可移动支撑件和光刻设备的制作方法

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年7月9日递交的欧洲专利申请ep15176135.0的优先权，并且通过引用将其全文并入本文中。

本发明涉及一种可移动支撑件和光刻设备。

背景技术：

光刻设备是一种将所需图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ic)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于所述ic的单层上的电路图案。可以将所述图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包含一部分管芯、一个或更多个管芯)上。所述图案的转移通常经由将图案成像到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层来进行。通常，单个衬底将包含被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括：所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与所述方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转移至衬底。

在已知的光刻设备的实施例中，图案形成装置由可移动支撑件支撑，以提供图案形成装置的扫描移动。在单个扫描方向上执行扫描移动。所述扫描移动要求在该扫描方向(即在与图案形成装置的主平面平行的方向)上相对大的加速力。另外，在垂直于扫描方向且平行于主平面的第二方向上要求较小的力，以控制图案形成装置在所述第二方向上的位置。

在已知的图案形成装置支撑件的实施例中，提供具有洛伦兹致动器的致动器组件以在扫描方向和第二方向上移动所述图案形成装置支撑件。所述已知的致动器组件包括配置成在扫描方向上施加致动力用于在扫描方向上对图案形成装置支撑件加速的致动器和配置成在第二方向上施加致动力用于在所述第二方向上以任意期望的方式移动所述图案形成装置支撑件的致动器。

通常，期望不断改善光刻设备的生产量。为了增加生产量，期望增加图案形成装置支撑件的加速度和减速度。为了增大图案形成装置支撑件的加速度，应当增大由致动器组件提供的致动力。然而，增大致动力通常还意味着增加致动器的质量。

洛伦兹致动器的已知的致动器组件的缺点是存在可以由洛伦兹致动器提供的每一质量的致动力的最大比例，其限制了可以由致动器组件获得的最大加速度。实际上，这可能产生的效果是在使用具有洛伦兹致动器的致动器组件时不再能够达到图案形成装置支撑件的期望的加速度。

通常，还期望增大光刻设备的其它可移动支撑件(诸如衬底支撑件)的加速度。

技术实现要素：

期望提供包括致动器组件的可移动支撑件，该致动器组件能实现增大光刻过程的生产量并且允许可移动支撑件具有高的加速度和减速度。更通常地，期望提供能实现有效地使用致动力的致动器组件。

另外，期望提供包括可移动支撑件的光刻设备，该支撑件(尤其是图案形成装置支撑件或衬底支撑件)具有这样的致动器组件。

根据本发明的一个方面，提供了一种配置成用以支撑物体的可移动支撑件，包括：

用于支撑物体的支撑平面；

致动器组件，用于在第一方向和垂直于第一方向的第二方向上移动所述可移动支撑件，其中所述第一方向和第二方向在平行于支撑平面的平面中延伸，

其中所述致动器组件包括：

第一致动器，配置成在第一致动方向上施加第一致动力，所述第一致动方向平行于支撑平面；

第二致动器，配置在第二致动方向上施加第二致动力，所述第二致动方向平行于支撑平面，

其中所述第一致动方向和第二致动方向布置成相对彼此不平行且不垂直。

根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，所述光刻设备包括配置成对物体进行支撑的可移动支撑件，所述可移动支撑件包括：

用于支撑所述物体的支撑平面；

致动器组件，用于在第一方向和垂直于第一方向的第二方向上移动所述可移动支撑件，其中所述第一方向和第二方向在平行于所述支撑平面的平面中延伸，

其中所述致动器组件包括：

第一致动器，配置成在第一致动方向上施加第一致动力，所述第一致动方向平行于所述支撑平面；

第二致动器，配置在第二致动方向上施加第二致动力，所述第二致动方向平行于所述支撑平面，

其中所述第一致动方向和第二致动方向布置成相对彼此不平行且不垂直，

其中所述可移动支撑件是图案形成装置支撑件或衬底支撑件。

附图说明

现在将仅作为举例、参考的示意性附图来描述本发明的实施例，在附图中对应的参考标记表示对应的部件，其中：

图1示出了根据本发明的实施例的光刻设备；

图2示出了第一实施例的图案形成装置支撑件的俯视图；

图3示出了第二实施例的图案形成装置支撑件的俯视图；

图4示出了第三实施例的图案形成装置支撑件的俯视图；和

图5示出了第四实施例的图案形成装置支撑件的俯视图。

具体实施方式

图1示意性地示出了根据本发明的一个实施例的一种光刻设备。该光刻设备包括照射系统(照射器)il，配置用于调节辐射束b(例如，紫外(uv)辐射或任何其它合适的辐射)；掩模支撑结构(例如掩模台)mt，构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)ma，并与被配置用于根据特定参数精确地定位所述图案形成装置的第一定位装置pm相连接。所述光刻设备还包括衬底台(例如晶片台)wt或“衬底支撑件”，构造成保持衬底w(例如，涂覆有抗蚀剂的晶片)且与被配置成根据特定的参数而精确地定位衬底的第二定位装置pw相连接。所述光刻设备还包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)ps，配置用于将由图案形成装置ma赋予辐射束b的图案投影到衬底w的目标部分c(例如包括一根或更多根管芯)上。

照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。

所述掩模支撑结构支撑、即承载图案形成装置的重量，所述掩模支撑结构以依赖于图案形成装置的方向、光刻设备的设计、以及诸如例如图案形成装置是否被保持在真空环境中等其它条件的方式来保持所述图案形成装置。所述掩模支撑结构可以采用机械的、真空的、静电的、或其它夹持技术来保持图案形成装置。所述掩模支撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述掩模支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置处(例如相对于投影系统)。在这里使用的任何术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。

本文所使用的术语“图案形成装置”应被广义地解释为指可用来在辐射束的横截面中对辐射束赋予图案以便在衬底的目标部分中产生图案的任何装置。应当注意，赋予辐射束的图案可以不与衬底的目标部分中的期望图案精确地/完全对应，例如如果图案包括相移特征或所谓的辅助特征。一般而言，赋予给辐射束的图案将对应于目标部分(诸如，集成电路)中产生的器件中的特定功能层。

图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列、以及可编程lcd面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。

这里使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任意类型的投影系统，所述投影系统的类型可以包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其它因素所适合的。这里使用的任何术语“投影透镜”可以认为是与更上位的术语“投影系统”同义。

如这里如所图示的，所述光刻设备是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述光刻设备可以是反射型的(例如，采用如上所述类型的可编程反射镜阵列，或采用反射式掩模)。

光刻设备可以是具有两个(“双平台”)或更多个衬底台或“衬底支撑件”(和/或两个或更多个掩模台或“掩模支撑件”)的类型。在这种“多平台”机器中，可以并行地使用额外的台或支撑件，或者可以在一个或更多个台或支撑件上执行预备步骤的同时，一个或更多个其它的台或支撑件被用于曝光。

所述光刻设备还可以是这种类型：其中衬底的至少一部分可以由具有相对高的折射率的液体(例如水)覆盖，以便填充投影系统和衬底之间的空间。浸没液体还可以被施加到光刻设备中的其他空间，例如介于掩模和投影系统之间的空间。浸没技术可以用于提高投影系统的数值孔径。这里使用的术语“浸没”并不意味着必须将结构(例如衬底)浸入到液体中，而是仅意味着在曝光过程中液体位于投影系统和所述衬底之间。

参照图1，所述照射器il接收来自辐射源so的辐射束。所述源和所述光刻设备可以是分立的实体(例如当所述源为准分子激光器时)。在这种情况下，不会将所述源看成形成光刻设备的一部分，并且通过包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束传递系统bd的帮助，将所述辐射束从所述源so传到所述照射器il。在其它情况下，所述源可以是所述光刻设备的集成部分(例如当所述源是汞灯时)。可以将所述源so和所述照射器il、以及如果需要时设置的所述束传递系统bd一起称作辐射系统。

所述照射器il可以包括被配置用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器ad。通常，可以对所述照射器的光瞳平面中的强度分布的至少所述外部和/或内部径向范围(一般分别称为σ-外部和σ-内部)进行调整。此外，所述照射器il可以包括各种其它部件，例如积分器in和聚光器co。可以将所述照射器用于调节所述辐射束，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。

辐射束b入射到保持在掩模支撑结构(例如，掩模台mt)上的图案形成装置(例如，掩模ma)上，并且通过图案形成装置来形成图案。已经穿过掩模ma之后，辐射束b通过投影系统ps，该投影系统将辐射束聚焦到衬底w的目标部分c上。通过第二定位装置pw和位置传感器if(例如，干涉仪装置、线性编码器或电容传感器)的帮助，可以准确地移动衬底台wt，例如以便将不同的目标部分c定位于辐射束b的路径中。类似地，例如在从掩模库机械获取之后或在扫描期间，可以将第一定位装置pm和另一个位置传感器(在图1中没有明确地示出)用于相对于辐射束b的路径准确地定位所述掩模ma。通常，可以通过形成第一定位装置pm的一部分的长行程模块(粗定位)和短行程模块(精定位)的帮助来实现掩模台mt的移动。类似地，可以采用形成第二定位装置pw的一部分的长行程模块和短行程模块来实现衬底台wt或“衬底支撑件”的移动。在步进机的情况下(与扫描器相反)，掩模台mt可以仅与短行程致动器相连接，或可以是固定的。可以使用掩模对准标记m1、m2和衬底对准标记p1、p2来对准掩模ma和衬底w。尽管所示的衬底对准标记占据了专用目标部分，但是它们可以位于目标部分(这些公知为划线对齐标记)之间的空间中。类似地，在将多于一个的管芯设置在掩模ma上的情况下，掩模对准标记可以位于管芯之间。

图2显示图案形成装置支撑件1的俯视图。图案形成装置1包括主体和致动器组件。主体包括配置成支撑图案形成装置ma的支撑平面2。支撑平面2限定了由支撑平面2所支撑的图案形成装置ma的方向。支撑平面可以是平坦的表面，但是还可以由多个支撑点诸如突节限定。在图2中，支撑平面2平行于附图的平面延伸。

图案形成装置支撑件1配置成在图案从图案形成装置ma转移至由衬底支撑件所支撑的衬底期间进行扫描移动。在所述图案的转移期间，期望图案形成装置支撑件1以大致恒定的速度移动。在将图案转移至衬底的两个随后的目标部分期间，图案形成装置支撑件1应当在相反的方向上被减速和加速成高达期望的扫描速度。

为了具有至衬底上的多个目标部分的有效转移过程，期望使得减速和加速所需要的时间被最小化。这需要使用能够以高的速率减速和加速所述图案形成装置支撑件的适合的致动器组件。

另外，致动器组件应当能够在垂直于扫描方向的方向上移动所述图案形成装置支撑件1，以便对具有投影系统ps和/或衬底支撑件wt的图案形成装置ma的位置进行校正。然而，在扫描方向上需要的力基本上大于在与扫描方向垂直的方向上所需要的力。因此，扫描方向可以被指定为主要方向，垂直于扫描方向的方向可以被指定为非主要方向。

注意到，扫描方向和垂直于扫描方向的方向两者大致平行于图案形成装置支撑件1的支撑平面2。在本申请中，扫描方向被表示为y方向，并且与扫描方向垂直的方向被表示为x方向。

图2中显示的图案形成装置支撑件1的致动器组件包括位于主体的每一侧处的第一致动器3、第二致动器4、第三致动器5和第四致动器6。第一致动器3、第二致动器4、第三致动器5和第四致动器6是磁阻式致动器，包括线圈和可磁化材料(magnetizablematerial)的芯部或磁芯。磁阻式致动器可以仅在单个正方向或负方向上施加致动力，即推动或拉动。在所显示的实施例中，磁芯被安装在图案形成装置支撑件上，并且也可以称为移动器元件，而线圈安装在支撑件或参考装置上。

第一致动器3和第三致动器5具有第一公共磁芯7，第二致动器4和第四致动器6具有第二公共磁芯8。

第一致动器3配置成在致动时沿第一致动方向a1的正方向将第一致动力f1施加到第一公共磁芯7上。第三致动器5配置成沿第一致动方向a1的负方向将第三致动力f3施加到第一公共磁芯7上。

第二致动器4配置成沿第二致动方向a2的正方向将第二致动力f3施加到第二公共磁芯8上。第四致动器6配置成沿第二致动方向a2的负方向施加第四致动力f4。

注意到，在本申请中方向的正方向和负方向意味着彼此平行但是相反的方向。

图2的实施例的致动器组件的优点是第一致动方向a1和第二致动方向a2不平行且不垂直。尤其是，第一致动方向a1和第二致动方向a2布置成相对于扫描方向y分别成+α和–α的角度，其中α在0至45度之间。这样的优点是致动力f1,f2,f3和f4的主要部分将在主要的y方向上产生作用，而致动力f1,f2,f3和f4的较小的部分将在非主要的x方向上产生作用。

在图案形成装置支撑件1的图示的应用中，在主要的y方向上所需要的力基本上大于在非主要的x方向上所需要的力，例如成30：1的比率。因此，期望具有小的角度α，使得致动器3,4,5,6的致动力f1,f2,f3和f4的主要部分将在主要方向上发生。角度α可以在0至10度的范围内，例如是2或3度。

四个致动器3,4,5,6的布置提供了对于致动器3,4,5,6的致动力f1,f2,f3和f4的非常有效的使用。

为了在正y方向上移动所述图案形成装置支撑件1，可以同时致动第一致动器3和第二致动器4，由此将在x方向上的第一致动力f1和第二致动力f2的部分彼此抵消，而将在y方向上的第一致动力f1和第二致动力f2的部分相加起来。

因为小的角度α，所以这将会导致第一致动力f1和第二致动力f2的大部分对于图案形成装置支撑件1在y方向(即扫描方向)上的减速和加速是可利用的。

对应地，可以通过同时致动第三致动器5和第四致动器6沿负y方向移动所述图案形成装置支撑件1，由此将第三致动力f3和第四致动力f4在x方向上的部分彼此抵消，而将第三致动力f3和第四致动力f4在y方向上的部分相加起来。

为了在正x方向上移动所述图案形成装置支撑件1，可以同时致动第二致动器4和第三致动器5，由此，可以将第二致动力f2和第三致动力f3在y方向上的部分彼此抵消，而将第二致动力f2和第三致动力f3在x方向上的部分相加起来。因为致动力在y方向上彼此抵消的部分是相对大的，所以在x方向上所获得的力是相对小的，但是对于在所述x方向执行移动是足够的。

相应地，可以通过同时致动所述第一致动器3和所述第四致动器6来沿负x方向移动所述图案形成装置支撑件1，由此将第一致动力f1和第四致动力f4在y方向上的部分彼此抵消，而将第一致动力f1和第四致动力f4在x方向上的部分相加起来。

将清楚的是，当设计所述图案形成装置支撑件1时，可以依赖于在x方向和y方向上期望的力之间的比例来选择所述角度α，以便获得致动器的致动力在x方向和y方向上的有效分布。

在上文，已经描述了在主体的一侧处的图案形成装置支撑件1的致动器组件。在主体的另一侧(图2的右侧)处，已经设置了类似的一组四个致动器。这些致动器也包括配置成沿第一致动方向a1的正方向施加第一致动力的第一致动器，配置成沿第二致动方向a2的正方向施加第二致动力的第二致动器，配置成沿第一致动方向a1的负方向施加第三致动力的第三致动器，和配置成沿第二致动方向a2的负方向施加第四致动力的第四致动器。

在主体的每一侧处设置一组四个致动器有利于减小所述力和最终的变形，其必须由图案形成装置支撑件1的主体吸收。

图3显示可替代的实施例的图案形成装置支撑件1。图案形成装置支撑件1包括位于主体的每一侧处的一组四个致动器。所述四个致动器包括用于分别沿第一致动方向a1的正方向和负方向施加第一致动力f1和第三致动力f3的第一致动器3和第三致动器5，以及用于分别沿第二致动方向a2的正方向和负方向施加第二致动力f2和第四致动力f4的第二致动器4和第四致动器6。

相对于图2的实施例的相关的区别是公共磁芯7,8的形状。

在图2的实施例中，公共磁芯7的与其致动器3,5面对的外表面是平行的，公共磁芯8的与其致动器4,6面对的外表面是平行的，使得共享公共磁芯7,8的致动器能够在同一致动方向的正方向和负方向上施加致动力。在图3的实施例中，第一公共磁芯7是楔形的，即第一公共磁芯7的与第一致动器3的线圈面对的第一外表面布置成相对于第一公共磁芯7的与第四致动器6的线圈面对的第二外表面成在0至90度之间的角度。相应地，第二公共磁芯8是楔形的，即第二公共磁芯8的与第二致动器4的线圈面对的第一外表面布置成相对于第二公共磁芯8的与第三致动器5的线圈面对的第二外表面成在0至90度之间的角度。

如图3所示，介于楔形的第一公共磁芯7和楔形的第二公共磁芯8的第一外表面和第二外表面之间的角度是相同的。如此，每个公共磁芯7,8可以用于沿第一致动方向a1和第二致动方向a2提供致动力。

在图3的实施例中，第一外表面和第二外表面之间的角度是小的，例如在1至10度之间，优选地在2至5度之间的范围中。可以基于在主要方向和非主要方向上所需要的力的比例选择所述角度。

相对于图2的实施例的另一相关区别在于所述图案形成装置支撑件1包括致动器支撑件9，由此四个致动器3,4,5,6的可移动部分被安装在致动器支撑件9上。由此，四个致动器一起形成致动器单元，该致动器单元作为单个单元安装在图案形成装置支撑件1的主体上。这具有的优点是所有的内部力保持在致动器单元内，且没有被引导穿过图案形成装置支撑件1的主体，其避免了由这些内部力引起的变形。

与图2的实施例相似，在图3的实施例中，致动器3,4,5和6的第一致动方向a1和第二致动方向a2彼此不平行且不垂直。第一致动方向a1布置成相对于扫描方向y成+α的角度，第二致动方向a2布置成–α的角度，其中α相对于主要y方向在0至45度之间，使得可以在所述主要y方向上使用致动器3,4,5,6的致动力的最大部分，而对于x方向可以利用仅小的但是足够的部分。

图4显示出图案形成装置支撑件1的另一实施例。在该实施例中，第一致动器3,第二致动器4,第三致动器5和第四致动器6一起具有公共磁芯10。公共磁芯10具有六边形的横截面，且其两个外表面面对第一致动器3和第三致动器5且垂直于第一致动方向a1、以及其两个外表面面对第二致动器4和第四致动器6且垂直于第二致动方向a2。公共磁芯10安装在具有致动器支撑件9的主体上。

图4的实施例的优点是所有力彼此抵消，即内部力保持在公共磁芯10内，不被引导通过图案形成装置支撑件1的主体。例如，当期望沿正y方向移动所述图案形成装置支撑件1时，将同时激活第一致动器3和第二致动器4。结果，致动力f1和f2在x方向上的部分将彼此抵消。在图2的实施例中，所述抵消将需要的是所述力将会穿过所述图案形成装置支撑件1的主体。在图4的实施例中，所述抵消将发生在公共磁芯10内，结果没有内部力会被引导穿过主体。

另外，公共磁芯10可以允许有效地构造致动器组件的致动器3,4,5,6。

图5显示根据本发明的图案形成装置支撑件1的另一实施例。在图5的实施例中，图案形成装置支撑件1的每个角部包括第一致动器3,第二致动器4,第三致动器5和第四致动器6中的一个。致动器3,4,5,6与配置成沿第三致动方向a3施加致动力的y致动器11,12组合。y致动器11配置成沿第三致动方向a3的正方向施加致动力fy+，和y致动器12配置成沿第三致动方向a3的负方向施加致动力fy-。

第三致动器5和第四致动器6每个具有公共磁芯13，且致动器之一11配置成施加致动力fy+。第一致动器3和第二致动器4每个具有公共磁芯14，且致动器之一12配置成施加致动力fy-。

第三致动方向a3对应于y方向。因此，致动器11,12仅用于施加致动力，以沿y方向移动所述图案形成装置支撑件；而致动器3,4,5,6用于在y方向和x方向两者上移动所述图案形成装置支撑件1。

所述致动器组件的优点是仅致动器的一部分用于在y方向和x方向两者上提供力。仅当沿x方向(即非主要方向)需要小的力时这可能是期望的。

在上文，已经描述了根据本发明的实施例的一些示例。对于本领域技术人员来说，将清楚的是可以基于下述的见解做出进一步的配置，即致动器组件包括配置成沿第一致动方向和第二致动方向施加致动力的致动器，其中第一和第二致动方向不平行且不垂直，尤其是第一和第二致动方向布置成相对于其上设置了致动器组件的可移动支撑件的移动的主要方向成小于45度的角度。

在上文，已经相对于在图案形成装置支撑件中的应用描述了致动器的在不平行且不垂直的致动方向的使用。实际上，这样的致动器组件可以应用在期望有效利用致动器力的任何可移动支撑件中，并且其中具有主要的移动方向。致动器组件可以尤其用于光刻设备的衬底支撑件的致动。

虽然本发明具体参考光刻设备在制造ic中的应用，但是应该理解，这里所述的光刻设备可以具有其它应用，例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(lcd)、薄膜磁头等。本领域技术人员将会认识到，在这样替换的应用情形中，此处的术语“晶片”或“管芯”的任何使用可以分别被认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道(一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、量测工具和/或检查工具中。在可应用的情况下，可以将此处的公开内容应用于这种和其它衬底处理工具中。另外，所述衬底可以被处理一次以上，例如以便产生多层ic，使得这里使用的所述术语“衬底”也可以表示已经包括多个已处理层的衬底。

虽然上文已经做出了具体参考，将所述实施例用于光学光刻术的情况中，将理解本发明可以用在其它的应用中，例如压印光刻术，并且只要情况允许，不局限于光学光刻术。在压印光刻术中，图案形成装置中的形貌限定了在衬底上产生的图案。可以将所述图案形成装置的形貌印刷到提供给所述衬底的抗蚀剂层中，在其上通过施加电磁辐射、热、压力或其组合来使所述抗蚀剂固化。在所述抗蚀剂固化之后，所述图案形成装置被从所述抗蚀剂上移走，并在抗蚀剂中留下图案。

这里使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括：紫外(uv)辐射(例如具有或约为365、248、193、157或126nm的波长)和极紫外(euv)辐射(例如具有在5-20nm范围内的波长)，以及粒子束，例如离子束或电子束。

在允许的情况下，术语“透镜”可以表示各种类型的光学部件中的任何一种或其组合，包括折射式的、反射式的、磁性的、电磁的以及静电的光学部件。

虽然上文已描述本发明的特定实施例，但应了解，可以用与所描述的方式不同的其它方式来实践本发明。例如，本发明可以采用包含描述上文所公开的方法的一个或更多个机器可读指令的序列的计算机程序的形式，或其中存储有这样的计算机程序的数据存储介质(例如半导体存储器、磁盘或光盘)的形式。

以上的描述是图示性的，而不是限制性的。因此，对本领域的技术人员将明白，在不背离下面所阐述的权利要求书的范围的情况下，可以对所描述的发明进行修改。