光耦合器的制作方法

文档序号:11160555阅读:来源:国知局
技术总结
本公开的实施例针对光耦合器的技术和配置。在一些实施例中,器件可包括用于发射来自光源的光输入的光波导。光波导可包括具有沟槽的半导体层,沟槽具有包含形成为低于约45度角的边缘的一个刻面和形成为基本垂直于半导体层的另一刻面。边缘可与另一介质交界以形成镜用于接收输入的光并且基本垂直地反射接收的光以传播接收的光。可描述其他实施例并且/或者要求它们的权利。

技术研发人员:M·克里希纳穆希;J·D·里克曼;荣海生;L·廖;H·弗里希;O·哈雷尔;A·巴凯;那允中;H-D·刘
受保护的技术使用者:英特尔公司
文档号码:201580032702
技术研发日:2015.05.07
技术公布日:2017.05.10

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