微米LED显示模组的多阶光栅膜的制造方法和显示模组与流程

文档序号:13908798阅读:428来源:国知局
微米LED显示模组的多阶光栅膜的制造方法和显示模组与流程

本发明涉及半导体领域,尤其涉及一种微米led显示模组的多阶光栅膜的制造方法和显示模组。



背景技术:

传统的led显示技术在提高画质质量,诸如对比度,清晰度,白平衡一致性等方面,大多从发光器件的封装技术中封装体透镜部分的设计及精密制造工艺入手,或者是通过图像显示系统附加色度矫正技术和亮度矫正技术来提高和改善。

但是,无论是普遍使用的户外椭圆led灯珠还是户内三合一灯珠,由于要同时实现宽角度,譬如140度的视角空间,在对来自pn结发出的光的聚焦传输的光路上,光在色度方面和亮度方面最后呈现为一种以角度为变量的分布函数,而且,这种分布,在像素间距较大时,譬如大于1毫米以上的显示画质质量影响并不明显,但是对于在微米led显示时,对于像素间的光串扰引起的画质质量的下降则异常突出。

对于led显示画质产生影响的光串扰,来源于串扰光本身的光强及其分布,常用的做法是分离和抑制串扰光,但并不能达到完全消除的效果。



技术实现要素:

本发明的目的是提供一种微米led显示模组的多阶光栅膜的制造方法和显示模组,使得每个发光体的上出光面出射的光仅沿法线方向通过光栅,由光栅滤除离散光,从而达到微米led显示的要求。

第一方面,本发明提供了一种微米led显示模组的多阶光栅膜的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:

确定显示模组中每个发光体的平面的尺寸;所述发光体为梯形台体,所述平面包括上出光面和下结构面;所述上出光面的尺寸小于所述下结构面的尺寸;

准备梯台光栅膜片,所述梯台光栅膜片的厚度与所述发光体的厚度相同;

在所述梯台光栅膜片上制作光栅形成一阶光栅膜;所述光栅的下口径尺寸与所述上出光面的尺寸相同,所述光栅的上口径的尺寸与所述下结构面的尺寸相同;

将多个所述一阶光栅膜进行对位,并依次真空贴叠,形成所述多阶光栅膜。

优选地,所述将多个所述一阶光栅膜进行对位具体为:

将所述多个一阶光栅膜的边缘对齐,并且将各个光栅也相应对准,使在同一竖直位置上的多个光栅的投影相重合。

优选地,所述多个为三个,所述多阶光栅膜为三阶。

优选地,所述平面的尺寸在0.65微米至0.2毫米之间。

优选地,所述方法还包括,对所述多阶光栅膜进行干燥、包装。

优选的,所述光栅膜上的多个光栅之间等间距分布。

第二方面,本发明实施例提供了一种微米led显示模组,包括上述第一方面所述的制造方法制备得到的多阶光栅膜。

本发明提供的微米led显示模组的多阶光栅膜的制造方法,使得每个发光体的上出光面出射的光仅沿法线方向通过光栅,由光栅滤除离散光,从而达到微米led显示的要求。

附图说明

图1为本发明实施例提供的微米led显示模组的多阶光栅膜的制造方法的流程图;

图2为本发明实施例提供的发光体的尺寸示意图;

图3为本发明实施例提供的梯台光栅膜片的厚度示意图;

图4为本发明实施例提供的一阶光栅膜的示意图;

图5为本发明实施例提供的三阶光栅膜的示意图;

图6为本发明实施例提供的led光源模型的滤光示意图之一;

图7为本发明实施例提供的led光源模型的滤光示意图之二;

图8为本发明实施例提供的led光源模型的滤光示意图之三;

图9为本发明实施例提供的微米led显示模组的示意图。

具体实施方式

下面通过附图和实施例,对本发明的技术方案做进一步的详细描述。

本发明的微米led显示模组的多阶光栅膜的制造方法,主要用于led显示屏、超小间距led显示屏、超高密度led显示屏、led正发光电视、led正发光监视器、led视频墙、led指示、led特殊照明等领域的显示面板制造。

图1为本发明实施例提供的微米led显示模组的多阶光栅膜的制造方法流程图。本发明的制造方法包括如下步骤:

步骤110,确定显示模组中每个发光体的平面的尺寸;

具体的,发光体为梯形台体的led光源,其上表面和下表面分别为上出光面和下结构面;其中上出光面的尺寸小于所述下结构面的尺寸;如图2所示,发光体为正梯台,上出光面的边长为ab,下结构面的边长为cd,高(厚度)为h。

步骤120,准备梯台光栅膜片;

具体的,梯台光栅膜片如图3所示,厚度与发光体的厚度相同。长宽尺寸根据使用或拼接需要选择适当尺寸即可。

步骤130,在梯台光栅膜片上制作光栅形成一阶光栅膜;

其中,光栅的下口径尺寸与上出光面的尺寸相同,光栅的上口径的尺寸与下结构面的尺寸相同。

优选的,光栅膜上的多个光栅之间等间距分布。

制备形成的一阶光栅膜的示意图如图4所示。

在本例中,我们将光源近似看作郎伯光源,为了达到屏蔽其他杂散分布的光的目的,设定光栅孔径在0.65微米至0.2毫米之间。光栅孔径不能无限制地缩小,如果小于0.65微米,即650纳米,会引起光干涉衍射现象,光实际上就不能完整透过光栅了。

步骤140,将多个所述一阶光栅膜进行对位,并依次真空贴叠,形成所述多阶光栅膜。

具体的,多个一阶光栅膜的外尺寸都相同,因此可以将多个一阶光栅膜的边缘对齐,并且将各个光栅也相应对准,使在同一竖直位置上的多个光栅的投影相重合。

在此位置上,依次真空贴叠,形成多阶光栅膜。图5中所示为三阶光栅膜的结构示意图。

在本例中,优选的采用三阶光栅膜来实现滤除离散光的功能,其原理如下:

我们可以将led光源看作朗伯光源,如图6所示,可以近似认为图中发光面为一个平面,a’b’为发光尺寸,a’b’=ab,而在这个面上的每一点都是朗伯光源,平面是朗博光源的集合。一般地,在法线oo’测试到的光线是led光强最匀,波长最单一的光,所以只希望a’b’平面点光源上法线方向的光通过光栅。

结合图7所示,来看点a’处的朗博光源的光线,当光栅加到第3阶时,已经把∠ai’o’aj’范围的光线给过滤掉了。

如果图8所示的∠o1o’o1’是最小光单调性角,那么可以看到,在叠加到第3阶光栅,就过滤掉了其他离散光了

因此,采用三阶光栅膜,就可以满足要求。

当然,在实际用于显示的光源,是以单调性,也就是视觉为测试标准的。所以,在实际应用中可以不做到极限状态,即只让法线光通过。

本发明提供的微米led显示模组的多阶光栅膜的制造方法,使得每个发光体的上出光面出射的光仅沿法线方向通过光栅,由光栅滤除离散光,从而达到微米led显示的要求。

图9为本实施例提供的微米led显示模组的示意图,采用上述实施例所述方法制备得到的多阶光栅膜制备得到。

以上所述的具体实施方式,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施方式而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1