1.一种指纹感测装置，包括：
感测芯片，其包括感测元件的阵列，所述感测元件被配置成连接到读出电路，用于检测在所述感测元件中的每一个与放置在所述感测装置的感测表面上的手指之间的电容耦合；
覆盖层，其垂直地布置在所述感测元件之上以覆盖所述感测元件的至少一部分，其中，所述覆盖层的外表面形成所述感测装置的感测表面；
其中，所述覆盖层包括被配置成减少在可见光范围的预定子范围内的反射光的量的三维图案，所述三维图案包括纳米结构阵列或反射衍射光栅。
2.根据权利要求1所述的感测装置，其中，所述三维图案是包括多个导电纳米结构的等离激元阵列，其中所述纳米结构彼此电流隔离。
3.根据权利要求2所述的感测装置，其中，所述纳米结构的尺寸、形状和分布被选择为形成等离激元阵列，所述等离激元阵列被配置成减少在可见光范围的预定子范围内的反射光的量。
4.根据前述权利要求中任一项所述的感测装置，其中，所述覆盖层包括多个子层。
5.根据权利要求4所述的感测装置，其中，所述三维图案布置在被第二子层覆盖的第一子层中。
6.根据前述权利要求中任一项所述的感测装置，其中，所述覆盖层包括第一区域部分和第二区域部分，在所述第一区域部分中所述三维图案被配置成减少在第一预定子范围内的反射光的量，并且在所述第二区域部分中所述三维图案被配置成减少在第一预定子范围内的反射光的量，其中所述第一子范围不同于所述第二子范围。
7.根据前述权利要求中任一项所述的感测装置，其中，所述三维图案布置在所述感测表面处，并且其中，所述图案被配置成提供疏水性表面特性。
8.根据前述权利要求中任一项所述的感测装置，其中，所述三维图案被配置成针对所述感测装置的不同区域部分来减少在可见光范围的不同预定子范围内的反射光的量，使得在所述感测表面上形成图像。
9.根据前述权利要求中任一项所述的感测装置，其中，所述三维图案被配置成使得所述预定子范围对于不同的视角而言是不同的。
10.根据前述权利要求中任一项所述的感测装置，其中，所述覆盖层的至少一部分被光学反射材料涂覆。
11.根据前述权利要求中任一项所述的感测装置，其中，所述三维图案的至少突出部分被光学反射材料涂覆。
12.一种用于制造指纹感测装置的方法，所述方法包括：
提供包括感测元件的阵列的感测芯片，所述感测元件被配置成连接到读出电路，用于检测在所述感测元件中的每一个与放置在所述感测装置的感测表面上的手指之间的电容耦合；
形成垂直地布置在所述感测元件之上以覆盖所述感测元件的至少一部分的覆盖层，其中，所述覆盖层的外表面形成所述感测装置的感测表面；以及
在所述覆盖层中，形成被配置成减少在可见光范围的预定子范围内的反射光的量的三维图案，其中，所述三维图案包括纳米结构阵列或反射衍射光栅。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，形成三维图案的步骤包括纳米压印光刻或光蚀刻。
14.根据权利要求12或13所述的方法，还包括在所述三维图案的突出部分上沉积反射涂层。