1.一种用于背光模块的导光组件，其特征在于，包括：光学板以及设置于所述光学板的出光面上的色域提高组件，所述色域提高组件沿着远离所述出光面的方向顺序包括偏光结构和滤光结构，所述偏光结构用于透射P偏振光且反射S偏振光，所述滤光结构用于将预定波长段的光线过滤去除。
2.根据权利要求1所述的导光组件，其特征在于，所述偏光结构包括：偏光介质层以及等间隔排布在所述偏光介质层上的多条第一金属栅条，所述偏光介质层设置于所述表面上。
3.根据权利要求1或2所述的导光组件，其特征在于，所述滤光结构沿着远离所述偏光结构的方向顺序包括：第一滤光介质层、第二滤光介质层、第三滤光介质层以及等间隔排布在所述第三滤光介质层上的多条第二金属栅条，所述第二介质层的折射率大于所述第一介质层和所述第三介质层的折射率。
4.一种背光模块，其特征在于，包括：
光学板，具有顶面、与所述顶面相对的底面以及连接所述顶面和所述底面同一侧的侧面；
色域提高组件，设置于所述顶面上，所述色域提高组件沿着远离所述顶面的方向顺序包括偏光结构和滤光结构，所述偏光结构用于透射P偏振光且反射S偏振光，所述滤光结构用于将预定波长段的光线过滤去除；
光源，相对于所述底面或者所述侧面设置。
5.根据权利要求4所述的背光模块，其特征在于，所述偏光结构包括：偏光介质层以及等间隔排布在所述偏光介质层上的多条第一金属栅条，所述偏光介质层设置于所述顶面上。
6.根据权利要求4或5所述的背光模块，其特征在于，所述滤光结构沿着远离所述偏光结构的方向顺序包括：第一滤光介质层、第二滤光介质层、第三滤光介质层以及等间隔排布在所述第三滤光介质层上的多条第二金属栅条，所述第二介质层的折射率大于所述第一介质层和所述第三介质层的折射率。
7.一种阵列基板，其特征在于，包括：基板以及位于所述基板上的色域提高组件，所述色域提高组件沿着远离所述基板的方向顺序包括偏光结构和滤光结构，所述偏光结构用于透射P偏振光且反射S偏振光，所述滤光结构用于将预定波长段的光线过滤去除。
8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括开关阵列层，所述开关阵列层包括阵列排布的若干薄膜晶体管，所述开关阵列层设置于所述基板与所述色域提高组件之间，或者所述开关阵列层设置于所述色域提高组件上。
9.根据权利要求7或8所述的阵列基板，其特征在于，所述偏光结构包括：偏光介质层以及等间隔排布在所述偏光介质层上的多条第一金属栅条，所述偏光介质层位于所述基板上。
10.根据权利要求7或8所述的阵列基板，其特征在于，所述滤光结构沿着远离所述偏光结构的方向顺序包括：第一滤光介质层、第二滤光介质层、第三滤光介质层以及等间隔排布在所述第三滤光介质层上的多条第二金属栅条，所述第二介质层的折射率大于所述第一介质层和所述第三介质层的折射率。