标靶影像对位装置及具有该装置的曝光机的制作方法

本发明涉及一种标靶影像对位装置及具有该装置的曝光机，该曝光机用于对基板进行曝光，该标靶影像对位装置用于在该基板进行曝光之前，检测基板与底片是否正确对位。

背景技术：

请参照图1及图2，其示为现有的双面曝光机的示意图，该双面曝光机具有一标靶影像对位装置100、两个曝光框单元200A,200B及一曝光装置300，该两个曝光框单元200A,200B交替地往返移载于一对位位置与一曝光位置，各该曝光框单元200A,200B先于该对位位置上进行对位程序，以确保各该曝光框单元200A,200B中的底片与基板正确对准后，再输送至该曝光位置，该曝光装置300设置于该曝光位置上方，用于对各该曝光框单元200A,200B曝光。

现有的双面曝光机可具有一个或多个标靶对位装置，该标靶影像对位装置100设置于该双面曝光机上并位于该对位位置的正上方，其包括一CCD摄影机110、一光源模块120及一升降模块130，该CCD摄影机110的镜头正对该对位位置以供对该对位位置上的曝光框单元200A或200B取像，该光源模块120设置于该升降模块130底端。

如图1所示，当需更换底片或取放基板时，必须将各该曝光框单元200A,200B的上框体向上掀起，此时，该升降模块130为一收起状态，使该光源模块120远离该对位位置一段距离，以供各该曝光框单元200A,200B的上框体有空间能向上掀起；如图2所示，在对位程序中，该升降模块130通过马达及皮带轮驱动而下降，使该光源模块120接近该对位位置上的曝光框单元200A或200B，以提供该CCD摄影机110取像时需要的照明亮度。

为了使各该曝光框单元200A,200B的上框体能向上掀起的空间足够，因 此该光源模块120必须通过该升降模块130驱动足够的升降行程，然而，该光学模块120在升降的过程中容易产生晃动及不稳，导致对于精确度有不利的影响，再者，每次在对位程序中，需等待该光学模块120下降至定点后，才能进行取像，因而造成对位时间长的缺点，更降低了生产效率。另一方面，该标靶影像对位装置100设置于该对位位置的正上方，故该双面曝光机具有不小的设备高度，占用了不少的厂房空间且不利搬运。

技术实现要素：

为改善现有双面曝光机所存在的光学检测精确度不佳、对为过程时间长、生产效率低及设备占空间等缺点，本发明提出了一种标靶影像对位装置及具有该装置的曝光机。

为达上述目的及其他目的，本发明公开了一种标靶影像对位装置，应用于曝光机以供进行基板与底片的标靶间的对位程序，该曝光机包含承载基板与底片的两个曝光框单元，该两个曝光框单元沿第一方向交替地往返移载于对位位置与曝光位置，该标靶影像对位装置包含二维移载单元及光学检测单元，该二维移载单元包括第一滑轨、第一滑座、第二滑轨及第二滑座，该第一滑轨用于设置于该曝光机上且位于该对位位置的邻侧，并以其滑动方向平行于该第一方向的方式配置；该第一滑座可移动地设置于该第一滑轨上以被驱动滑动；该第二滑轨与该第一滑座结合并以其滑动方向平行于第二方向且延伸至该对位位置上方的方式配置，该第二方向垂直该第一方向；该第二滑座可移动地设置于该第二滑轨上以被驱动滑动；该光学检测单元设置于该第二滑座上，该光学检测单元具有光源组及摄影机，在对位程序期间，该光学检测单元与该第二滑座之间的相对位置为固定。

上述的标靶影像对位装置，其中进一步包含顶升单元，该顶升单元用于设置于该曝光机的该对位位置的下方，以供抬升位于该对位位置的曝光框单元，而使各该曝光框单元与该光学检测单元之间相距有默认距离。

上述的标靶影像对位装置，其中进一步包含高度微调座，该高度微调座设置于该第二滑座上并承载该摄影机，用于调整该摄影机相对于位在该对位位置上的曝光框单元的位置。

上述的标靶影像对位装置，其中该光学检测单元具有雷射模块，用于对准该摄影机的视野范围内发射激光束。

为达上述目的及其他目的，本发明还公开了一种曝光机包含两个曝光框单元、上述的标靶影像对位装置及曝光装置，该两个曝光框单元沿第一方向交替地往返移载于对位位置与曝光位置；该曝光装置设置于该曝光位置上方，用于对各该曝光框单元曝光。

据此，相较于现有技术，上述的标把影像对位装置及曝光机，在结构配置上，该光学检测单元与位于该对位位置的曝光框单元较为靠近，因此可提高检测的精准度且可采用定倍率的镜头，此外，由于该光学检测单元于对位程序中与该第二滑座相对固定，即该光学检测单元于对位程序前、中、后的过程中均无需升降作动，因此减少了移载过程中的晃动而增进了精准度。

附图说明

图1为现有的双面曝光机的侧面示意图；

图2为现有的双面曝光机中光源模块下降接近对位位置的示意图；

图3为本发明实施例的曝光机的侧视示意图；

图4为本发明实施例的标把影像对位装置的俯视示意图；

图5为本发明实施例的标把影像对位装置的侧视示意图；

图6为本发明实施例的标把影像对位装置的正面示意图；

图7为本发明实施例的曝光机中对位程序开始的状态示意图；

图8为本发明实施例的曝光机中对位程序进行中的状态示意图；

图9为本发明实施例的曝光机中曝光框单元打开的状态示意图；

图10为本发明实施例的标把影像对位装置中光学检测单元的示意图。

【符号说明】

1 标靶影像对位装置

2 曝光框单元

3 曝光框单元

4 曝光装置

10 二维移载单元

11 第一滑轨

12 第一滑座

13 第二滑轨

14 第二滑座

20 光学检测单元

21 光源组

22 摄影机

23 雷射模块

30 顶升单元

40 高度微调座

41 旋钮

100 标靶影像对位装置

110 CCD摄影机

120 光源模块

130 升降模块

200A 曝光框单元

200B 曝光框单元

300 曝光装置

具体实施方式

为充分了解本发明的目的、特征和功效，现通过下述具体的实施例，并配合附图，对本发明做进一步详细说明，说明如下：

以下揭露的实施例当中，各组件前的冠词“一”可为“一个以上”，而非限制各组件于实施时的数量。

参照图3，本发明实施例揭示包含标靶影像对位装置1的曝光机，该曝光机包含两个曝光框单元2,3、一标靶影像对位装置1及一曝光装置4。

该标靶影像对位装置1用于进行基板与底片(图中未示)的标靶间的对位程序，该曝光机包含承载基板与底片的两个曝光框单元2,3，该两个曝光框单元2,3沿一第一方向交替地往返移载于一对位位置与一曝光位置，各该曝光框单元于该对位位置上进行对位程序，以检测底片与基板间是否对准，其利用光学检测单元检测底片与基板上的标靶影像是否相迭合，若底片与基板上的标靶影像为相迭合，代表底片与基板为对准；在确定当前位于该对位位置上的曝光框单元中的底片与基板为对准之后，该曝光框单元被输送至该曝光位置，该曝光装置4设置于该曝光位置上方，用于对各该曝光框单元2,3曝光。

在图3当中，该曝光框单元2位于该对位位置，该曝光框单元3位于该曝光位置。该曝光机上在该对位位置至该曝光位置的两侧设置输送轨道(图中未示)，各该曝光框单元2,3通过输送轨道沿该第一方向交替地往返移载于该对位位置与该曝光位置。

请参照图4至图6，该标靶影像对位装置1包含一二维移载单元10及一光学检测单元20，该二维移载单元10包括一第一滑轨11、一第一滑座12、一第二滑轨13及一第二滑座14，该第一滑轨11用于设置于该曝光机上且位于该对位位置的邻侧，并以其滑动方向平行于该第一方向的方式配置；该第一滑座12可移动地设置于该第一滑轨11上以被驱动滑动，如图5所示；该第二滑轨13与该第一滑座12结合并以其滑动方向平行于一第二方向且延伸至该对位位置上方的方式配置，该第二方向垂直该第一方向；该第二滑座14可移动地设置于该第二滑轨13上以被驱动滑动，如图6所示；该光学检测单元20设置于该第二滑座14上，该光学检测单元20具有一光源组21及一摄影机22，在对位程序期间，该光学检测单元20与该第二滑座14之间的相对位置为固定。

图4至6中示例该标靶影像对位装置1配置有两条第一滑轨11、四个第一滑座12、四条第二滑轨13及四个第二滑座14，两条第一滑轨11分别配置于该对位位置的相对两侧，图4显示该标靶影像对位装置1的俯视示意 图，图5显示该标靶影像对位装置1的侧面示意图，图6显示该标靶影像对位装置1的正面示意图，各第一滑轨11上配置两个第一滑座12，而每一个第一滑座12上均配置有一条第二滑轨13及一个第二滑座14，并于每一个第二滑座14上装载有一光学检测单元20，是故，总共为四个的光学检测单元20对应于默认的基板与底片上的四个标靶位置。然而，前述的第一滑轨11、第一滑座12、第二滑轨13、第二滑座14及光学检测单元等组件的数量仅作为示例说明，本发明的范围并不限于本实施例与图式，其可依实际应用时，基板与底片上的标靶设计、设备机台的规格等因素进行变化。

当开始对位程序时，如图7所示，各该第一滑座12被驱动而于该第一滑轨11上沿该第一方向滑动，各该第一滑座12上的第二滑轨13一起移动；如图8所示，各该第一滑座12于该第一方向上接近标靶位置，再如图6所示地，各该第二滑座14被驱动沿该第二方向滑动，以使各该光学检测单元20与对应的标靶位置对位。

如图9所示，各该曝光框单元2欲打开以供取出曝光后的基板并放入待曝光的基板、或更换底片之前，各该第一滑座12被驱动沿该第一方向并朝向该曝光位置的方向移动，使该第一滑座12连同该第二滑轨13、该第三滑座14与该光学检测单元20停滞于该对位位置后侧，而空出了该对位位置正上方的空间，以使该曝光框单元2的上框体可向上掀起。

据此，本实施例的标把影像对位装置1，在对位程序中，该光学检测单元20通过该二维移载单元10沿该第一方向移动并再沿该第二方向移动，使该光学检测单元20移动至默认的标靶位置的正上方，在整个对位程序中，该光学检测单元20与该第二滑座14之间的相对位置为固定，故可解决习知技术中因光源组件下降靠近曝光框单元过程中会晃动，而降低对位精准度的问题，且可减少对位时间，进而提高效率及产能。

在本实施例中，该标把影像对位装置1包含一顶升单元30，该顶升单元30用于设置于该曝光机的该对位位置的下方，以供抬升位于该对位位置的曝光框单元2，而使各该曝光框单元2,3与该光学检测单元20之间相距一默认距离，是以，在对位程序时，该二曝光框单元2,3移动至该对位位置后可位于相同高度的位置，即该二曝光框单元2,3二者与该光学检测单元20 的距离为相同，因此，本实施例的光学检测装置20中的摄影机22可采用倍率固定的镜头，而无需为了因应不同高度的曝光框单元而采用倍率可调的镜头，因此省去了调整倍率的时间，进而可增进效率。

此外，该光学检测单元20可具有一雷射模块23，当一开始欲定位标靶位置时，调整该雷射模块23用于对准该摄影机22的视野范围内发射激光束，以根据激光束指向位置来确认底片上的标靶位置，进而辅助确立该摄影机22能清楚取得标靶影像的位置，来作为该光学检测模块20的默认定位。据此，藉由该雷射模块23的设置，可使该光学检测单元20的默认定位更加易于操作。

参照图10，该标把影像对位装置1进一步包含一高度微调座40，该高度微调座40设置于该第二滑座14上并承载该摄影机22，用于调整该摄影机22相对于位在该对位位置上的曝光框单元的距离(即高度)，以用于微调校正。该高度微调座40具有一旋钮41，以供旋转该旋钮41来升降该摄影机22。

本实施例中，较佳地是，在同一批待曝光基板的制程中，该光学检测单元20的光源组21与摄影机22相对于位在该对位位置上的曝光框单元的距离(即高度)只需一开始进行调整或校正，在对位程序中该光学检测单元20的光源组21与摄影机22任一者相对于位在该对位位置上的曝光框单元的距离(即高度)为固定而不会升降作动。

据此，相较于现有技术，本实施例的标把影像对位装置及曝光机，在结构配置上，该光学检测单元与位于该对位位置的曝光框单元较为靠近，因此可提高检测的精准度且可采用定倍率的镜头，此外，由于该光学检测单元在对位程序中与该第二滑座相对固定，即该光学检测单元于对位程序前、中、后的过程中均无需升降作动，因此减少了移载过程中的晃动而增进了精准度。

本发明在上文中已通过较佳实施例揭露，然而熟习本领域技术人员应理解的是，该实施例仅用于描绘本发明，而不应解读为限制本发明的范围。应注意的是，凡是与该实施例等效的变化与置换，均应设为涵盖于本发明的范畴内。因此，本发明的保护范围应当以权利要求书所界定的范围为准。