专利名称：偏光膜的制造方法
技术领域：
本发明涉及偏光膜的制造方法。
背景技术：
在液晶显示装置中使用偏光膜，作为这种偏光膜的制造方法，日本特开 2010-120886号公报中公开了采用旋涂法涂布聚合性液晶组合物，使该聚合性液晶组合物进行取向后，照射无偏光的UV的方法。
发明内容
本发明提供如下技术方案等。[1] 一种偏光膜的制造方法，其特征在于，包括如下工序(1)将含有显示近晶相的聚合性液晶化合物、二色性色素、光聚合引发剂和溶剂的聚合性液晶组合物涂布到基板上，除去溶剂，从而形成干燥涂膜的第1工序；(2)将干燥涂膜保持在由第1工序制得的干燥涂膜所含的液晶性成分成为液晶状态的温度，从而使该液晶性成分进行取向的第2工序；和(3)对在第2工序中进行了取向的涂膜照射液晶性成分的取向方向与偏振光的振动方向所形成的角度为45度 90度范围的偏振光，从而得到形成于基板上的偏光膜的第 3工序。[2]根据[1]所述的制造方法，其中，第1工序中的基板是形成有取向膜的基板。[3]根据[1]或[2]所述的制造方法，其中，偏振光的最大输出波长在300nm 500nm的范围内。[4]根据[1] [3]中任一项所述的制造方法，其中，二色性色素是偶氮色素。[5]根据[1] [4]中任一项所述的制造方法，其中，在第2工序中，液晶性成分成为液晶状态的温度是液晶性成分成为显示近晶相的液晶状态的温度。[6]根据[5]所述的制造方法，其中，近晶相是高度有序(高次)的近晶相。[7] 一种显示装置，其特征在于，包含采用[1] W]中任一项所述的制造方法制得的偏光膜。
图1是表示作为本发明的显示装置之一的液晶显示装置10的示意图。图2是表示作为本发明的显示装置之一的液晶显示装置M的示意图。图3是表示作为本发明的显示装置之一的EL显示装置30的示意图。图4是表示作为本发明的显示装置之一的EL显示装置44的示意图。图5是表示作为本发明的显示装置之一的投射型液晶显示装置的示意图。符号说明10,24 液晶显示装置
11 防反射膜Ua、12b、31、142、143 偏光膜13a、i;3b、32 相位差膜14a、14b、33 基板15 滤色器16:透明电极17 液晶层18、34 层间绝缘膜19 背光单元20 黑矩阵21 薄膜晶体管22、35:像素电极23:隔板30、44:EL 显示装置36 有机功能层37:阴极电极38 干燥剂39 封装盖40 薄膜晶体管41 肋42:薄膜封装膜111 光源112:第1透镜阵列112a:透镜113:第2透镜阵列114:偏光转换元件115:重叠透镜121、123、132 分色镜122 反射镜140R、140G、140B 液晶面板150:交叉分色棱镜170 投射透镜180 屏幕
具体实施例方式本发明的偏光膜的制造方法包括将聚合性液晶组合物涂布到基板上而形成干燥涂膜的第1工序；将干燥涂膜保持在由第1工序制得的干燥涂膜所含的液晶性成分(聚合性液晶化合物)成为液晶状态的温度，从而使该液晶性成分进行取向的第2工序；和对在第 2工序中进行了取向的涂膜照射液晶性成分的取向方向与偏振光的振动方向所形成的角度为45度 90度范围的偏振光，从而得到形成于基板上的偏光膜的第3工序；采用所述的制造方法可得到二色性比高的偏光膜。上述偏光膜是具有选择性地透射来自自然光的某一方向的偏振光的功能的膜。应予说明，在偏光膜中，将与透射的偏振光成分平行的轴方向称为透射轴，将与吸收的偏振光成分平行的轴方向称为吸收轴。首先，对聚合性液晶组合物进行说明。聚合性液晶组合物含有显示近晶相的聚合性液晶化合物、二色性色素、光聚合引发剂和溶剂。(聚合性液晶化合物)在本发明中使用的聚合性液晶化合物具有聚合性基团并且显示液晶性。聚合性基团是指参与聚合性液晶化合物的聚合反应的基团。本发明的聚合性液晶化合物是显示近晶相的聚合性液晶化合物，优选是在显示近晶相的温度与显示各向同性相的温度之间显示向列相的聚合性液晶化合物。若聚合性液晶化合物为这种化合物，则存在容易得到水平取向的近晶相的趋势。作为上述近晶相，可举出近晶A相、近晶B相、近晶D相、近晶E相、近晶F相、近晶 G相、近晶H相、近晶I相、近晶J相和近晶K相。其中，优选作为高度有序近晶相的近晶B 相、近晶F相和近晶I相，更优选近晶B相。若聚合性液晶化合物所显示的液晶相为这些液晶相，则可得到取向有序度高的偏光膜。作为聚合性液晶化合物，例如，可举出式(1)表示的化合物(下面有时称为“化合物⑴，，)。U1-V1-W1-X1-Yi-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (1)[式(1)中，X1、X2和X3表示对亚苯基或环己烷-1，4-二基。其中，X1、X2和X3中的至少1个表示对亚苯基。Y1 和 Y2 相互独立地表示-CH2CH2_、-CH2O-, -COO-, -0C00-、单键、-N = N-、-CRa = CRb-、-C = C-或者-CRa = N-oRa和Rb相互独立地表示氢原子或者碳原子数为1 4的烷基。U1表示氢原子或聚合性基团。U2表示聚合性基团。W1和W2相互独立地表示单键、-0-、-S-、-C00-或-0C00-。V1和V2相互独立地表示碳原子数为1 20的烷二基，该烷二基所含的-CH2-可以用-0-、-S-或-NH-代替。]X1J2和X3相互独立地表示对亚苯基或环己烷-1，4-二基。其中，X1J2和X3中的至少1个是对亚苯基。优选X1、X2和X3中的至少2个是对亚苯基。X1, X2和X3表示的对亚苯基和环己烷-1，4- 二基可以具有取代基。作为这些取代基，可举出甲基、乙基、丁基等碳原子数为1 4的烷基，氰基，氟基(氟原子)、氯基(氯原子)、溴基(溴原子)等商素基团(商素原子)等。另外，环己烷-1，4-二基的-CH2-可以用-0-、-S-或-NH-代替。R是碳原子数为1 6的烷基或苯基。上述对亚苯基和环己烷-1，4-二基优选为无取代。另外，上述环己烷-1，4-二基优选为反式-环己烷-1，4- 二基。Y1 和 Y2 相互独立地表示-CH2CH2_、-CH2O-, -COO-, -0C00-、单键、-N = N-、-CRa =CRb-、-C = C-或者-CRa = N-o上述基团的结合位置可以为任意方向。Ra* Rb相互独立地表示氢原子或者碳原子数为1 4的烷基。作为碳原子数为1 4的烷基，可举出甲基、乙基、丁基等。Y1 优选为-CH2CH2_、-C00-或单键。Y2 优选为-CH2CH2_、-C00-或-CH20_。U1为氢原子或聚合性基团，优选为聚合性基团。U2为聚合性基团。U1和U2优选均为光聚合性基团。在此，光聚合性基团是指利用由光聚合引发剂产生的活性自由基、酸等能够参与聚合的基团。另外，U1和U2优选为相同种类的基团。作为聚合性基团，可举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙烷基、氧杂环丁烷基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙烷基和氧杂环丁烷基，更优选丙烯酰氧基。V1和V2相互独立地表示碳原子数为1 20的烷二基，该烷二基所含的-CH2-可以用-0-、-S"或-NH-代替。作为碳原子数为1 20的烷二基，可以为直链状、支链状、环状中的任一种，作为具体例，可举出亚甲基、亚乙基、丙烷-1，3-二基、丁烷-1，3-二基、丁烷-1，4-二基、戊烷-1，5- 二基、己烷-1，6- 二基、庚烷-1，7- 二基、辛烷-1，8- 二基、癸烷-1，10- 二基、十四烷-1，14- 二基和二十烷-1，20- 二基等，优选是碳原子数为2 12的烷二基，更优选是碳原子数为6 12的烷二基。烷二基优选为直链状。作为该烷二基可以具有的取代基，可举出氰基；氟基(氟原子)、氯基(氯原子)、 溴基(溴原子)等卤素基团(卤素原子)等。 作为烷二基，优选无取代的烷二基、更优选无取代的直链状烷二基。W1和W2相互独立地为单键、-0-、-S-、-C00-或-0C00-，优选为单键或_0_。作为化合物(1)，可举出式(1-1) 式(1-23)表示的化合物等。式中，环己烷_1， 4-二基优选为反式型。
权利要求
1.一种偏光膜的制造方法，其特征在于，包括如下工序(1)将含有显示近晶相的聚合性液晶化合物、二色性色素、光聚合引发剂和溶剂的聚合性液晶组合物涂布到基板上，除去溶剂，从而形成干燥涂膜的第1工序；(2)将干燥涂膜保持在由第1工序制得的干燥涂膜所含的液晶性成分成为液晶状态的温度，从而使该液晶性成分进行取向的第2工序；和(3)对在第2工序中进行了取向的涂膜照射液晶性成分的取向方向与偏振光的振动方向所形成的角度为45度 90度的范围的偏振光，从而得到形成于基板上的偏光膜的第3工序。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，第1工序中的基板是形成有取向膜的基板。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其中，偏振光的最大输出波长在300nm 500nm的范围内。
4.根据权利要求1所述的制造方法，其中，二色性色素是偶氮色素。
5.根据权利要求1所述的制造方法，其中，在第2工序中，液晶性成分成为液晶状态的温度是液晶性成分成为显示近晶相的液晶状态的温度。
6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，近晶相是高度有序的近晶相。
7.—种显示装置，其特征在于，包含采用权利要求1 6中任一项所述的制造方法制造得到的偏光膜。
全文摘要
本发明提供一种偏光膜的制造方法，其包括如下工序(1)将含有显示近晶相的聚合性液晶化合物、二色性色素、光聚合引发剂和溶剂的聚合性液晶组合物涂布到基板上，除去溶剂，从而形成干燥涂膜的第1工序；(2)将干燥涂膜保持在由第1工序制得的干燥涂膜所含的液晶性成分成为液晶状态的温度，从而使该液晶性成分进行取向的第2工序；和(3)对在第2工序中进行了取向的涂膜照射液晶性成分的取向方向与偏振光的振动方向所形成的角度为45度～90度的范围的偏振光，从而得到形成于基板上的偏光膜的第3工序。
文档编号G02F1/1335GK102565912SQ20111041272
公开日2012年7月11日 申请日期2011年12月12日 优先权日2010年12月14日
发明者幡中伸行 申请人:住友化学株式会社