防水复合减反射膜的制作方法

文档序号:2716293阅读:164来源:国知局
防水复合减反射膜的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种防水复合减反射膜,本发明的防水复合减反射膜在具有抗水防污、强度高、耐磨损、轻薄方便、结构简单,使用寿命长等优点的基础上,优化了减反射膜的结构和组成,使其具备优异成型加工性,满足各种成型加工需求,抗紫外吸收剂能防止其开裂、气泡、分化、脱落和变色,抗静电剂使得材料表面电阻降低,抗氧剂增强材料的抗氧化能力,满足各类用户使用要求。
【专利说明】防水复合减反射膜
[0001]

【技术领域】
[0002]本发明涉及光学薄膜领域,特别涉及一种防水复合减反射膜。

【背景技术】
[0003]膜是具有选择性分离功能的材料,利用膜的选择性分离可实现固体、液体、气体、光线等的分离,这种分离过程为物理过程,不包含相的变化或者添加助剂,目前,膜技术在日常生活中也日益显示出它的重要作用和光明前进,其中以光学膜的作用尤为显著,光学膜常适用于建筑、汽车、色影、电子元器件等领域,现有的光学薄膜包含高透膜、高反膜、减反射膜、遮光膜等,其中减反射膜常采用直接镀层方法制备,膜的外表面与空气和水充分接触,抗水防污能力差,且针对各个领域的需求,不能满足多方面加工需求,严重影响了减反射膜的正常使用和寿命,以及应用领域。
[0004]


【发明内容】

[0005]为了克服上述缺陷,本发明提供了一种能够解决上述问题的防水复合减反射膜。
[0006]本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种防水复合减反射膜,包括:防水顶膜,密封层,防水底膜,复合薄膜层,第一减反射膜,和第二减反射膜,所述复合薄膜层由质量比为90-95%的工程塑料、质量比为0.05-3%的抗紫外吸收剂,质量比为0.05-1%的抗氧剂,1-6%的抗静电剂组成。
[0007]作为本发明的进一步改进,所述复合薄膜层的折射率为1.35-1.9。
[0008]作为本发明的进一步改进,所述第二减反射膜连接所述第一减反射膜的内表面,第二减反射膜的材质与第一减反射膜的材质相同防水复合减反射膜,厚度为50-100nm。
[0009]作为本发明的进一步改进,所述防水顶膜与所述密封唇、所述密封层与所述防水底膜之间采用热塑性粘合剂进行连接。
[0010]本发明的有益效果是:本发明的防水复合减反射膜在具有抗水防污、强度高、耐磨损、轻薄方便、结构简单,使用寿命长等优点的基础上,优化了减反射膜的结构和组成,使其具备优异成型加工性,满足各种成型加工需求,抗紫外吸收剂能防止其开裂、气泡、分化、脱落和变色,抗静电剂使得材料表面电阻降低,抗氧剂增强材料的抗氧化能力,满足各类用户使用要求。
[0011]

【专利附图】

【附图说明】
[0012]图1为本发明结构示意图;
图中标示:1-防水顶膜;2-密封层;3_防水底膜;4_复合薄膜层,5-第一减反射膜;6-第二减反射膜。
[0013]

【具体实施方式】
[0014]为了加深对本发明的理解,下面将结合实施例和附图对本发明作进一步详述,该实施例仅用于解释本发明,并不构成对本发明保护范围的限定。
[0015]图1示出了本发明一种防水复合减反射膜的一种实施方式,包括:
防水顶膜1,密封层2,防水底膜3,复合薄膜层4,第一减反射膜5,第二减反射膜6,
所述复合薄膜层4由质量比为95%的工程塑料、质量比为3%的抗紫外吸收剂,质量比为1%的抗氧剂,1%的抗静电剂组成。
[0016]所述复合薄膜层4的折射率为1.6。
[0017]所述第二减反射膜6连接所述第一减反射膜5的内表面,第二减反射膜6的材质与第一减反射膜5的材质相同防水复合减反射膜,厚度为50-100nm。
[0018]所述防水顶膜I与所述密封层2、所述密封层2与所述防水底膜3之间采用热塑性粘合剂进行连接。
【权利要求】
1.一种防水复合减反射膜,其特征在于,包括: 防水顶膜(1),密封层(2),防水底膜(3),复合薄膜层(4),第一减反射膜(5),第二减反射膜(6), 所述复合薄膜层(4)由质量比为90-95%的工程塑料、质量比为0.05-3%的抗紫外吸收齐U,质量比为0.05-1%的抗氧剂,1-6%的抗静电剂组成。
2.根据权利要求1所述的防水复合减反射膜,其特征在于:所述复合薄膜层(4)的折射率为 1.35-1.9。
3.根据权利要求1所述的防水复合减反射膜,其特征在于:所述第二减反射膜(6)连接所述第一减反射膜(5)的内表面,第二减反射膜(6)的材质与第一减反射膜(5)的材质相同防水复合减反射膜,厚度为50-100nm。
4.根据权利要求1所述的防水复合减反射膜,其特征在于:所述防水顶膜(I)与所述密封层(2)、所述密封层(2)与所述防水底膜(3)之间采用热塑性粘合剂进行连接。
【文档编号】G02B1/10GK104316983SQ201410609030
【公开日】2015年1月28日 申请日期:2014年11月4日 优先权日:2014年11月4日
【发明者】尚修鑫 申请人:苏州精创光学仪器有限公司
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