一种应用于BPS技术的过渡像素结构的制作方法

本发明为应用于液晶显示领域的一种适用于BPS技术的虚拟像素结构。

背景技术：

BPS(黑色间隙控制材料技术，Black photo spacer)是把黑色矩阵区域(black matrix，BM)和光阻垫片区域(photo spacer，PS)的制程合在一起的技术。BPS技术的一个分支是直接使用BPS材料做出黑色矩阵区域，子光阻垫片区域(sub PS)，主光阻垫片区域(main PS)。为了使得做出来的液晶显示屏能够曲平共用，一般该技术的BPS制程是坐在阵列基板上。在BPS制程之前一般会使用有机物平坦化层(PFA)来优化阵列基板地形，BPS制程做在优化后的地形上。

把BPS做在阵列基板上，同时做出子光阻垫片区域(sub PS)，主光阻垫片区域以及黑色矩阵区域的BPS技术做的成液晶显示屏，和普通的液晶显示屏一样，会有过渡像素区域(dummy pixel)的设计。过渡像素区和显示区域的像素都有彩色滤光片(CF)的存在，过渡像素区的存在是作为显示区像素的过渡存在，使得不会出现边缘色差，边缘漏光，边缘偏色等问题。但是过渡像素区不作为显示的像素，不加电信号，所以过渡像素区一般会使用黑色矩阵区进行遮光，在BPS技术中就是使用BPS材料进行遮光。图1BPS技术显示区过渡区以及非像素区的俯视图。在图1所示的显示区位置分别取C-C’区域(BPS站立的位置)和D-D’的截面，即图2，包括显示区1过渡区2以及非像素区3，其中过渡区包括设置在显示区1长边的水平过渡区22和设置在显示区2短边的垂直过渡区21。其中，显示区包括由下至上依次设置在玻璃基板4上的彩色滤光片7平坦层5，水平过渡区22包括由下至上依次设置在玻璃基板4上的彩色滤光片7平坦层5以及黑色矩阵6，垂直过渡区21包括由下至上依次设置在玻璃基板4上的彩色滤光片7平坦层5，非像素区3包括由下至上依次设置在玻璃基板4上的平坦层和黑色矩阵。

非像素区黑色矩阵厚度设置为3.9μm，过渡区黑色矩阵设置为2.5μm，彩色滤光片和平坦层的厚度分别假定为2.5μm和2μm。C-C’由于显示区和过渡区域同时存在黑色矩阵，所以不会有地形差的问题，但是在D-D’截面，过渡区域由于有黑色矩阵的存在比显示区像素高出了2.5μm，并且由于过渡区域的黑色矩阵和周边的区域连成一片，流平和固化特性差。

技术实现要素：

为了改善BPS技术下过渡像素区域和显示区像素交界处地形差异大影响显示效果的缺陷，本发明设计出一种新型的应用于BPS技术的过渡像素结构，提高线束效果。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案实现的。

一种应用于BPS技术的过渡像素结构，包括：显示区，设置在显示区四周的过渡区以及设置在过渡区四周的非像素区；

其中，显示区包括由下至上依次设置在玻璃基板上的彩色滤光片和平坦层；

过渡区包括设置在显示区两条长边四周的水平过渡区和设置在显示区两条短边的垂直过渡区；水平过渡区包括由下至上依次设置在玻璃板上的彩色滤光片，平坦层和黑色矩阵，垂直过渡区包括由下至上依次设置在玻璃板上的彩色滤光片及黑色矩阵；

非像素区包括由下至上依次设置在玻璃基板上的平坦层和黑色矩阵。

所述的应用于BPS技术的过渡像素结构，其中，

所述垂直过渡区和水平过渡区的黑色矩阵相连。

所述的应用于BPS技术的过渡像素结构，其中，所述显示区平坦层与过渡区交接处为斜坡结构。

所述的应用于BPS技术的过渡像素结构，其中，所述水平过渡区的黑色矩阵包括多个子光阻垫片层和两个主光阻垫片层，所述主光阻垫片层和子光阻垫片层为横截面为梯形的凸起，所述主光阻垫片层设置在水平过渡区两端，子光阻垫片层设置在两个主光阻垫片层之间。

所述的应用于BPS技术的过渡像素结构，其中，所述的主光阻垫片层高度大于所述子光阻垫片层。

所述的应用于BPS技术的过渡像素结构，其中，所述垂直过渡区的黑色矩阵与显示区平坦层相连。

所述的应用于BPS技术的过渡像素结构，其中，所述显示区的平坦层厚度与非像素区平坦层厚度相同。

所述的应用于BPS技术的过渡像素结构，其中，所述过渡区黑色矩阵与非显示区黑色矩阵相连。

本发明具有以下优点：通过将过渡区的平坦层去掉使过渡区像素的高度与显示区像素的高度相近，对整体阵列基板的平坦化有改善作用。

附图说明

在下文中将基于实施例并参考附图来对本发明进行更详细的描述。其中：

图1是BPS技术显示区过渡区以及非像素区的俯视图。

图2是BPS技术改进前显示区过渡区以及非像素区C-C’和D-D’剖面图。

图3是BPS技术改进后显示区过渡区以及非像素区A-A’和B-B’的剖面图。

在附图中，相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步说明。

如图1所示，为BPS技术显示区过渡区以及非像素区的俯视图，包括显示区1，过渡区2以及非像素区3。其中过渡区2设置在显示区1四周，非像素区3设置在过渡区2四周。

如图3所示，BPS技术改进后显示区过渡区以及非像素区A-A’和B-B’的剖面图，其中，显示区1包括由下至上依次设置在玻璃基板4上的彩色滤光片7和平坦层5；

过渡区包括设置在显示区1两条长边四周的水平过渡区22和设置在显示区1两条短边的垂直过渡区21；水平过渡区22包括由下至上依次设置在玻璃板4上的彩色滤光片7，平坦层5和黑色矩阵6，垂直过渡区21包括由下至上依次设置在玻璃板上4的彩色滤光片7及黑色矩阵6；

非像素区3包括由下至上依次设置在玻璃基板4上的平坦层5和黑色矩阵6。

所述垂直过渡区21和水平过渡区22的黑色矩阵6相连，显示区1平坦层5与过渡区交接处为斜坡结构。所述水平过渡区22的黑色矩阵6包括多个子光阻垫片层61和两个主光阻垫片层62，所述主光阻垫片层61和子光阻垫片层62为横截面为梯形的凸起，所述主光阻垫片层61设置在水平过渡区22两端，多个子光阻垫片层62设置在两个主光阻垫片层61之间。所述的主光阻垫片层61高度大于所述子光阻垫片层62的高度。所述垂直过渡区21的黑色矩阵6与显示区1平坦层相连。所述显示区1的平坦层5厚度与非像素区3的平坦层5厚度相同。所述过渡区黑色矩阵6与非显示区3黑色矩阵6相连。

实施例：

将显示区彩色滤光片厚度设置为2.5μm，显示区平坦层厚度设置为2μm；设置在显示区短边的垂直过渡区的色彩滤光片厚度为2.5μm,垂直过渡区黑色矩阵厚度为2.5μm,显示区和过渡区的厚度无地形差，对整体阵列基板的平坦化有改善作用，增强了显示效果。

将水平过渡区色彩滤光片厚度设置为2.5μm，水平过渡区平坦层厚度设置为2μm，水平过渡区黑色矩阵厚度为2.5μm，设置在水平过渡区两侧的垂直过渡区色彩滤光片厚度设置为2.5μm，垂直过渡区黑色矩阵厚度为2μm，且水平过渡区和垂直过渡区的黑色矩阵相连，水平过渡区和垂直过渡区相交处的黑色矩阵为斜坡结构。

非像素区的平坦层厚度为2μm,非像素区的黑色矩阵厚度为3.9μm。

通过将过渡区的平坦层去掉使过渡区像素的高度与显示区像素的高度相近，对整体阵列基板的平坦化有改善作用。

虽然已经参考优选实施例对本发明进行了描述，但在不脱离本发明的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本发明并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。