异物清除单元和具有异物清除单元的光学设备的制作方法

专利名称：异物清除单元和具有异物清除单元的光学设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于清除诸如灰尘等的异物的异物清除单元和具有该单元的光学设备。
背景技术：
诸如数字照相机等的通过将被摄体图像转换成电信号进行摄像的光学设备利用摄像装置接收摄像光束，并且将从摄像装置输出的光电转换信号转换成图像数据。对于这类摄像设备，在摄像装置的被摄体侧配置光学低通滤波器和红外线吸收滤波器。如果诸如灰尘等的异物附着到这些滤波器的表面，则发生该附着的拍摄图像的部分表现为黑点，因而使图像的外观劣化。特别地，对于具有可更换镜头的数字单镜头反光照相机，将诸如快门和快速复原镜等的机械运动部件配置在摄像装置附近，并且存在来自这些运动部件的诸如灰尘等的异物附着到摄像装置或滤波器的表面的情况。另外，诸如灰尘等的异物可能在更换镜头时通过镜头座开口进入照相机机体，并且附着到摄像装置或滤波器的表面。已知一种通过使用压电装置振动在摄像装置的被摄体侧配置的光学滤波器、以清除附着在光学滤波器表面的诸如灰尘等的异物来避免这一现象的方法。此时，为有效清除诸如灰尘等的异物，优选通过压电装置以光学滤波器的谐振频率振动光学滤波器，以增大振动的振幅。然而，谐振频率根据光学滤波器的外形、厚度和物理特性参数等而不同，因而各光学滤波器的谐振频率由于制造精度和制造工艺等的差异而不同。因此，对于日本特开2009-17461号公报公开的发明，将压电装置以与矩形光学滤波器的一边平行的方式配置在该边附近。此外，为检测光学滤波器的振动状态，在压电装置上与用于驱动的电极分开配置一个检测电极，并且在压电装置背面配置一个检测接地电极。在监视电极电压的同时搜索谐振频率，使用发现的谐振频率振动光学滤波器，并且清除附着至光学滤波器表面的灰尘等。

发明内容
本发明的一个方面是一种异物清除单元，包括矩形的光学构件，其被配置在光路上，其中，在所述光学构件中设置有光束穿过的光学有效区域；压电装置，其被设置到在所述光学有效区域的外侧的所述光学构件的边；以及振动抑制构件，其被设置到所述光学构件的没有设置所述压电装置的边，其中，所述振动抑制构件被设置到所述光学构件，以使得所述光学构件的设置了所述振动抑制构件的边的端面不从所述振动抑制构件的端面突出。根据本发明，可以衰减和/或吸收在光学构件的端面处的振动反射的影响。因此，可以有效使用用于清除异物的振动，并且可以提高异物清除能力。本发明的另一方面是一种光学设备，包括矩形的光学构件，其被配置在光路上，其中，在所述光学构件中设置有光束穿过的光学有效区域；压电装置，其被设置到在所述光学有效区域的外侧的所述光学构件的边；以及振动抑制构件，其被设置到所述光学构件的没有设置所述压电装置的边，其中，所述振动抑制构件被设置到所述光学构件，以使得所述光学构件的设置了所述振动抑制构件的边的端面不从所述振动抑制构件的端面突出。通过以下参考附图对典型实施例的说明，本发明的其它特征将显而易见。


图I是示出根据本发明实施例的数字照相机的功能结构的框图。
图2是示意性示出摄像单元的结构的透视图。图3是示出在第一实施例中从光学低通滤波器处激励的具有两种振动模式的弯曲振动频率和振幅之间的关系的图。图4A和4B是示出根据第一实施例的第m阶和第m+1阶振动模式形式及施加于两个压电装置的电压的图。图5是用于说明在通过激励同时生成两个振动模式的弯曲振动的情况下的光学低通滤波器的行为的图。图6是用于说明在通过激励同时生成两个振动模式的弯曲振动的情况下的光学低通滤波器的行为的图。图7是用于说明压电装置的结构的图。图8A和SB是示出第一实施例的图，其中，图8A是向光学低通滤波器贴附两个振动抑制构件的结构的图，并且图8B是沿图8A的VIIIB-VIIIB截取的横断面图。图9是说明在以频率f振动光学低通滤波器时由振动检测电路所检测到的检测波形的图。图IOA和IOB是示出第一实施例的变形例的图，其中，图IOA是向光学低通滤波器贴附振动抑制构件的结构的图，并且图IOB是沿图IOA的XB-XB截取的横断面图。图11是示出第二实施例中光学低通滤波器处由于激励而生成的两个驻波的频率和振幅之间的关系的图。图12A和12B是示出根据第二实施例的m阶和m+1阶振动模式形式及施加于压电装置的电压的图。图13A和13B是示出第二实施例的图，其中，图13A是向光学低通滤波器贴附振动抑制构件的结构的图，并且图13B是沿图13A的XIIIB-XIIIB截取的横断面图。图14A和14B是示出第二实施例的变形例的图，其中，图14A是向光学低通滤波器贴附振动抑制构件的结构的图，并且图14B是沿图14A的XIVB-XIVB截取的横断面图。
具体实施例方式振动光学滤波器在光学滤波器的端面发生振动的反射，并且反射振动和主振动表现干涉。振动干涉的影响表现为光学滤波器的振动振幅的大小不均一和发生不同于主振动的相位的振动相位。特别地，与圆形相比，当光学滤波器是矩形时，振动干涉的影响更大。如果振动检测电极位于经受振动干涉的位置处，则发生电极电压的大小不均一和相位偏移，这使得难以精确检测主振动。如果错误检测主振动，则将应用与想要的频率和相位偏离的振动，这会影响从光学滤波器清除异物的能力。但是，日本特开2009-17461号公报公开的发明完全没有提及考虑到反射振动的振动检测电极的配置，因而在反射振动的影响下，可能影响从光学滤波器清除异物的能力。下面将参考附图详细说明本发明的实施例。作为具有异物清除单元的光学设备的例子，将说明将本发明应用于数字照相机的例子。第一实施例图I是示出根据第一实施例的数字照相机100的功能结构的框图。微型计算机(以下简称为“MPU”)101是例如控制数字照相机100具有的各块的操作的中央处理单元。MPU 101包括EEPROM 108。将镜驱动电路102、焦点驱动电路103、快门驱动电路104、图像信号处理电路105、开关传感器电路106、测光电路107、压电装置驱动电路111和振动检测电路112连接到MPU 101。这些电路在MPU 101的控制下工作。MPU 101经由装配点21与摄像镜头单元200内的镜头控制电路202进行通信。在 连接摄像镜头单元200时，MPU 101经由装配点21接收信号，从而判断为可以与摄像镜头单元200的镜头控制电路202进行通信。镜头控制电路202接收来自MPU 101的控制信号，从而利用AF驱动电路203和光圈驱动电路204驱动摄像镜头单元200内的摄像镜头201和光圈205。注意，尽管为了便于说明，图I仅示出一个摄像镜头201，但是实际上，摄像镜头201由诸如调焦透镜等的许多透镜组构成。AF驱动电路203具有例如步进电动机，并且通过控制镜头控制电路202改变摄像镜头201内的调焦透镜位置，使摄像光束聚焦于摄像装置33。光圈驱动电路204是例如诸如自动光圈等的光圈机构，并且在镜头控制电路202的控制下改变光圈205的孔径。相对于图I所示的摄像光轴以45°角保持的主镜6将穿过摄像镜头201的摄像光束引导至五棱镜22，并且还使摄像光束中的一部分透过，其中，将该部分摄像光束引导至副镜30。副镜30将透过主镜6的摄像光束引导至焦点检测传感器单元31。镜驱动电路102由例如DC电动机和齿轮传动链构成，并且将主镜6驱动至可通过取景器观察被摄体图像的位置和从摄像光束缩回的位置。在驱动主镜6的同时，副镜30也移动至用于将摄像光束引导至焦点检测传感器单元31的位置以及从摄像光束缩回的位置。焦点检测传感器单元31由被配置在未示出的成像面附近的场透镜、反射镜、二次成像镜头、光圈和由多个CCD组成的线传感器等构成，并且进行相位差焦点检测。将从焦点检测传感器单元31输出的信号提供给焦点驱动电路103，转换成被摄体图像信号并且发送给 MPU 101。MPU 101基于被摄体图像信号通过相位差检测来进行焦点检测运算。具体地，MPU101使用被摄体图像信号计算离焦量和离焦方向，并且根据计算出的离焦量和离焦方向，利用镜头控制电路202和AF驱动电路203将摄像镜头201内的调焦透镜驱动至焦点位置。五棱镜22对在主镜6处反射的摄像光束进行向正立图像的转换反射。因此，拍摄者可以经由取景器光学系统通过取景器目镜窗口 18观察被摄体图像。此外，五棱镜22将摄像光束的一部分引导至测光传感器37。测光电路107将测光传感器37输出的测光值转换成观察平面上的各区域的亮度信号，并且将其输出给MPU 101。MPU 101基于亮度信号计算曝光值。快门单元32是例如机械焦平面快门，并且在拍摄者经由取景器目镜窗口 18观察被摄体图像时，快门的前叶片处于遮光位置，并且快门的后叶片处于曝光位置。另外，在进行拍摄时，前叶片进行从遮光位置移动到曝光位置的曝光扫描，从而允许摄像光束穿过，并且后述的摄像装置33通过对已成像的被摄体图像进行光电转换来进行摄像。在经过了所设置的快门时间之后，后叶片进行从曝光位置移动到遮光位置的遮光扫描，从而完成一个图像数据的摄像。注意，通过从MPU 101接收到控制命令的快门驱动电路104控制快门单元32。图像信号处理单元105对从摄像装置33输出的模拟图像信号进行Α/D转换处理，并且对由此获得的数字图像数据进行诸如降噪处理和增益调整处理等的各种类型的图像处理。开关传感器电路106将通过拍摄者操作数字照相机100所具有的包括主开关43和清洁开关44等的用户接口而输入的输入信号 传送给MPU 101。清洁开关44是用于给出用以清除诸如灰尘等的附着至光学低通滤波器410表面的异物的指示的用户接口，并且可以通过拍摄者操作清洁开关44手动进行滤波器上的异物清除。用作异物清除单元的摄像单元400是包括光学低通滤波器410、压电装置430和摄像装置33的部件的组合块。摄像装置33是诸如例如CMOS传感器或CXD传感器等的摄像装置，并且如上所述，通过对在其上形成的被摄体的光学图像进行光电转换以输出模拟图像信号。压电装置430是例如单板压电装置，并且将其配置成通过接收到来自MPU 101的控制信号的压电装置驱动电路111进行振动，并且将该振动传递给光学低通滤波器410。用于异物清除的结构将参考图2更详细地说明用作通过光学低通滤波器410的振动进行其上的异物清除的异物清除单元的摄像单元400。图2是示意性示出摄像单元400的结构的分解透视图。配置在摄像装置33前面的光学低通滤波器410是由石英制成的形状为矩形的单个双折射板。光学低通滤波器410是配置在光路中的矩形光学构件，并且设置光束穿过的光学有效区域。光学低通滤波器410具有在光学有效区域外侧配置有一对压电装置430a和430b的周边部，并且与摄像光轴垂直的方向(照相机的左右方向)是对称的。如此配置的光学低通滤波器410的表面涂布用于截止红外线和防止反射等的光学镀膜。如下文所述，具有条状外形的压电装置430a和430b均在单个压电构件上一体形成有多个电极。沿光学低通滤波器410的相互相对的各短边配置各压电装置430a和430b。更具体地，将压电装置430a和430b贴附于光学低通滤波器410的周边部，从而使得作为第一压电装置的压电装置430a的长边与光学低通滤波器410的一个短边(即，一个边)平行，并且使得作为第二压电装置的压电装置430b的长边与光学低通滤波器410的另一短边(即，另一个边)平行。以波的形式振动光学低通滤波器410，从而使得与光学低通滤波器410的边平行地形成多个波节和波腹。向压电装置430a和430b施加周期性电压，从而使得压电装置430表现膨胀和收缩。因此，光学低通滤波器410也表现周期性弯曲变形。下面将详细说明该振动。光学低通滤波器保持构件420由树脂或金属形成，并且保持光学低通滤波器410。利用螺丝钉将光学低通滤波器保持构件420固定至摄像装置保持构件510。加压构件440对光学低通滤波器410朝向摄像装置33加压。将加压构件440保持在光学低通滤波器保持构件420处。加压构件440与数字照相机100的接地部电连接。光学低通滤波器410的前面也与数字照相机100的接地部电连接。因此，可以抑制灰尘等向光学低通滤波器410表面的静电附着。密封构件450具有横断面形状为大致圆形的框形状，并且被夹持在光学低通滤波器410和光学低通滤波器保持构件420之间。由于加压构件440向光学低通滤波器410加压，所以密封构件450被紧压在光学低通滤波器410和光学低通滤波器保持构件420之间。因此，加压构件440在朝向摄像装置33的方向上的压力决定了紧压密封构件450的力。注意，可以由橡胶或诸如PORON等的聚氨酯泡沫制成密封构件450。光学构件460是分层配置有相位板(去极化板)、红外截止滤波器以及折射方向相对于光学低通滤波器410的折射方向偏移90°的双折射板的光学构件。通过粘合将光学构件460固定至光学低通滤波器保持构件420。振动抑制构件470a和470b是条状弹性构件。在光学有效区域外侧，通过双面胶 带将振动抑制构件470a和470b贴附于光学低通滤波器410，从而覆盖光学低通滤波器410的长边。由于将振动抑制构件470a和470b贴附于光学低通滤波器410以覆盖光学低通滤波器410的长边，所以可以抑制光学低通滤波器410的端面的反射振动。摄像装置保持构件510形成有矩形开口，并且以使摄像装置33从该开口暴露的方式固定摄像装置33。利用螺丝钉等将摄像装置保持构件510固定至数字照相机100的机体。在光学低通滤波器保持构件420和摄像装置33之间保持掩模520以防止多余的光从摄像光路进入摄像装置33。摄像装置加压构件530是一对如加压构件一样的左板簧和右板簧。利用螺丝钉将摄像装置加压构件530固定至摄像装置保持构件510，并且将摄像装置33压向摄像装置保持构件510。由于上述结构，将光学低通滤波器410夹持在加压构件440和密封构件450之间以使其能够振动。振动的说明接着将参考图3 6说明根据本实施例在光学低通滤波器410处发生的振动。根据本实施例，在光学低通滤波器410处生成在光学低通滤波器410的长边方向(即附图中的水平方向)上行进的行波。也就是说，通过使时间相位偏移在光学低通滤波器410处通过激励生成阶次相差I的两个弯曲振动，从而在光学低通滤波器410处生成行波。图3是示出根据本实施例在光学低通滤波器410处通过激励所生成的两种振动模式的频率和振幅之间的关系的图。如图3所示，利用以f(m)表示的频率通过激励生成第m阶振动模式的弯曲振动，并且利用以f (m+1)表示的频率通过激励生成第m+1阶振动模式的弯曲振动。这里，如果将要施加于压电装置430a和430b的电压的频率f设置成f(m) <f< f (m+1)，则可以使用第m阶振动模式的弯曲振动的谐振和第m+1阶振动模式的弯曲振动的谐振两者。如果将f设置成f< f(m)，则可以使用第m阶振动模式的振动的谐振，但是由于太远离f (m+1)振动模式的谐振点，所以变得难以使用第m+1阶振动模式的振动的谐振。另外，如果将f设置成f (m+1) <f，则仅可使用第m+1阶振动模式的弯曲振动的谐振。对于本实施例，将频率f设置在范围f (m) < f < f (m+1)内，以使用这两个振动模式的谐振。图4A和4B是示出在m是奇数的情况下第m阶振动模式和第m+1阶振动模式的波形以及要施加给压电装置430a和430b的电压的图。作为m是奇数的情况的例子，图4A和4B示出m = 9的情况。图4A是从主镜6侧观看光学低通滤波器410时的图。在朝向摄像装置33的一侧，将压电装置430a和430b贴附于光学低通滤波器410的表面。如图4A所示，在各振动模式的弯曲振动中，在光学低通滤波器410的长边方向上，以相等间隔观察到压电装置430的长边方向上的多个波节。图4B通过实数成分和虚数成分表示在各个振动模式的弯曲振动中施加于压电装置430a和430b的AC电压的振幅和时间相位。图4B中的(I)示出第m阶振动模式的弯曲振动的AC电压。图4B中的(2)示出第m+1阶振动模式的AC电压。图4B中的(3)示出在时间相位偏移90°的情况下第m+1阶振动模式的弯曲振动的AC电压。这里，注意，为了在这两个振动模式的弯曲振动中检测到相同振幅，通过在第m阶振动模式的弯曲振动和第m+1阶振动模式的弯曲振动之间的振幅比为A I的情况下的第m阶振动模式的弯曲振动的振幅，对各振动模式的弯曲振动的电压进行标准化。为了在光学低通滤波器410处通过激励同时生成第m阶振动模式的弯曲振动和第m+1阶振动模式的弯曲振动，所需要的就是相加图4B的(I)和(3)的AC电压，即施 加图4B的(4)的AC电压。这里，第m阶振动模式的弯曲振动相当于第一弯曲振动,并且第m+1阶振动模式的弯曲振动相当于相对于第一弯曲振动、时间相位偏移90°的第二弯曲振动。接着说明根据上述控制方法在通过激励同时生成两个振动模式的弯曲振动的情况下光学低通滤波器410的行为。对于本实施例，考虑与用于第9阶模式和第10阶模式的激励有关的情况。图5和6示出在通过将时间相位偏移90°以同时激励两个振动模式的弯曲振动的情况下，光学低通滤波器410在各时间相位的行为。附图中的横轴从左端到右端用数值O 360表示光学低通滤波器410内的位置。另外，将光学低通滤波器410的长边方向设为X，将短边方向设为Y，并且将该平面的法线方向设为Z。在图5和6中，C表示第9阶振动模式的弯曲振动的波形，并且D表示第10阶振动模式的弯曲振动的波形。另外，E表示这两个模式的弯曲振动的合成波形。也就是说，E表示光学低通滤波器410的实际振幅。F表不光学低通滤波器410的Z方向加速度。由于光学低通滤波器410变形，因而在法线方向的力的作用下，附着至光学低通滤波器410表面的异物移动。也就是说，如果表示Z方向上的加速度的曲线F具有正值，则异物被推出，并且异物受到表示该时间相位的光学低通滤波器410的位移的曲线E的法线
方向的力。在以rn(其中，η = 1,2,3,......)表示的区间，异物受到右方向(即X方向的
正方向)的力。在以1η(其中，η = 1,2,3,......)表示的区间，异物受到左方向(即X方
向的反方向)的力。结果，异物移动至以Χη(其中，η= 1，2，3，......)所表示的位置。根
据本实施例，随着时间相位前进，根据Xn (η = 1，2，3，......)在正方向的移动，异物在X的
正方向移动。压电装置的电极配置接着，图7是说明压电装置430a的结构的图。图7是压电装置430a的三视图。如图7所示，压电装置430a包括作为压电装置的压电构件431以及在压电构件431表面上所形成的驱动电极AF、驱动电极AB、传感器电极SF和接地电极SB这四种类型的电极。如图7所示，在压电构件431的F面(即第一面)上形成两个驱动电极AF和一个传感器电极SF。也就是说，在压电构件的F面(即第一面)上形成多个驱动电极。在压电构件431的B面(即第二面)上形成两个驱动电极AB和一个接地电极SB。两个驱动电极AF和两个驱动电极AB各自以与压电构件431的正面和背面上彼此的位置相对应的方式形成。这两个驱动电极AF和这两个驱动电极AB是用于通过激励光学低通滤波器410生成振动的驱动电极。作为控制电路的压电装置驱动电路111向这两个驱动电极AF和这两个驱动电极AB交替施加电压，从而使光学低通滤波器410振动。
传感器电极SF是用于检测光学低通滤波器410的振动的振动检测电极。在压电构件431的F面(第一面)上的两个驱动电极AF之间形成传感器电极SF。接地电极SB与数字照相机100的具有接地电位的部分、即地电连接。在压电构件431的B面(第二面)上的两个驱动电极AB之间形成接地电极SB。传感器电极SF和接地电极SB各自以与压电构件431的正面和背面上彼此的位置相对应的方式形成。传感器电极SF监视传感器电极SF所生成的输出电压相对于处于接地电压的接地电极SB如何变化，以检测光学低通滤波器410的振动。使用各向异性导电膜(ACF)，通过热压接合将驱动电极AFjga电极AB、传感器电极SF和接地电极SB连接到压电装置用的未示出的柔性印刷电路。驱动电极AF和AB经由压电装置用的柔性印刷电路的布线图案与压电装置驱动电路111连接。作为振动检测电极的传感器电极SF经由压电装置用的柔性印刷电路的布线图案与振动检测电路112连接。接地电极SB经由压电装置用的柔性印刷电路的布线图案与数字照相机100中的接地电位部连接。将如此配置的压电装置430a贴附于光学低通滤波器410，以使得压电构件431的F面或B面对着光学低通滤波器410，从而使得压电装置430a的长边与光学低通滤波器410的短边(一个边)平行。应该注意，如压电装置430a—样配置压电装置430b。将压电装置430b贴附于光学低通滤波器410，以使得压电构件431的F面或B面对着光学低通滤波器410，从而使得压电装置430b的长边与光学低通滤波器410的另一短边(另一个边)平行。传感器电极的位置接着说明在将压电装置430a和430b贴附于光学低通滤波器410时对压电装置430a和430b各自形成的传感器电极SF的位置。图8A是从摄像装置侧观看时，将压电装置430a和430b的B面贴附于光学低通滤波器410的摄像装置侧的表面的状态的图。如图8A所示，将压电装置430a贴附于光学低通滤波器410，以使得压电装置430a的长边与光学低通滤波器410的一个短边(一个边)平行。压电装置430a的长边的长度和光学低通滤波器410的一个短边(一个边)的长度近似相同。如图8A所示，将压电装置430b贴附于光学低通滤波器410，从而使得压电装置430b的长边与光学低通滤波器410的另一短边(另一个边)平行。压电装置430b的长边的长度和光学低通滤波器410的另一短边(另一个边)的长度近似相同。如上所述，以频率f(f (m) < f < f(m+l))振动光学低通滤波器410以输送异物。此时，频率f必须是在f(m)和f(m+l)之间通过激励生成最适于输送的行波的频率。图8A是频率f的行波的示意图。图8A仅示出从摄像装置侧观看光学低通滤波器410以及压电装置430a和430b的图。如图8A所示，通过激励生成在光学低通滤波器410的长边方向、即与光学低通滤波器410的贴附有压电装置430a和430b的短边垂直的方向行进的行波。此时，在光学低通滤波器410的短边方向上发生如图8A所示的第一阶振动模式的驻波。图8A中的虚线表示第一阶驻波的波节。第一阶驻波的每一个波节相对于光学低通滤波器410的短边方向的中心轴对称地出现在光学低通滤波器410的短边方向上。第一阶驻波是在频率f(m)(第m阶振动模式)和频率f (m+1)(第m+1阶振动模式)之间的频率发生的驻波。通过在光学低通滤波器410的长边方向上行进的行波和在光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的合成波，在光学低通滤波器410的长边方向上输送已附着至光学低通滤波器410表面的异物。在光学低通滤波器410的短边方向上的中心轴处，输送异物的合成波的振幅最大，其中，该中心轴位于光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的波腹处。越远离光学低通滤波器410的短边方向上的中心轴 ，并且越接近与在光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的波节相对应的部分，输送异物的合成波的振幅变得越小。在与光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的波节相对应的部分处，输送异物的合成波的振幅最小。因此，存在下面的可能性在与光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的波节相对应的部分处，可能不能获得足够用于输送异物的振幅。对于本实施例，通过优化光学低通滤波器的大小，使得第一阶驻波的波节发生在光学有效区域的外部。也就是说，将光学低通滤波器的大小设置成使得第一阶驻波的波节发生在光学有效区域的外部。因此，在光学低通滤波器410的光学有效区域内可以获得足够用于输送异物的振幅。在光学低通滤波器410的长边方向上行进的行波在光学低通滤波器410的长边的边缘处、即光学低通滤波器410的没有贴附压电装置430a和430b的边缘处反射。因此，发生除在光学低通滤波器410的短边方向上生成的第一阶驻波以外的振动。在光学低通滤波器410的长边边缘处发生的反射波表现与输送异物的合成波的干涉。该干涉导致光学低通滤波器410的长边附近的合成波的振幅大小不均一，从而导致与输送异物的合成波的相位不同的相位的振动。因此，如果传感器电极SF位于相对于在光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的波节的外部，则传感器电极SF不能精确地检测输送异物的合成波。另一方面，如果传感器电极SF位于在光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的波节上，则由于输送异物的合成波的振幅小，所以振动和噪声之间的区分变得困难。因此，将压电装置430a和430b贴附于光学低通滤波器410，以使得传感器电极SF位于在光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的波节之间。也就是说，传感器电极SF位于在贴附了压电装置430a和430b的光学低通滤波器410的短边方向上发生的振动的多个波节之间。对于本实施例，传感器电极SF的位置在光学低通滤波器410的短边方向的中心轴上。因此，传感器电极SF可以检测到振幅最大的合成波，因而振动和噪声之间的区分变得容易。另外，越接近光学低通滤波器410的短边方向的中心轴，在光学低通滤波器410的长边边缘处发生的反射波的影响越小。因此，通过使传感器电极SF位于光学低通滤波器410的短边方向的中心轴上，可以精确检测输送异物的合成波。另外，对于本发明，如图8A所示，将条状振动抑制构件470a和470b贴附于光学低通滤波器410，以使得其长边与光学低通滤波器410的长边平行。另外，如图8A所示，使密封构件450位于光学低通滤波器410的光学有效区域外部的区域。将压电装置430a和430b贴附于在光学低通滤波器410的长边方向上位于密封构件450外侧的区域。将振动抑制构件470a和470b贴附于在光学低通滤波器410的短边方向上位于密封构件450外侧的区域。也就是说，将振动抑制构件470a贴附于光学低通滤波器410以使其与光学低通滤波器410的上长边平行。将振动抑制构件470b贴附于光学低通滤波器410以使其与光学低通滤波器410的下长边平行。如图8A所示，振动抑制构件470a和470b的长边的长度B比对光学低通滤波器410所设置的光学有效区域的长边的长度长。将振动抑制构件470a和470b贴附于光学低通滤波器410，以使得光学低通滤波器410的光学有效区域位于振动抑制构件470a和470b的长边的范围内。此时，振动抑制构件470a的外侧的长边的端面从光学低通滤波器410的长边的端面突出，并且振动抑制构件470a的内侧的长边的端面相对于在光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的波节位于更外侧。也就是说，将振动抑制构件470a贴附于光学低通滤波器410，以使得振动抑制构件470a的端面从光学低通滤波器410的端面突出。类似地，振动抑制构件470b的外侧的长边的端面从光学低通滤波器410的长边的 端面突出，并且振动抑制构件470b的内侧的长边的端面相对于在光学低通滤波器410的短边方向上发生的第一阶驻波的波节位于更外侧。也就是说，将振动抑制构件470b贴附于光学低通滤波器410，以使得振动抑制构件470b的端面从光学低通滤波器410的端面突出。图8B是沿图8A的VIIIB-VIIIB截取的横断面图。除图8A中的光学低通滤波器410及压电装置430a和430b以外，图SB还示出光学低通滤波器保持构件420的一部分。如图8B所示，由弹性构件470aa和双面胶带470ab构成振动抑制构件470a。弹性构件470aa和双面胶带470ab形状相同，其中，将双面胶带470ab的一个表面贴附于弹性构件470aa的一个面的整个表面上。将双面胶带470ab的另一个表面贴附于光学低通滤波器410。在将双面胶带470ab的另一个表面贴附于光学低通滤波器410时，振动抑制构件470a的端面从光学低通滤波器410的端面突出突出量C，如图SB所示。此时，突出量C > O就足够了。也就是说，可以以突出量C = O的方式将振动抑制构件470a贴附于光学低通滤波器410，即，使得光学低通滤波器410的长边边缘和振动抑制构件470a的长边边缘在同一平面上。然而，在利用将预先切割的振动抑制构件470a贴附在光学低通滤波器410上的工艺进行制造的情况下，由于部件和装配精度的不均一，光学低通滤波器410的端面可能并非希望地从振动抑制构件470a的端面突出。如果光学低通滤波器410的端面从振动抑制构件470a的端面突出(当突出量C < O时)，在光学低通滤波器410的边缘处反射波未充分衰减，并且导致与输送异物的合成波的干涉。因此，在利用将预先切割的振动抑制构件470a贴附于光学低通滤波器410的工艺的制造的情况下，振动抑制构件470a的端面优选从光学低通滤波器410的端面突出(突出量 C > O)。在利用将比光学低通滤波器410充分大的振动抑制构件470a贴附于光学低通滤波器410之后切割振动抑制构件470a的工艺进行制造的情况下，可以切割振动抑制构件470a以使得突出量C = O。在这种情况下，可以切割振动抑制构件470a，以使得光学低通滤波器410的端面不从振动抑制构件470a的端面突出，从而可允许突出量C = O。通过使得振动抑制构件470a的端面从光学低通滤波器410的端面突出(突出量C> O)，使双面胶带470ab的粘合面暴露于光学低通滤波器410的外部，如图8B所示。也就是说，在从光学低通滤波器410的端面突出的振动抑制构件470a的区域上也形成粘合面。因此，可以在双面胶带470ab的暴露粘合面处捕获从光学低通滤波器410的表面清除的异物，从而产生从光学低通滤波器410的表面清除的异物不会散布的优点。当通过光学低通滤波器保持构件420保持光学低通滤波器410时，将密封构件450紧压在光学低通滤波器410和光学低通滤波器保持构件420之间，如图SB所示，密封构件450的宽度从而变成E。此时，在振动抑制构件470a和光学低通滤波器保持构件420之间形成如图SB所示的间隙Y (Y > O)和间隙Z(Z > O)。也就是说，光学低通滤波器保持构件420以光学低通滤波器保持构件420不与振动抑制构件470a接触的方式保持光学低通滤波器410。这是因为在振动抑制构件470a与诸如树脂或金属等的具有高杨氏模量的材料、即硬材料接触的情况下，在光学低通滤波器410的边缘处生成的反射波不被弹性构件470aa充分衰减和/或吸收。注意，在振动抑制构件470a的端面从光学低通滤波器410的端面突出(突出量C>0)的情况下，间隙Y可以为O。另外，如果光学低通滤波器保持构件420是诸如聚氨酯泡沫或橡胶材料等的具有小杨氏模量的材料、即软材料，则间隙Y和间隙Z可以均为O。也就是说，可以允许光学低通 滤波器保持构件420与振动抑制构件470a接触。这是因为，具有小杨氏模量的材料、即软材料不会影响弹性构件470aa衰减和/或吸收反射波的效果。以与振动抑制构件470a —样的方式，可以由弹性构件470ba和双面胶带470bb构成振动抑制构件470b。弹性构件470ba和双面胶带470bb具有相同形状，其中，将双面胶带470bb的一个表面贴附于弹性构件470ba的一个面的整个表面上。使得被贴附成与光学低通滤波器410的下长边平行的振动抑制构件470b的突出量C'大于振动抑制构件470a的突出量C，这允许有效捕获从光学低通滤波器410的表面在重力方向掉下的异物。应该考虑所需粘合力和装配的便利性来确定图8B所示的振动抑制构件470a与光学低通滤波器410的粘合量D。对于振动抑制构件470b也是如此。优选由诸如PORON等的聚氨酯泡沫、人造橡胶、橡胶构件或硅橡胶等的杨氏模量小的材料、即软材料来形成弹性构件470aa。对于双面胶带470ab，普通粘合胶带就足够了，可想到的粘合剂的例子包括丙烯酸粘合剂、硅酮粘合剂和橡胶粘合剂等。双面胶带470ab用于衰减在光学低通滤波器410的端面处反射的振动，并且将这些反射波有效传递至弹性构件470aa。注意，尽管为了可加工性，对于本发明使用双面胶带，但是本发明不局限于该结构，并且可以使用软膏粘合剂获得相同优点。因此，将振动抑制构件470a和470b贴附于光学低通滤波器410，这使得在光学低通滤波器410的边缘处反射的反射波衰减。也就是说，可以经由双面胶带470ab和470bb在弹性构件470aa和470ba处衰减和/或吸收在光学低通滤波器410的长边边缘处反射的振动。通过衰减和/或吸收在光学低通滤波器410的边缘处反射的振动，可以有效使用用于输送异物的合成波，并且可以提高用于清除附着至光学低通滤波器410的表面的异物的能力。振动状杰的检测将参考图9说明光学低通滤波器410的振动状态的检测。图9示出在以频率f振动光学低通滤波器410的情况下由振动检测电路112所检测到的检测波形。振动检测电路112是用于检测由压电构件431的膨胀和收缩引起的电位差的电路。根据光学低通滤波器410的振动，由于压电效应，在传感器电极SF处生成正弦波电压。此时，接地电极SB持续保持接地电压(OV)，因而通过振动检测电路112获得图9所示的正弦波形VSF。这里所检测到的电位差Va与光学低通滤波器410的振幅成正比。此时检测到的相位Θ表示光学低通滤波器410的振动相位。因此可以通过监视输出电压波形来检测光学低通滤波器410处生成的合成波。可以作为反馈来控制施加于压电装置430a和430b的电压和电压频率，以使得电位差Va和相位Θ为预定值，从而生成想要的输送振动。另外，可以进行故障或异常的检测。例如，如果由振动检测电路112检测到的电位差Va与期望大小显著不同，则推定光学低通滤波器410的振动异常。因此，可以停止异物清除单元的操作并且更换该单元等来应对这一情况。
第一实施例的夺形例接着将参考图IOA和IOB说明上述第一实施例的变形例。以与图8A相同的方式，图IOA是从摄像装置侧观看时将压电装置430a和430b的B面贴附于光学低通滤波器410的摄像装置侧的表面的状态的图。对于图8A和8B所不的第一实施例,将振动抑制构件470a贴附于密封构件450上方，并且将振动抑制构件470b贴附于密封构件450下方。作为对比，在图IOA和IOB所示的变形例中，作为振动抑制构件570 —体化形成第一实施例所示的密封构件450、振动抑制构件470a和振动抑制构件470b。其它点与第一实施例的相同，因此省略对其的说明。如图IOA所示，振动抑制构件570具有形成有开口的矩形形状。通过双面胶带将振动抑制构件570贴附于光学低通滤波器410。形成振动抑制构件570，以使得其短边的长度长于光学低通滤波器410的短边，并且在振动抑制构件570上形成的开口的大小大于光学有效区域。振动抑制构件570的长边的长度B长于光学低通滤波器410中设置的光学有效区域的长边的长度。在将振动抑制构件570贴附于光学低通滤波器410以使得光学低通滤波器410的光学有效区域位于振动抑制构件570的开口内时，振动抑制构件570的长边的端面都从光学低通滤波器410的长边的端面突出。振动抑制构件570被夹持在光学低通滤波器410和光学低通滤波器保持构件420之间，并且在其间被压缩，从而密封光学低通滤波器410的光学有效区域。图IOB是沿图IOA的XB-XB截取的横断面图。除图IOA所示的光学低通滤波器410及压电装置430a和430b以外，图IOB还示出光学低通滤波器保持构件420 '的一部分。在光学低通滤波器保持构件420'的用于保持光学低通滤波器410的表面上形成有凸起420a'，并且光学低通滤波器保持构件420'通过凸起420a'与振动抑制构件570的一部分接触来保持光学低通滤波器410。如图IOB所示，由弹性构件570a和双面胶带570b构成振动抑制构件570。弹性构件570a和双面胶带570b具有相同形状，其中，将双面胶带570b的一个表面贴附于弹性构件570a的一个面的整个表面。将双面胶带570b的另一表面贴附于光学低通滤波器410。在将双面胶带570b的另一表面贴附于光学低通滤波器410时，振动抑制构件570的端面从光学低通滤波器410的端面突出突出量C，如图IOB所示。突出量C和粘合量D与第一实施例的相同，因而省略说明。如图IOB所示，与凸起420a'接触的宽度为E的部分具有与第一实施例的密封构件450相同的功能。在振动抑制构件570和光学低通滤波器保持构件420'之间形成如图IOB所示的间隙Υ(Υ>0)和间隙Ζ(Ζ>0)。也就是说，光学低通滤波器保持构件420'保持光学低通滤波器410，以使得在光学低通滤波器410的贴附有振动抑制构件570的边附近、振动抑制构件570和光学低通滤波器保持构件420'不接触。这是因为，如果振动抑制构件570与诸如树脂或金属等的具有高杨氏模量的材料、即硬材料接触，则通过弹性构件570a未充分衰减和/或吸收在光学低通滤波器410的边缘处生成的反射波。注意，如果振动抑制构件570的端面从光学低通滤波器410的端面突出(突出量C > O)，则间隙Y可以为O。
另外，如果光学低通滤波器保持构件420'是诸如聚氨酯泡沫或橡胶材料等的具有小的杨氏模量的材料、即软材料，则间隙Y和间隙Z可以都是O。也就是说，可以允许光学低通滤波器保持构件420'与振动抑制构件570接触。这是因为，具有小杨氏模量的材料、即软材料不会影响弹性构件570a衰减和/或吸收反射波的效果。第二实施例将参考附图详细说明本发明的第二实施例。对于上述第一实施例，在光学低通滤波器410处生成在光学低通滤波器410的长边方向上行进的行波。代替此，对于第二实施例，在光学低通滤波器410的长边方向上，即与贴附有压电装置430a的光学低通滤波器410的短边垂直的方向上生成驻波。对于本实施例，在光学低通滤波器410的长边方向上生成驻波，因而在光学低通滤波器410的法线方向上弹出异物，从而清除异物。图11是示出根据本实施例在光学低通滤波器410处通过激励所生成的两个振动模式的频率和振幅之间的关系的图。如图11所示，利用以f(rn)表示的频率通过激励生成第m阶振动模式的弯曲振动,并且利用以f (m+1)表示的频率通过激励生成第m+1阶振动模式的弯曲振动。这里，如果将要施加于压电装置430a的电压的频率f设置成f = f (m)和f = f(m+l)，则可以使用第m阶振动模式的谐振和第m+1阶振动模式的谐振。图12A和12B是示出在m是奇数的情况下第m阶振动模式和第m+1阶振动模式的波形、以及施加于压电装置430a的电压的图。作为m是奇数的情况的例子，图12A和12B示出m = 9的情况。图12A是从主镜6侧观看时的光学低通滤波器410的图。将压电装置430a贴附于光学低通滤波器410的朝向摄像装置33侧的表面。如图12A所示，在各振动模式的弯曲振动中，在光学低通滤波器410的长边方向上，以相等间隔观察到在压电装置430的长边方向上的多个波节。图12B通过实数成分和虚数成分表示在各个振动模式的弯曲振动中施加于压电装置430a的AC电压的振幅。图12B中的⑴示出第m阶振动模式的弯曲振动的AC电压。图12B中的⑵示出第m+1阶振动模式的AC电压。注意，为了在这两个振动模式的弯曲振动中检测到相同振幅，通过在第m阶振动模式的弯曲振动和第m+1阶振动模式的弯曲振动之间的振幅比为A I的情况下第m阶振动模式的弯曲振动的振幅，对各振动模式的弯曲振动的电压进行标准化。通过交替施加应用电压(I)和(2)，在光学低通滤波器410中生成不同阶次的两个驻波。具体地，通过在光学低通滤波器410中以频率f(m)激励生成第m阶振动模式的弯曲振动，生成第一驻波。另外，通过在光学低通滤波器410中以频率f (m+1)激励生成第m+1阶振动模式的弯曲振动，生成第二驻波。通过如此交替，可以弹出附着至光学低通滤波器410的表面的异物，并且可以清除异物。
通过在光学低通滤波器410处生成阶次相差I的两个驻波，即使在存在粘附在第一驻波的波节上的异物的情况下，也可以通过以第二驻波振动光学低通滤波器410来进行清除该异物。也就是说，通过使用具有相邻阶次的偶数波节和奇数波节的振动模式使波节出现在不同位置，提高异物清除的效果。另外，要使用的驻波的数量不局限于两个，并且可以交替生成诸如频率f = f(m)、f(m+l)和f(m+2)等的具有相邻阶次的三个驻波，或者可以交替生成更多数量的驻波。图13A是从摄像装置侧观看时将压电装置430a的B面贴附于光学低通滤波器410的摄像装置侧的状态的图。如图13A所示，将压电装置430a贴附于光学低通滤波器410以使得压电装置430a的长边沿光学低通滤波器410的一个短边(一个边)。压电装置430a的长边的长度和光学低通滤波器410的短边的长度近似 相等。图13A示出频率f = f(m)的振动模式的弯曲振动的示意图。作为m为奇数的情况的例子，图13A示出m = 9的情况。如图13A所示，通过激励在光学低通滤波器410的长边方向、即与贴附有压电装置430a的光学低通滤波器410的短边垂直的方向上生成驻波。图13A中的虚线表示驻波的波节。以与第一实施例相同的方式，在光学低通滤波器410的短边方向上生成第一阶驻波。然而，如果在长边方向上生成驻波，则与在长边方向上生成的驻波的振幅相比，在短边方向上生成的第一阶驻波的振幅小很多。因此，在长边方向上生成驻波的情况下，长边方向上生成的驻波的振幅几乎不因为短边方向上所生成的第一阶驻波的振幅而改变。在光学低通滤波器410的长边边缘处，即在没有贴附压电装置430a的光学低通滤波器410的边缘处，反射在光学低通滤波器410的长边方向上生成的驻波。因此，在光学低通滤波器410的长边附近的驻波的振动中发生不均一，并且发生除驻波的相位以外的相位的振动。因此，如果使传感器电极SF位于光学低通滤波器410的长边边缘附近，则传感器电极SF不能精确检测在光学低通滤波器410的长边方向上生成的驻波。因此，将压电装置430贴附于光学低通滤波器410，以使得传感器电极SF位于以图13A中的L所示的、光学低通滤波器410的短边方向上的光学有效区域的范围内。对于本实施例，传感器电极SF的位置在光学低通滤波器410的短边方向的中心轴上。因此，可以最小化在光学低通滤波器410的长边边缘处生成的反射波的影响。另外，如图13A所示，将振动抑制构件670贴附于光学低通滤波器410，以覆盖光学低通滤波器410的两个长边和未贴附压电装置430a的光学低通滤波器410的一个短边。如图13A所示，将振动抑制构件670贴附于光学低通滤波器410，以使得内侧的三个边位于密封构件650的外侧，并且使得外侧的三个边均从光学低通滤波器410的三个边突出。也就是说，振动抑制构件670的外侧的边的端面均从光学低通滤波器410的边的端面突出。图13B是沿图13A的XIIIB-XIIIB截取的横断面图。除图13A所示的光学低通滤波器410及压电装置430a以外，图13B还示出光学低通滤波器保持构件420的一部分。如图13B所示，由弹性构件670a和双面胶带670b构成振动抑制构件670。弹性构件670a和双面胶带670b具有相同形状，其中，将双面胶带670b的一个表面贴附于弹性构件670a的一个面的整个表面。将双面胶带670b的另一表面贴附于光学低通滤波器410。在将双面胶带670b的另一表面贴附于光学低通滤波器410时，振动抑制构件670的端面从光学低通滤波器410的端面突出突出量C，如图13B所示。突出量C和粘合量D与第一实施例的相同，因而省略说明。如图13B所示，当通过光学低通滤波器保持构件420保持光学低通滤波器410时，将密封构件650紧压在光学低通滤波器410和光学低通滤波器保持构件420之间，从而密封构件650的宽度变成E。此时，在振动抑制构件670和光学低通滤波器保持构件420之间形成如图13B所示的间隙Y (Y > O)和间隙Z(Z > O)。也就是说，光学低通滤波器保持构件420以使得光学低通滤波器保持构件420不与振动抑制构件670接触的方式保持光学低通滤波器410。这是因为，如果振动抑制构件670与诸如树脂或金属等的具有高杨氏模量的材料、即硬材料接触，则通过弹性构件670a没有充分衰减和/或吸收在光学低通滤波器410的边缘处生成的反射波。注意，如果振动抑制构件670的端面从光学低通滤波器410的端面突出(突出量C > O)，则间隙Y可以为O。另外，如果光学低通滤波器保持构件420是诸如聚氨酯泡沫或橡胶材料等的具有小的杨氏模量的材料、即软材料，则间隙Y和间隙Z都可以是O。也就是说，可以允许光学低通滤波器保持构件420与振动抑制构件670接触。这是因为，具有小杨氏模量的材料、即软 材料不会影响弹性构件670a衰减和/或吸收反射波的效果。如上所述，即使在光学低通滤波器410的长边方向上生成的振动类型是驻波，或者即使使用压电装置的数量是I的结构，也可以具有与第一实施例相同的优点。第二实施例的变形例接着参考图14A和14B说明上述第二实施例的变形例。以与图13A相同的方式，图14A是从摄像装置侧观看时将压电装置430a的B面贴附于光学低通滤波器410的摄像装置侧的状态的图。对于图13A和13B所示的第二实施例，将振动抑制构件670贴附于密封构件650外侧。作为比较，利用如图14A和14B所示的变形例，作为振动抑制构件770 —体化形成第二实施例所示的密封构件650和振动抑制构件670。其它点与第二实施例的相同，因此省略对其的说明。如图14A所示，振动抑制构件770具有在其上形成有开口的矩形形状。通过双面胶带将振动抑制构件770贴附于光学低通滤波器410。形成振动抑制构件770，以使得其短边的长度长于光学低通滤波器410的短边，并且在振动抑制构件770上形成的开口的大小大于光学有效区域。将振动抑制构件770贴附于光学低通滤波器410以使得光学低通滤波器410的光学有效区域位于振动抑制构件770的开口内，因此，振动抑制构件770的三个边的端面分别从光学低通滤波器410的两个长边的端面和未贴附压电装置430a的一个短边的端面突出。也就是说，振动抑制构件770的外侧的边的端面都从光学低通滤波器410的边的端面突出。振动抑制构件770被夹持在光学低通滤波器410和光学低通滤波器保持构件420之间，并且在其间被压缩，从而密封光学低通滤波器410的光学有效区域。图14B是沿图14A的XIVB-XIVB截取的横断面图。除光学低通滤波器410及压电装置430a以外，图14B还示出光学低通滤波器保持构件420'的一部分。在光学低通滤波器保持构件420'的用于保持光学低通滤波器410的表面上形成有凸起420a'，并且光学低通滤波器保持构件420'通过凸起420a'与振动抑制构件770的一部分相接触来保持光学低通滤波器410。
如图14B所示，由弹性构件770a和双面胶带770b构成振动抑制构件770。弹性构件770a和双面胶带770b具有相同形状，其中，将双面胶带770b的一个表面贴附于弹性构件770a的一个面的整个表面。将双面胶带770b的另一表面贴附于光学低通滤波器410。在将双面胶带770b的另一表面贴附于光学低通滤波器410时，振动抑制构件770的端面从光学低通滤波器410的端面突出突出量C，如图14B所示。突出量C和粘合量D与第一实施例的相同，因而省略说明如图14B所示，与凸起420a'接触的宽度为E的区域具有与第一实施例的密封构件650相同的功能。在振动抑制构件770和光学低通滤波器保持构件420'之间形成如图14B所示的间隙Υ(Υ>0)和间隙Ζ(Ζ>0)。也就是说，光学低通滤波器保持构件420'保持光学低通滤波器410，以使得振动抑制构件770和光学低通滤波器保持构件420'在光学低通滤波器410的贴附有振动抑制构件770的边附近不接触。这是因为，如果振动抑制构件770与诸 如树脂或金属等的具有高杨氏模量的材料、即硬材料接触，则通过弹性构件770a没有充分衰减和/或吸收在光学低通滤波器410的边缘处生成的反射波。注意，如果振动抑制构件770的端面从光学低通滤波器410的端面突出(突出量C > O)，则间隙Y可以为O。另外，如果光学低通滤波器保持构件420'是诸如聚氨酯泡沫或橡胶材料等的具有小的杨氏模量的材料、即软材料，则间隙Y和间隙Z可以都是O。也就是说，可以允许光学低通滤波器保持构件420'与振动抑制构件770接触。这是因为，具有小杨氏模量的材料、即软材料不会影响弹性构件770a衰减和/或吸收反射波的效果。这里，根据本发明的光学构件不局限于光学低通滤波器410。尽管以上说明了通过在石英双折射板处进行激励生成振动的结构，但是双折射板的材料不局限于石英，并且作为代替，可以使用铌酸锂。另外，可以做出在通过分层配置双折射板、相位板和红外吸收滤波器所构成的光学低通滤波器处、或者在单个红外吸收滤波器处进行激励而生成振动的结构。此外，可以做出通过在配置在双折射板前面的单个玻璃板处进行激励而生成振动的结构。尽管说明了与将本发明应用于数字照相机的例子有关的上述实施例，但是本发明还可应用于诸如液晶投影仪等的光学设备中。如果诸如灰尘等的异物附着到具有诸如液晶投影仪等的光学设备的投影光学系统的光学构件的表面，则会投影异物的阴影，因此可以进行与上述实施例相同的配置。尽管参考典型实施例说明了本发明，但是应该理解，本发明不局限于所公开的典型实施例。所附权利要求书的范围符合最宽的解释，以包含所有这些修改、等同结构和功倉泛。
权利要求
1.一种异物清除单元，包括 矩形的光学构件，其被配置在光路上，其中，在所述光学构件中设置有光束穿过的光学有效区域； 压电装置，其被设置到在所述光学有效区域的外侧的所述光学构件的边；以及 振动抑制构件，其被设置到所述光学构件的没有设置所述压电装置的边， 其中，所述振动抑制构件被设置到所述光学构件，以使得所述光学构件的设置了所述振动抑制构件的边的端面不从所述振动抑制构件的端面突出。
2.根据权利要求I所述的异物清除单元，其特征在于， 所述振动抑制构件具有长边的长度比所述光学有效区域的长边的长度长的条形形状，以及 所述振动抑制构件被设置到所述光学构件，以使得所述光学有效区域的长边在所述振动抑制构件的长边的范围内。
3.根据权利要求I所述的异物清除单元，其特征在于，还包括 保持构件，用于保持所述光学构件， 其中，所述保持构件以所述保持构件不与所述振动抑制构件接触的方式保持所述光学构件。
4.根据权利要求3所述的异物清除单元，其特征在于，还包括 密封构件，其被夹持在所述光学构件和所述保持构件之间，用于密封所述光学有效区域， 其中，所述振动抑制构件以比所述密封构件更靠外侧的方式被设置到所述光学构件。
5.根据权利要求I所述的异物清除单元，其特征在于， 所述振动抑制构件具有形成有比所述光学有效区域大的开口的矩形形状，以及所述振动抑制构件以使得所述光学有效区域位于所述开口内的方式被设置到所述光学构件。
6.根据权利要求5所述的异物清除单元，其特征在于，还包括 保持构件，用于保持所述光学构件， 其中，所述保持构件以使得所述振动抑制构件和所述保持构件在所述光学构件的设置了所述振动抑制构件的边附近不接触的方式保持所述光学构件。
7.根据权利要求6所述的异物清除单元，其特征在于， 通过将所述振动抑制构件夹持在所述光学构件和所述保持构件之间，密封所述光学有效区域。
8.根据权利要求I所述的异物清除单元，其特征在于， 所述振动抑制构件被贴附于所述光学构件，以使得所述振动抑制构件的端面从所述光学构件的端面突出，以及 在所述振动抑制构件的从所述光学构件的端面突出的区域上还形成有粘附面。
9.根据权利要求I所述的异物清除单元，其特征在于， 所述压电装置通过激励同时生成第一弯曲振动和第二弯曲振动，以及所述第二弯曲振动的时间相位不同于所述第一弯曲振动的时间相位，并且所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差I。
10.根据权利要求I所述的异物清除单元，其特征在于， 所述压电装置在与所述光学构件的设置了所述压电装置的边垂直的方向上通过激励生成第一弯曲振动，以使得生成第一驻波， 所述压电装置在与所述光学构件的设置了所述压电装置的边垂直的方向上通过激励生成第二弯曲振动，以使得生成第二驻波，以及 所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差I。
11.一种光学设备，包括 矩形的光学构件，其被配置在光路上，其中，在所述光学构件中设置有光束穿过的光学有效区域； 压电装置，其被设置到在所述光学有效区域的外侧的所述光学构件的边；以及 振动抑制构件，其被设置到所述光学构件的没有设置所述压电装置的边， 其中，所述振动抑制构件被设置到所述光学构件，以使得所述光学构件的设置了所述振动抑制构件的边的端面不从所述振动抑制构件的端面突出。
12.根据权利要求11所述的光学设备，其特征在于， 所述振动抑制构件具有长边的长度比所述光学有效区域的长边的长度长的条形形状，以及 所述振动抑制构件被设置到所述光学构件，以使得所述光学有效区域的长边在所述振动抑制构件的长边的范围内。
13.根据权利要求11所述的光学设备，其特征在于，还包括 保持构件，用于保持所述光学构件， 其中，所述保持构件以所述保持构件不与所述振动抑制构件接触的方式保持所述光学构件。
14.根据权利要求13所述的光学设备，其特征在于，还包括 密封构件，其被夹持在所述光学构件和所述保持构件之间，用于密封所述光学有效区域， 其中，所述振动抑制构件以比所述密封构件更靠外侧的方式被设置到所述光学构件。
15.根据权利要求11所述的光学设备，其特征在于， 所述振动抑制构件具有形成有比所述光学有效区域大的开口的矩形形状，以及所述振动抑制构件以使得所述光学有效区域位于所述开口内的方式被设置到所述光学构件。
16.根据权利要求15所述的光学设备,其特征在于,还包括 保持构件，用于保持所述光学构件， 其中，所述保持构件以使得所述振动抑制构件和所述保持构件在所述光学构件的设置了所述振动抑制构件的边附近不接触的方式保持所述光学构件。
17.根据权利要求16所述的光学设备,其特征在于， 通过将所述振动抑制构件夹持在所述光学构件和所述保持构件之间，密封所述光学有效区域。
18.根据权利要求11所述的光学设备，其特征在于， 所述振动抑制构件被贴附于所述光学构件，以使得所述振动抑制构件的端面从所述光学构件的端面突出，以及 在所述振动抑制构件的从所述光学构件的端面突出的区域上还形成有粘附面。
19.根据权利要求11所述的光学设备，其特征在于， 所述压电装置通过激励同时生成第一弯曲振动和第二弯曲振动，以及所述第二弯曲振动的时间相位不同于所述第一弯曲振动的时间相位，并且所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差I。
20.根据权利要求11所述的光学设备，其特征在于， 所述压电装置在与所述光学构件的设置了所述压电装置的边垂直的方向上通过激励生成第一弯曲振动，以使得生成第一驻波， 所述压电装置在与所述光学构件的设置了所述压电装置的边垂直的方向上通过激励生成第二弯曲振动，以使得生成第二驻波，以及 所述第二弯曲振动的阶次与所述第一弯曲振动的阶次相差I。
全文摘要
一种异物清除单元和具有异物清除单元的光学设备，该异物清除单元包括矩形的光学构件，其被配置在光路上，其中，在所述条状光学构件中设置光束穿过的光学有效区域；压电装置，其被设置到所述光学有效区域的外侧的所述光学构件的边；以及振动抑制构件，其被设置到没有设置所述压电装置的所述光学构件的边。所述振动抑制构件被设置到所述光学构件，以使得设置了所述振动抑制构件的所述光学构件的边的端面没有从所述振动抑制构件的端面突出。
文档编号G02B7/00GK102636873SQ20121002894
公开日2012年8月15日 申请日期2012年2月9日 优先权日2011年2月9日
发明者浦上俊史 申请人:佳能株式会社