载台。
57，根据权利要求56所述的维护方法，其特征在于 在上述洗净时，上述保持部保持平板状的虛拟衬底。
58. 根据权利要求55至57中的任一项所述的维护方法，其特征在于在上述洗净时，相对移动上述液浸区域与上述衬底载台以使垂直 于上述曝光用光的光轴的方向的速度及加速度的至少一方比在上述衬 底膝光时大。
59. 根据权利要求55至58中的任一项所述的维护方法，其特征在于在上述洗净时，相对移动上述液浸区域与上述衬底载台以使平行 于上述啄光用光的光轴的方向的速度及行程的至少一方比在上述衬底 膝光时大。
60. 根据权利要求55至59中的任一项所述的维护方法，其特征在于上述曝光装置具备与上述衬底栽台可独立移动的计测载台， 在上述计测载台上形成上述液浸区域，相对移动上述液浸区域与 上述计测载台，以洗净上述计测载台。
61. 根据权利要求60所述的维护方法，其特征在于为了洗净上述衬底栽台及上述计测载台，而使上述衬底载台与上 述计测载台接近，在上述衬底载台与上述计测载台的边界部形成上述 液浸区域，使上述衬底载台与上述计测载台在沿着边界线的方向上， 以反相位相对地振动。
62. 根据权利要求55至61中的任一项所述的维护方法，其特征在于上述膝光装置具备液体回收机构，回收上述液浸区域的液体， 所述维护方法包含在上述洗净时回收上述液浸区域的液体。
63. 根据权利要求55至62中的任一项所述的维护方法，其特征在于在不进行上述衬底的瀑光的期间，对上述液浸区域供给洗净用液体。
64. 根据权利要求63所述的维护方法，其特征在于 上述洗净用液体在上述膝光时所形成的液浸区域的液体中混入规定溶剂而构成的洗净用的液体，或是与上述液体不同的液体。
65. —种曝光装置的维护方法，上述曝光装置经由光学构件及液 体用曝光用光使衬底曝光，所述维护方法的特征在于包括将与上述液体接触的可动构件与上述光学构件对向配置；及 将形成于上述光学构件与上述可动构件之间的洗净用液体的液 浸区域与上述可动构件相对移动，以洗净上述可动构件。
66. 根据权利要求65所述的维护方法，其特征在于 上述洗净用液体与上述啄光时形成于上述光学构件与上述衬底间的液浸区域的液体相同。
67. 根据权利要求65或66所述的维护方法，其特征在于 上述可动构件包含 保持上述衬底的衬底载台；及/或 与上述衬底载台可独立移动的计测载台。
68. 根据权利要求67所述的维护方法，其特征在于 在上述衬底载台洗净时，上述衬底载台用覆盖构件覆盖上述衬底栽台的保持上述衬底的保持部。
69. 根据权利要求65至68中的任一项所述的维护方法，其特征在于在上述洗净动作与上述膝光动作时使上述可动构件的移动轨迹 的至少一部分不同。
70. 根据权利要求65至69中的任一项所述的维护方法，其特征在于在不进行上述衬底的曝光的期间执行上述洗净动作。
71. —种使衬底曝光的啄光方法，其特征在于包括 在保持于衬底载台的衬底上，用液体填满曝光用光的光路空间； 用上述曝光用光经由上述液体使上述衬底曝光；及 在不进行上迷衬底的曝光的期间，对上述衬底载台供给用超音波振动的洗净用液体。
72. —种使衬底啄光的曝光方法，其特征在于包括 在保持于衬底载台的衬底上，通过液浸机构用液体填满曝光用光的光路空间；用上述曝光用光经由上述液体使上述衬底曝光；及 在不进行上述衬底的曝光的期间，对上述液浸机构的上述液体供 给口及回收口的至少一方供给洗净用液体。
73. 根据权利要求72所述的曝光方法，其特征在于 上述洗净用液体用超音波振动。
74. 根据权利要求72或73所述的曝光方法，其特征在于 在通过上述洗净用液体洗净上述衬底载台时，移动上述衬底载台。
75. —种经由液体用膝光用光使衬底上的多个区域曝光的曝光方 法，其特征在于包括一边使保持上述衬底的可动体在第一路径移动， 一边经由上述液 体而对上述多个区域的每个区域曝光；及通过使保持虚拟衬底的可动体在与上述第一路径不同的第二路 径移动，而用上述液体或洗净液洗净上述可动体。
76. 根据权利要求75所迷的曝光方法，其特征在于 上述第二路径被决定成在上述曝光时上述液体接触的上述可动体上的区域会被上述液体或洗净液洗净。
77. 根据权利要求75或76所述的曝光方法，其特征在于 上述第二路径包含上述第 一路径的至少 一部分的路径。
78. 根据权利要求75至77中的任一项所述的膝光方法，其特征在于用上述液体或洗净液洗净上述可动体时，上述曝光用光不照射于 虚拟衬底。
79. 根据权利要求75至78中的任一项所述的曝光方法，其特征在于上述液体或洗净液被实质地维持于比上述衬底全面积小且比上 述衬底上的一个区域大的区域内。
80. —种组件制造方法，其特征在于包括使用权利要求1至30、权利要求71至79中的任一项所述的曝光 方法使衬底膝光；显影膝光后的衬底；及 加工显影后的衬底。
81. —种使村底曝光的曝光装置，其特征在于包括 液浸机构，在保持于衬底载台的衬底上，以液体填满膝光用光的光路空间；超音波振子，设于上述液浸机构的上述液体供给口的附近；及 控制装置，控制上述超音波振子，以便在不进行上述衬底的曝光的期间，对上述衬底载台上供给通过上述超音波振子的超音波而振动的洗净用液体。
82. —种使村底啄光的膝光装置，其特征在于包括 液浸机构，包含在保持于衬底栽台的衬底上供给液体至曝光用光的光路空间的第 一液体供给机构；第二液体供给机构，设于上述衬底载台侧，用于供给洗净用液体；超音波振子，用超音波使上述洗净用液体振动；及控制装置，控制上述超音波振子，以在不进行上述衬底的啄光的期间，对上述液浸机构的供给口及回收口的至少 一方供给通过上述超音波振子的超音波而振动的洗净用液体。
83. —种经由液体使衬底曝光的咏光装置，其特征在于包括 液浸机构，在保持于衬底载台的衬底上用液体填满曝光用光的光路空间；及在不进行上述衬底的啄光的期间，对上述液浸机构的上述液体供 给口及回收口的至少一方供给洗净用液体的装置。
84. 根据权利要求83所述的曝光装置，其特征在于包括 用超音波振动上述洗净用液体的超音波振子。
85. 根据权利要求83或84所述的曝光装置，其特征在于包括 控制装置，在利用上述洗净用液体洗净上述衬底载台时，移动上述衬底载台。
86. —种经由光学构件及液体用膝光用光使村底曝光的瀑光装 置，其特征在于包括可动构件，与上述光学构件对向配置；及洗净装置，具有设于上述可动构件的振子，用通过上述振子而振 动的洗净用液体洗净与上述液体接触的构件。
87. 根据权利要求86所述的曝光装置，其特征在于 上述洗净用液体包含上述液体。
88. 根据权利要求86或87所述的曝光装置，其特征在于包括 用于形成上述液体的液浸区域的液浸构件， 与上述液体接触的构件至少包含上述液浸构件。
89. —种组件制造方法，其特征在于包括使用权利要求31至54及权利要求81至88中的任一项所述的膝 光装置使衬底曝光；显影曝光后的衬底；及 加工显影后的衬底。
全文摘要
本发明的曝光方法是在投影光学系统PL的像面侧移动的衬底载台PST上的衬底保持具PH上保持衬底P，使用从液体供给机构(10)供给的液体(1)，在投影光学系统PL的像面侧形成液浸区域AR2，而以曝光用光EL经由投影光学系统PL与液浸区域AR2来曝光衬底P。在不进行衬底P的曝光的期间，将液浸区域AR2与衬底载台PST相对移动，来洗净衬底保持具PH上部，并且将液浸区域AR2与计测载台MST相对移动，来洗净计测载台MST上部。可使用洗净液作为洗净时形成液浸区域AR2的液体。用液浸法进行曝光时，可抑制杂质混入液体中，并以高生产率执行高解像度的液浸曝光。
文档编号G03F7/20GK101410948SQ20078001103
公开日2009年4月15日 申请日期2007年5月18日 优先权日2006年5月18日
发明者中野胜志 申请人:株式会社尼康