专利名称：平版印刷版载体和预制感光版的制作方法
技术领域：
本发明涉及平版印刷版载体和预制感光版。
背景技术：
广泛使用的常规预制感光版包括用于平版印刷版的亲水性铝载体(以下称为" 平版印刷版载体")以及设置在载体上的亲油性感光层。将这样的预制感光版通过制版胶片(lith film)进行掩模曝光，然后进行用于溶解非图像区域以将它们移除的显影处理，以获得所需的平版印刷版。近年来，计算机直接制版(computer-to-plate) (CTP)技术也被用于在没有制版胶片的情况下通过如下方法制备平版印刷版根据数字化图像信息，使用高方向性的光如激光束进行扫描。上述的平版印刷版载体是通过如下获得的将铝板进行诸如砂目化处理和阳极氧化处理的这些处理。在载体的制备中，阳极氧化处理之后可以进行使用水蒸汽的封孔处理，以提高各种性能。作为一个实例，JP 04-176690A公开了封孔处理在"在100°C和1个大气压的蒸汽饱和室中"中进行(第9页)。JP 59-114100A公开了在阳极氧化处理之后在以下条件下进行使用水蒸汽的处理温度为120°C，水蒸汽压力为700托，并且处理时间为10秒(第9页上的表2)。
发明内容
已知的是，如果使用通过将长时间储存的预制感光版进行曝光和显影处理而得到的平版印刷版进行印刷，可能产生圆形形状的图像遗失(也被称为"圆形消除(round clear)〃 )。作为对这种图像遗失研究的结果，本发明人发现，可能在长时间储存的预制感光版的感光层中形成直径为约100 μ m的凸出部(bulge)，并且在预定要成为图像区域的曝光区域中形成的凸出部引起感光层的不充分聚合，从而在显影处理后带来非图像部分，即，使得产生图像遗失。本发明人还研究了在感光层中形成的凸出部。已经发现，如图IA中所示，作为存在于平版印刷版载体中的金属铝(Al) 101和阳极氧化膜102之间的界面处的杂质的碳化铝 (Al4C3) 103与通过阳极氧化膜102供给的水(H2O)反应，从而产生氢氧化铝(Al (OH) 3) 104， 这由下式表示:A14C3+12H20 — 4(Al (0H)3)+3CH4。如图IB中所示，氢氧化铝104生长(体积增加)，从而穿过阳极氧化膜102并且以帐篷形方式推动感光层105，这样形成了凸出部。根据本发明人的发现，即使碳化铝浓度被限制为低于lOppm，也可能形成直径为约 100 μ m的凸出部并且使得产生约100 μ m的微观图像遗失。会与碳化铝反应的水被认为源自在平版印刷版载体的制备中进行的砂目化处理、 阳极氧化处理等之后的水漂洗处理。
穿过在可渗透水分的平版印刷版载体上形成的感光层或保护层的水分也被认为与碳化铝反应。在这些情形下，本发明人最近研究了如JP 04-176690A和JP 59-114100A中公开的这些使用水蒸汽的处理对导致图像遗失的凸出部的影响。作为研究的结果，发现，如果将已经进行阳极氧化处理的铝板进行用于使板与约100°c的水蒸汽接触的处理，则没有抑制引起图像遗失的凸出部的形成，此外，在阳极氧化膜上产生由一水合氧化铝形式的勃姆石 (Al2O3 · H2O或AlO(OH))构成的凸起(protrusions)(以下也被称为"勃姆石凸起")，从而导致更差的耐污渍性(resistance to scumming)。本发明的一个目的是提供一种平版印刷版载体，其使得可以获得产生平版印刷版的预制感光版，所述平版印刷版表现出高耐污渍性，并且其中抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。为了达到上述目的，本发明人进行了勤勉的研究，并且发现，通过下列方法提高耐污渍性和抑制导致图像遗失的凸出部的形成制备平版印刷版载体使得勃姆石凸起可以存在于微孔中，同时在阳极氧化膜上的勃姆石凸起的平均高度可以下降至低于某个值。换言之，本发明提供如下(1)至(4)中所述的平版印刷版载体和预制感光版。(1) 一种平版印刷版载体，所述平版印刷版载体包括铝板和设置在所述铝板上的铝的阳极氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在所述阳极氧化膜中从与面向所述铝板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸，其中所述微孔的内部被由勃姆石构成的凸起至少部分地封孔，并且位于所述阳极氧化膜上的由勃姆石构成的凸起的平均高度小于15nm。(2)根据(1)所述的平版印刷版载体，其中所述微孔的平均孔径(d)和用于将所述微孔进行封孔的所述凸起的平均高度(h)使得所述平均高度与所述平均孔径的比率(h/ d)不小于0.2，所述用于将所述微孔进行封孔的所述凸起的平均高度(h)是在孔径方向上测量的。(3) 一种预制感光版，所述预制感光版包括根据(1)或(2)所述的平版印刷版载体和设置在所述载体上的感光层，其中所述感光层含有㈧增感染料、(B)聚合引发剂、(C) 可聚合化合物和(D)粘合剂聚合物。(4)根据(3)所述的预制感光版，所述预制感光版包括保护层，所述保护层设置在所述感光层上。根据本发明，可以提供平版印刷版载体，其使得可以获得产生平版印刷版的预制感光版，所述平版印刷版表现出高耐污渍性，并且其中抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。
在附图中图IA和IB各自是常规的预制感光版的示意性横截面图，其中图IA显示在形成凸出部之前的状态，并且图IB显示在形成凸出部之后的状态；图2是使用通过本发明的平版印刷版载体制备方法获得的平版印刷版载体的预制感光版的示意性横截面图3是显示在本发明的平版印刷版载体制备方法中用于电化学砂目化处理的交流电的示例性波形的图；图4是显示适合使用交流电并且在本发明的平版印刷版载体制备方法中进行的电化学砂目化处理的径向型槽(radial-type cell)的一个实例的示意图；图5是显示在本发明的平版印刷版载体的制备过程中进行的机械砂目化处理中使用的刷擦砂目化方法的概念的示意图；和图6是本发明的平版印刷版载体的一部分的示意性横截面图。
具体实施例方式本发明的平版印刷版载体是这样的平版印刷版载体，其包括铝板和设置在铝板上的铝的阳极氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在阳极氧化膜中从与面向铝板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸。在本发明载体中，所述微孔的内部被由勃姆石构成的凸起至少部分地封孔，并且位于阳极氧化膜上的由勃姆石构成的凸起的平均高度小于15nm。首先，说明适合获得本发明的平版印刷版载体的制备平版印刷版载体的方法(以下也被称为"本发明的平版印刷版载体制备方法")。<平版印刷版载体制备方法>本发明的平版印刷版载体制备方法是这样的平版印刷版载体制备方法，其中将铝板进行阳极氧化处理，以获得平版印刷版载体，并且该方法包括进行阳极氧化处理的步骤，以及在阳极氧化处理步骤之后，使用水蒸汽进行处理的步骤，其中使铝板与温度为130 至350°C的水蒸汽接触。下面，首先描述在本发明的平版印刷版载体制备方法中使用的铝板，然后详细描述制备方法的各个步骤。< 铝板 >要使用的铝板由尺寸稳定的铝基金属组成，S卩，由铝或铝合金组成。从纯铝板、含有少量的一种或多种合金化元素的铝合金板和其上层压或蒸镀铝(铝合金)的塑料膜或纸中进行选择。还选择如JP 48-18327B中所述的铝片材与聚对苯二甲酸乙二醇酯膜结合的复合片材。在下面的描述中，如上所述的由铝或铝合金组成的板统称为"铝板"。在铝合金板中所含的一种或多种合金化元素示例为硅、铁、锰、铜、镁、铬、锌、铋、镍和钛，并且合金化元素含量不高于10重量％。铝板适宜地为纯铝板，但是它可以含有痕量的异种元素，因为绝对纯的铝由于精炼技术而难以制备。这样的铝板可以由常规使用的已知材料，例如JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A3103 或 JIS A 3005 材料组成。铝板另外含有碳化铝(Al4C3)作为不可避免的杂质。铝板的碳化铝浓度优选不高于15ppm，更优选不高于lOppm，因为在该范围内的浓度进一步抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。尽管对碳化铝浓度的下限不强加特别的限制，但是通常的是，碳化铝浓度必须不低于lppm。碳化铝浓度通过气相色谱测定(遵循轻金属工业标准LIS-A07-1971)。通常，铝板为宽约400至2000mm并且厚约0. 1至0. 6mm的料片(web)形式，并且在连续输送的同时进行处理。厚度可以根据印刷机的尺寸，印刷版的尺寸和用户的要求适当地选择。〈砂目化处理工序〉本发明的平版印刷版载体制备方法可以包括在上述铝板表面上进行砂目化处理如电化学砂目化处理的步骤。优选在如后所述的阳极氧化处理之前进行砂目化处理，但是， 如果铝板已经具有有利的表面轮廓，则可以省略砂目化处理。〈电化学砂目化处理〉电化学砂目化处理适合实现具有优异的印刷性能的平版印刷版，因为通过该处理容易在铝板的表面上设置精细的凹凸形状(凹坑)。电化学砂目化处理是使用直流电或交流电在主要含有硝酸或盐酸的水溶液中进行的。对可用于本发明的电化学砂目化处理用水溶液进行描述。主要含有硝酸的电化学砂目化处理用水溶液可以是用于使用直流电或交流电的常规电化学砂目化处理的硝酸基水溶液，即，含有硝酸根离子的硝酸化合物，如硝酸铝、硝酸钠和硝酸铵中的至少一种的1至100g/L硝酸水溶液；将含有氯离子的盐酸化合物，如氯化铝、氯化钠和氯化铵等以在lg/L至饱和量的范围内的量添加。在硝酸基水溶液中，可以溶解在铝合金中所含的金属，如铁、铜、锰、镍、钛和镁，或娃。优选的溶液可以通过如下制备将氯化铝和/或硝酸铝添加至0. 5至2重量％的硝酸水溶液中，使得所得到的溶液可以具有3至50g/L的铝离子浓度。溶液温度优选为10至90°C，更优选为40至80°C。主要含有盐酸的电化学砂目化处理用水溶液可以是用于使用直流电或交流电的常规电化学砂目化处理的盐酸基水溶液，即，含有硝酸根离子的硝酸化合物如硝酸铝、硝酸钠和硝酸铵中的至少一种的1至100g/L盐酸水溶液；将含有氯离子的盐酸化合物，如氯化铝、氯化钠和氯化铵等以在lg/L至饱和量的范围内的量添加。在盐酸基水溶液中，可以溶解在铝合金中所含的金属，如铁、铜、锰、镍、钛和镁，或娃。优选的溶液可以通过如下制备将氯化铝和/或硝酸铝添加至0. 5至2重量％的盐酸水溶液中，使得所得到的溶液可以具有3至50g/L的铝离子浓度。溶液温度优选为10至60°C，更优选为20至50°C。还可以添加次氯酸。用于电化学砂目化处理的AC电源波形可以是正弦形、方形、梯形或三角形波形。 优选的频率落在0. 1至250Hz的范围内。图3是显示在本发明的平版印刷版载体制备方法中用于电化学砂目化处理的交流电的示例性波形的图。在图3中，用于阳极反应的时间表示为"ta"，用于阴极反应的时间表示为"tc"，电流从0转变至峰值的时间表示为"tp"，在阳极循环侧的峰值的电流表示为"Ia"，而在阴极循环侧的峰值的电流表示为"Ic"。在所示的梯形波中，电流从0转变至峰值的时间tp优选为1至10毫秒。如果时间tp短于1毫秒，则在供电电路的阻抗下电流波形上升时需要大的电源电压，因此电源设备的成本上升。如果时间tp长于10毫秒， 则由于对电解液中的痕量成分的易感性增加而难以实现均勻的砂目化。用于电化学砂目化的交流电的一个循环优选被限定使得在铝板发生的两个反应的时间，即用于阴极反应的时间tc与用于阳极反应的时间ta之间的比率tc/ta可以是1至20，在铝板的阴极反应时间的电量Qc与阳极反应时间的电量Qa的比率Qc/Qa可以是0. 3至20，并且用于阳极反应的时间ta可以是5至1000毫秒。更优选2. 5至15的比率tc/ta以及2. 5至15的比率Qc/ Qa。在其阳极和阴极循环侧的梯形波电流的峰值Ia和Ic中的任何一个，电流密度优选为 10至200A/dm2。比率Ic/Ia优选为0.3至20。在电化学砂目化结束时，用于在铝板上的阳极反应的总电量优选为25至1000C/dm2。对于使用交流电进行的电化学砂目化，可以使用在表面处理中使用的垂直、平坦或径向型的已知电解槽，其中如JP 5-195300A中所述的这样的径向型槽是特别优选的。如图4中所示的设备可以用于采用交流电的电化学砂目化。图4是显示适合使用交流电并且在本发明的平版印刷版载体制备方法中进行的电化学砂目化处理的径向型槽的一个实例的示意图。图4显示了主电解槽50，AC电源51，径向鼓辊52，主电极53a和53b，溶液进料入口 54，电解液55，狭缝56，溶液通道57，辅助阳极58，辅助阳极槽60和铝板W。如果使用2 个以上的电解槽，则用于电解的条件可以随槽或可以不随槽而变化。将铝板W卷绕在浸渍于主电解槽50的电解液中的径向鼓辊52上，并且在输送的过程中借助于与AC电源51连接的主电极53a和5 进行电解处理。将电解液55从溶液供给入口 M经由狭缝56供给至径向鼓辊52与主电极53a和5 之间的溶液通道57中。 然后将如在主电解槽50中处理的铝板W在辅助阳极槽60中进行另一电解处理。在辅助阳极槽60中，辅助阳极58设置成与铝板W相对，并且这样供给电解液55以使其流过辅助阳极58和铝板W之间的空间。电化学砂目化处理也可以通过如下进行使直流电通过铝板和与板相对的电极之间，以进行电化学砂目化。在砂目化处理中，电化学砂目化处理可以作为单独的处理或与机械砂目化处理和 /或化学砂目化处理组合而进行。如果与机械砂目化处理组合，则电化学砂目化处理优选在机械砂目化处理之后进行。〈机械砂目化处理〉通常进行机械砂目化处理以对铝板的表面赋予0. 35至1. 0 μ m的表面粗糙度Ra。机械砂目化处理在条件方面不受特别限制，而可以通过如JP 50-40047B中所述的下列方法进行。也可以通过使用浮石悬浮液的刷擦砂目化处理或经由转写 (transcription)的砂目化处理而进行机械砂目化。优选地，机械砂目化处理使用毛直径为0. 2至1. 61mm的旋转尼龙辊刷和供给至铝板表面上的磨料浆液进行。可使用任何已知的磨料，但是硅砂，石英，氢氧化铝或它们的混合物是优选的。浆液的比重优选为1.05至1.3。不用说，机械砂目化也可以如下实现使用线刷喷射磨料浆液，或转写设置在用于辊压到铝板上的辊的表面上的凹凸形状。〈化学砂目化处理〉
化学砂目化处理也不受特别限制，而可以常规地进行。优选在机械砂目化处理之后进行如下所述的化学蚀刻处理。在机械砂目化处理之后进行化学蚀刻处理以平滑化在铝板表面设置的凹凸形状的边缘，使得可以在印刷中防止墨水在边缘被俘获，因此可以提高平版印刷版的耐污渍性，并且除去了残留在板表面的不期望物质如磨料粒子。已知的化学蚀刻处理包括使用酸或碱的处理，其中使用碱溶液的化学蚀刻处理 (以下也被称为"碱蚀刻处理")在蚀刻效率方面是特别优异的。用于上述碱溶液的碱试剂不受特别限制，并且优选实例包括苛性钠，苛性钾，硅酸钠，碳酸钠，铝酸钠和葡糖酸钠。碱试剂可以含有铝离子。碱溶液的浓度优选不低于0. 01重量％，更优选不低于3 重量％，而优选不高于30重量％，更优选不高于25重量％。碱溶液的温度优选为室温以上，更优选为30°C以上，而优选不高于80°C，更优选不高于75°C。蚀刻量优选为不低于0. lg/m2，更优选为不低于lg/m2，而优选不高于20g/m2，更优选为不高于10g/m2。处理时间优选为2秒至5分钟，这取决于蚀刻量，其中出于提高生产率的观点，2至 10秒的处理时间是更优选的。如果在机械砂目化处理之后进行碱蚀刻处理，则优选用低温酸溶液进行化学蚀刻处理(以下也被称为"除污处理")以除去由碱蚀刻处理产生的产物。用于上述酸溶液的酸不受特别限制，但是示例为硫酸，硝酸和盐酸。酸溶液的浓度优选为1至50重量％。酸溶液的温度优选为20至80°C。如果酸溶液的浓度和温度分别落入上述范围内，则其中使用本发明的平版印刷版载体的平版印刷版将对点状污渍具有大大提高的耐受性。在如上所述的砂目化处理中，电化学砂目化处理在机械砂目化处理和需要时进行的化学蚀刻处理之后进行。即使电化学砂目化处理在没有在前的机械砂目化处理的情况下进行，使用含有苛性钠等的碱溶液的化学蚀刻处理也可以在电化学砂目化处理之前进行。 在这样的情况下，可以除去在铝板表面附近存在的杂质等。优选在电化学砂目化处理之后进行如下所述的化学蚀刻处理。在进行电化学砂目化处理时，污迹或金属间化合物存在于铝板表面上。在电化学砂目化处理之后的化学蚀刻处理中，对于污迹的有效去除特别有效的是，首先进行使用碱溶液的化学蚀刻处理(碱蚀刻处理)。使用碱溶液的化学蚀刻处理优选在以下条件下进行处理温度为20至80°C，且处理时间为1至60秒。碱溶液优选地含有铝离子。在电化学砂目化处理之后进行使用碱溶液的化学蚀刻处理后，优选进行使用低温酸溶液的化学蚀刻处理(除污处理)，以除去由使用碱溶液的化学砂目化处理产生的产物。即使在电化学砂目化处理之后没有碱蚀刻处理之后，对于污迹的有效去除也优选的是进行除污处理。对如上所述的化学蚀刻处理的方面没有特别限制，而示例性方法包括浸渍，喷淋和涂覆。<阳极氧化处理工序>
在阳极氧化处理中，通过使用通过板的直流电或交流电对铝板进行阳极氧化，在铝板表面(包括经过上述砂目化处理的铝板)上形成氧化铝膜形式的阳极氧化膜，该氧化铝膜具有在深度方向(膜厚度方向)上延伸的微孔。适合形成阳极氧化膜的各种电解质可用于阳极氧化处理。通常，使用硫酸，盐酸， 草酸，铬酸或这些酸的混合物。根据适于使用的电解质来选择电解质浓度。用于阳极氧化处理的条件随使用的电解质而变化。典型地优选的条件是1至80 重量％的电解液浓度；5至70°C的溶液温度；5至60A/dm2的电流密度；1至100V的电压；以及10秒至5分钟的电解时间。所形成的阳极氧化膜的量优选为1. 0至5. Og/m2，更优选为1. 5至4. Og/m2。在该范围内的量可以实现良好的印刷寿命(press life)和平版印刷版的非图像区域的高耐擦划性。<水蒸汽处理工序>在上述阳极氧化处理之后的水蒸汽处理中，使用水蒸汽处理如上所述的铝板(包括经过上述砂目化处理和/或上述阳极氧化处理的铝板)，即，使铝板与水蒸汽接触。用于水蒸汽处理的水蒸汽的温度为130至350°C。存在于铝板表面附近的碳化铝(Al4C3)通过与温度在上述范围内的水蒸汽(H2O) 接触而变化为氢氧化铝(Al (OH) 3)，并且这样生长(体积增大)。因此，据推测，如图2中所示，沿着已经生长的氢氧化铝104形成后述的感光层 105。因为当形成感光层105时氢氧化铝104已经完成生长(体积增大)，并且即使供给水分时也不再生长，因此这样形成的感光层105将不会随时间被推动。这样抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。如前所述，在阳极氧化处理之后进行的使用100°C或120°C的水蒸汽的处理在阳极氧化膜上产生勃姆石凸起。相反，如上的水蒸汽处理抑制了勃姆石凸起的产生，导致耐污渍性的提高。尽管如果经过使用温度超过350°C的水蒸汽的处理，则由于退火效应而降低如前所述的铝板的强度，但是经过上述使用温度不高于350°C的水蒸汽的水蒸汽处理的铝板保持高的强度。进行水蒸汽处理的压力优选为0. 3至latm，更优选为0. 5至latm。随着用于水蒸汽处理的处理时间越长，可以更有效地抑制导致图像遗失的凸出部的形成，而在阳极氧化膜上产生勃姆石凸起可以更有效地被抑制，并且随着处理时间越短， 所产生的凸起的平均高度可以越小。鉴于这些趋势，处理时间优选为1至60秒。用于水蒸汽处理的水蒸汽的温度优选为150至350°C，更优选180至350°C，还更优选200至350°C，因为在这些温度实现了更适宜的效果。使铝板与水蒸汽接触的方法不受特别限制。可以使铝板通过充满由沸水产生的水蒸汽的箱子，或可以通过蒸汽喷嘴将水蒸汽直接喷射到铝板上。〈亲水化处理工序〉本发明的平版印刷版载体制备方法可以在进行如上所述的阳极氧化处理和水蒸汽处理的步骤之后包括进行亲水化处理的步骤。在亲水化处理中，将经过上述阳极氧化处理和水蒸汽处理的铝板进一步进行亲水化。
例如，如JP 2005-254638A的第
至
段中公开的已知方法可用于亲水化处理，而优选通过以下方法进行亲水化浸渍在碱金属硅酸盐如硅酸钠和硅酸钾的水溶液中；涂覆亲水性乙烯基聚合物或亲水性化合物以形成亲水性下涂层；等。使用碱金属硅酸盐如硅酸钠和硅酸钾的水溶液的亲水化处理可以在通过如美国专利2，714，066和3，181，461中所述的下列方法和程序进行。使用亲水性下涂层的亲水化处理可以通过如JP 59-101651 A和JP60-149491 A 中所述的下列方法和程序进行。〈预涂覆处理工序〉本发明的平版印刷版载体制备方法可以在阳极氧化处理和水蒸汽处理之间包括进行水预涂覆处理的步骤。在水预涂覆处理(以下称为"预涂覆处理")中，在水蒸汽处理之前将水涂覆至阳极氧化膜，所述阳极氧化膜形成于经过阳极氧化处理的铝板的表面上。如下所述，在阳极氧化膜表面上的冷凝水被认为通过用于水蒸汽处理的130至 350°C的水蒸汽(所谓过热蒸汽)的干燥效应而移除。处于更高温度的过热蒸汽具有更大的干燥效应，即，使过热蒸汽太热将导致不仅在阳极氧化膜表面上的水，而且在阳极氧化膜微孔中的水被移除，这可以抑制在微孔中的勃姆石凸起的产生。在这样的情况下，不太有效地抑制导致图像遗失的凸出部的形成(抑制凸出部形成的机制将在下面描述)。在这样的情形下，进行预涂覆处理使得可以在水蒸汽处理之前加入足够量的水以获得更适宜的水蒸汽处理效果。当使用更高温度的水蒸汽进行水蒸汽处理时，预涂覆处理是更有效的。考虑到这一点，用于水蒸汽处理的水蒸汽的温度优选为170至350°C。尽管水蒸汽处理在进行更久的时间时实现更适宜的效果，但是预涂覆处理也可以使得获得用于水蒸汽处理的处理时间减少的类似效果。如果进行预涂覆处理，则优选在将水涂覆到其上之前将经过阳极氧化处理的铝板干燥。用于干燥的方法没有特别限制。所涂覆的水的量为例如0. 5至lOcc/m2，其中1至6cc/m2的量是优选的，因为实现
了更适宜的效果。所涂覆的水优选为纯水，并且其温度没有特别限制。水涂覆方法可以是通常的湿法涂覆方法，具体示例为浸涂，辊涂，棒涂，刮涂，气刀涂覆，缝模式涂覆，喷涂和滑涂，其中出于涂覆一致性的观点，接触型辊涂是特别优选的。如果使用辊涂，则所用的辊的表面用材料优选为橡胶，以免阳极氧化膜由于摩擦而受损，其中可用橡胶的实例包括乙烯-丙烯-二烯(EPDM)橡胶，硅橡胶，聚氨酯橡胶，聚乙烯醇(PVA)和 FORTEM (由 MEIJI RUBBER &CHEMICAL CO.，LTD.生产)。在特别是使用其表面由橡胶制成的辊的辊涂中，所涂覆的水的量可以通过改变接触辊的直径，橡胶硬度，接触宽度，接触压力，橡胶层厚度等而控制。用于辊涂的辊的表面可以设置有与铝板输送方向平行的凹槽、铝板输送方向的对角线上的凹槽、格状凹槽、蜂窝式凹槽等(如在使用通常的辊涂的情况下)，以将水以跨过铝板宽度的量更均勻地涂覆。〈平版印刷版载体〉
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本发明的平版印刷版载体是通过本发明的平版印刷版载体制备方法获得的平版印刷版载体。下面基于图6详述本发明的平版印刷版载体。图6是本发明的平版印刷版载体的一部分的示意性横截面图。如图6中所示，在本发明的平版印刷版载体中，采用勃姆石凸起107对微孔106的内部至少部分地进行封孔。更具体而言通过氧化铝和水之间的水合反应由微孔106的内壁产生勃姆石凸起107，从而在微孔106的孔径方向(在图6中以"d"所示)上生长。在图6中，如在孔径(d)的方向上测量的勃姆石凸起107的高度以"h"表示。在微孔106被勃姆石凸起107封孔的情况下，水分几乎不穿过阳极氧化膜102。换言之，假设存在于铝101表面附近的碳化铝103(参见图1A、1B和2)未生长为氢氧化铝104(参见同样的附图)并且保持完整，后来供给的水分几乎不到达碳化铝103。结果，防止碳化铝103生长为氢氧化铝104，从而随时间推动感光层105，这进一步抑制了导致图像遗失的凸起的形成。在勃姆石凸起107的平均高度(h)与微孔106的平均孔径(d)之间的比率的较大值(h/d)表明微孔106更显著地被勃姆石凸起107封孔，并且更有效地抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。考虑到上述情况，比率(h/d)优选为不小于0. 2，更优选不小于0. 6，还更优选不小于 0. 8。在这方面，“平均孔径〃是指单个微孔106的孔径(d)的平均值，并且〃平均高度"是指多个用来封孔被讨论的微孔106的勃姆石凸起107的高度(h)的平均值。微孔106的平均孔径(d)和勃姆石凸起107的平均高度(h)可以通过如下测得在扫描电子显微镜(SEM)以250，OOOx的放大倍率观察以任何方式(切割，使用夹具的弯曲) 制备的横截面，并且分析所得到的横截面图像。同样在阳极氧化膜102上，引起污渍的勃姆石凸起(未显示)可以通过氧化铝和水之间的水合反应产生，并且在高度方向上(在图6的绘制平面中向上)生长。然而，在本发明的平版印刷版载体中，任选地在阳极氧化膜上产生的勃姆石凸起具有低于15nm的更小平均高度，此外，其本身的生成的量较小。换言之，由于污渍的原因勃姆石凸起在阳极氧化膜102上的产生在本发明中受到抑制，因此获得了表现出高耐污渍性的平版印刷版。为了进一步提高耐污渍性，优选在阳极氧化膜102上的勃姆石凸起的平均高度不高于6nm，其中最优选阳极氧化膜102上基本上没有勃姆石凸起。在阳极氧化膜102上的勃姆石凸起的平均高度可以使用SEM以与勃姆石凸起107 的平均高度(h)相同的方式确定。本发明的平版印刷版载体的阳极氧化膜102上的勃姆石凸起具有小于15nm的更小的平均高度的原因可以解释如下。在如上所述开始水蒸汽处理时，S卩，一旦铝板进入进行水蒸汽处理的区域(例如箱子)，就发生冷凝，原因在于铝板和水蒸汽之间的温差。在阳极氧化膜102的表面上的冷凝水被认为通过用于水蒸汽处理的温度不低于130°C的水蒸汽(所谓的过热蒸汽)的干燥效应而去除，因此抑制了在阳极氧化膜102上的勃姆石凸起的产生。
据认为，从阳极氧化膜102的表面而不是从微孔106内部去除了冷凝水，这表示如上所述在微孔106中产生了勃姆石凸起107的原因。〈预制感光版〉本发明的平版印刷版载体可以通过如下制备成预制感光版在载体上设置图像记录层如感光层和热敏层。对图像记录层不强加特别限制，并且实例包括常规的阳图制版型、 常规的阴图制版型、感光聚合物型、热阳图制版型、热阴图制版型和可机上显影型，非显影型的那些，其在JP 2003-1956A的第
至
段中有描述。本发明的预制感光版优选地具有设置在本发明的平版印刷版载体上的感光层，其中所述感光层含有(A)增感染料，(B)聚合引发剂，(C)可聚合化合物，和(D)粘合剂聚合物，更优选具有设置在感光层上的保护层。下面，详细描述本发明的预制感光版。〈感光层〉(A)增感染料本发明的预制感光版的感光层含有响应于来自用于曝光的光源的光的波长的增感染料。增感染料可以在350至450nm的范围内的波长区中具有吸收最大值，在此情况下， 示例为部花青染料，苯并吡喃类，香豆素类，芳族酮类，以及蒽类。如JP 2008-465^A的第
至W056]段等中所述的增感染料被提及作为可用增感染料的具体实例。适当地规定关于增感染料的使用的细节，如要使用的染料的结构，使用方式，即， 是使用单一染料还是使用两种以上染料的组合，以及染料的添加量。在具有较小厚度的平版印刷版的情况下，优选规定添加的增感染料的量使得感光层的吸光度可以是0. 1至1. 5，优选0. 25至1。通常，添加的增感染料占感光层中的全部固体的优选0. 05至30重量％，更优选0. 1至20重量％，并且最优选0.2至10重量％。(B)聚合引发剂可用的聚合引发剂包括三卤代甲基化合物，羰基化合物，有机过氧化物，偶氮化合物，叠氮化合物，金属茂化合物，六芳基联咪唑化合物，有机硼化合物，二砜化合物，肟酯化合物和鐵盐化合物。其中，优选使用选自六芳基联咪唑化合物，輪盐，三卤代甲基化合物和金属茂化合物中的至少一种，其中特别优选六芳基联咪唑化合物。如JP 2008-46528 A的第W060]至W067]段等中所述的聚合引发剂被提及作为可用聚合引发剂的具体实例。适用于感光层的聚合引发剂可以任选地为单一引发剂，或两种以上引发剂的组
I=I O在感光层中使用的聚合引发剂占感光层中的全部固体的优选0. 01至20重量％， 更优选0. 1至15重量％，还更优选1. 0至10重量％。(C)可聚合化合物在感光层中所含的可聚合化合物为具有至少一个烯键式不饱和双键的可加聚化合物，并且选自具有至少一个，优选两个末端烯键式不饱和键的化合物。这样的化合物在本发明的技术领域中是广泛已知的，并且可用而没有任何特别的限制。它们具有以下化学形式，包括单体，预聚物，即，二聚物，三聚物或低聚物，或其混合物和其共聚物的形式。示例性单体包括不饱和羧酸(例如，丙烯酸，甲基丙烯酸，衣康酸，巴豆酸，异巴豆酸，马来酸)和其酯和酰胺，其中适当地使用不饱和羧酸和脂族多元醇化合物的酯，以及不饱和羧酸和脂族多价胺化合物的酰胺。还适当地使用具有羟基或亲核取代基例如氨基和巯基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能异氰酸酯或环氧化合物的加成反应产物，以及上述酯或酰胺与单官能或多官能羧酸的脱水缩合反应产物。此外，适合的是具有亲电取代基例如异氰酸酯基和环氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇，胺或硫醇的加成反应产物，以及具有可消去取代基，例如，卤素原子和甲苯磺酰氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇，胺或硫醇的取代反应产物。还可以使用的是其各自的上述不饱和羧酸被不饱和膦酸，苯乙烯，乙烯基醚等代替的化合物。如JP 2008-46528 A的第W070]至W078]段等中所述的可聚合化合物被提及作为可用的可聚合化合物的具体实例。根据适合用于最终预制感光版的性能设计，规定关于可聚合化合物的使用的细节，如要使用的化合物的结构，使用方式，即，是使用单一化合物还是使用化合物的组合，以及化合物的添加量。在感光层中使用的可聚合化合物占感光层中的全部固体的优选5至80重量％，更优选25至75重量％。可聚合化合物可以任选地为单一化合物，或两种以上化合物的组合。(D)粘合剂聚合物使用可溶于或可溶胀于碱性水中的有机高聚物作为粘合剂聚合物，因为作为成膜剂包含在感光层中的粘合剂聚合物应当同时溶解于碱性显影剂溶液中。作为可溶于或可溶胀于碱性水中的聚合物的粘合剂聚合物在使用碱性显影剂显影的过程中被除去，并且根据需要通过刷擦加压。要使用的粘合剂聚合物是具有由下式(1)至C3)表示的结构单元的粘合剂聚合物。[化学式1]
权利要求
1.一种平版印刷版载体，所述平版印刷版载体包括铝板和设置在所述铝板上的铝的阳极氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在所述阳极氧化膜中从与面向所述铝板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸，其中所述微孔的内部被由勃姆石构成的凸起至少部分地封孔，并且位于所述阳极氧化膜上的由勃姆石构成的凸起的平均高度小于15nm。
2.根据权利要求1所述的平版印刷版载体，其中所述微孔的平均孔径(d)和用于将所述微孔进行封孔的所述凸起的平均高度(h)使得所述平均高度与所述平均孔径的比率(h/ d)不小于0.2，所述用于将所述微孔进行封孔的所述凸起的平均高度(h)是在孔径方向上测量的。
3.一种预制感光版，所述预制感光版包括根据权利要求1所述的平版印刷版载体和设置在所述载体上的感光层，其中所述感光层含有㈧增感染料、⑶聚合引发剂、(C)可聚合化合物和(D)粘合剂聚合物。
4.一种预制感光版，所述预制感光版包括根据权利要求2所述的平版印刷版载体和设置在所述载体上的感光层，其中所述感光层含有㈧增感染料、⑶聚合引发剂、(C)可聚合化合物和(D)粘合剂聚合物。
5.根据权利要求3所述的预制感光版，所述预制感光版包括保护层，所述保护层设置在所述感光层上。
6.根据权利要求4所述的预制感光版，所述预制感光版包括保护层，所述保护层设置在所述感光层上。
全文摘要
本发明提供一种平版印刷版载体和预制感光版，所述预制感光版设置有平版印刷版载体，所述平版印刷版载体包括铝板和设置在所述铝板上的铝的阳极氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在所述阳极氧化膜中从与面向所述铝板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸，该预制感光版产生表现出高耐污渍性并且其中抑制了导致图像遗失的凸出部的形成的平版印刷版。所述微孔的内部被由勃姆石构成的凸起至少部分地封孔，并且位于所述阳极氧化膜上的由勃姆石构成的凸起的平均高度小于15nm。
文档编号G03F7/00GK102402120SQ20111020511
公开日2012年4月4日 申请日期2011年7月21日 优先权日2010年7月23日
发明者上杉彰男, 冈野圭央, 泽田宏和, 难波优介, 黑川真也 申请人:富士胶片株式会社