曝光基台及曝光设备的制作方法

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种曝光基台及曝光设备。

背景技术：

在显示基板的制造过程中，通常需要在基板(衬底基板或形成有一定图形的基板)上形成薄膜，然后在薄膜上涂覆光刻胶，并采用曝光设备，通过具有一定图形的掩膜版对光刻胶曝光。其中，曝光设备包括曝光基台，掩膜版设置在曝光基台的上方，在曝光时，可以将基板设置在曝光基台上，采用曝光基台将基板托举至掩膜版附近，然后通过掩膜版对基板进行曝光。

相关技术中，曝光基台包括承载板、滑轨、滑块、托举杆、电机和固定底座，承载板具有承载面和与该承载面相对的固定面，托举杆的一端与承载板的固定面固定连接，另一端与滑块固定连接，且托举杆的长度方向与承载板的固定面垂直，滑轨和电机分别固定设置在固定底座上，且滑轨的长度方向与承载板的固定面垂直，滑块设置在滑轨内，且滑块与电机电连接。在曝光时，将基板设置在承载板的承载面上并开启电机，电机驱动滑块沿滑轨靠近掩膜版滑动，带动托举杆对承载板进行托举，以将承载板所承载的基板托举至掩膜版附近，之后通过掩膜版对基板进行曝光。

在实现本发明的过程中，发明人发现相关技术至少存在以下问题：

为了满足生产节拍要求，托举过程中滑块需要高速滑动以快速完成托举，这使得曝光基台容易产生振动，导致曝光基台的稳定性较低。

技术实现要素：

为了解决曝光基台的稳定性较低的问题，本发明提供一种曝光基台及曝光设备。所述技术方案如下：

第一方面，提供一种曝光基台，所述曝光基台包括：承载组件、缓冲组件和托举组件，

所述承载组件具有承载面和与所述承载面相对的固定面，所述缓冲组件的一端和所述托举组件的一端均为固定端，所述缓冲组件的另一端和所述托举组件的另一端分别与所述承载组件固定连接，且所述缓冲组件和所述托举组件位于所述固定面所在侧；

所述承载面用于承载基板，所述托举组件用于对所述承载组件进行托举，所述缓冲组件用于在所述托举组件托举所述承载组件的过程中，对所述承载组件进行缓冲。

可选地，所述托举组件包括至少两个托举件，所述至少两个托举件在所述固定面上的正投影均匀分布在所述固定面的边缘区域，所述缓冲组件在所述固定面上的正投影位于所述固定面的中央区域。

可选地，所述至少两个托举件中的每个托举件包括：滚珠丝杠、滑动部件、支撑部件和驱动部件，

所述滑动部件分别与所述滚珠丝杠和所述支撑部件固定连接，所述驱动部件与所述滚珠丝杠电连接，所述支撑部件与所述承载组件固定连接；

所述驱动部件用于驱动所述滚珠丝杠旋转，带动所述滑动部件沿所述滚珠丝杠滑动，进而带动所述支撑部件对所述承载组件进行托举。

可选地，所述每个托举件还包括：定位部件、转动部件和至少两个夹持部件，所述滚珠丝杠的长度方向与所述固定面存在夹角，

所述定位部件与所述滚珠丝杠靠近所述固定面的一端固定连接，所述转动部件与所述滚珠丝杠远离所述固定面的一端固定连接，

所述转动部件用于带动所述滚珠丝杠转动，以调整所述滚珠丝杠的长度方向与所述固定面之间的夹角为预设夹角；

所述至少两个夹持部件用于对所述定位部件进行夹持，以固定所述滚珠丝杠的长度方向与所述固定面之间的夹角为所述预设夹角。

可选地，所述驱动部件包括脉冲电动机，所述至少两个夹持部件中的每个夹持部件包括气压缸，所述转动部件包括万向轮。

可选地，所述缓冲组件包括：缓冲气缸或电磁缓冲器。

可选地，所述曝光基台还包括：平坦度获取组件和距离获取组件，所述平坦度获取组件和所述距离获取组件分别设置在所述承载组件的承载面上，

所述平坦度获取组件用于获取所述承载面的平坦度；

所述距离获取组件用于获取所述承载面与掩膜版之间的距离。

可选地，所述曝光基台还包括：控制组件，所述控制组件分别与所述缓冲组件、所述托举组件、所述平坦度获取组件和所述距离获取组件电连接，

所述控制组件用于控制所述托举组件对所述承载组件进行托举，并控制所述缓冲组件对所述承载组件进行缓冲；

所述控制组件还用于根据所述承载面的平坦度判断所述承载面是否平坦，当所述承载面不平坦时，控制所述至少两个托举件中的每个托举件的转动部件调整所述每个托举件的滚珠丝杠的长度方向与所述固定面之间的夹角，以对所述承载面的平坦度进行调整；

所述控制组件还用于判断所述承载面与所述掩膜版之间的距离是否符合预设距离条件，当所述承载面与所述掩膜版之间的距离符合所述预设距离条件时，控制所述托举组件停止对所述承载组件托举。

可选地，所述曝光基台还包括：固定底座，所述缓冲组件的固定端和所述托举组件的固定端分别固定在所述固定底座上。

第二方面，提供一种曝光设备，所述曝光设备包括第一方面或第一方面的任一可选方式所提供的曝光基台。

本发明提供的技术方案带来的有益效果是：

本发明提供的曝光基台及曝光设备，曝光基台包括承载组件、缓冲组件和托举组件，承载组件具有承载面和与承载面相对的固定面，缓冲组件的一端和托举组件的一端均为固定端，缓冲组件的另一端和托举组件的另一端分别与承载组件固定连接，且缓冲组件和托举组件位于固定面所在侧；承载面用于承载基板，托举组件用于对承载组件进行托举，缓冲组件用于在托举组件托举承载组件的过程中，对承载组件进行缓冲。由于缓冲组件能够在托举组件托举承载组件的过程中对承载组件进行缓冲，因此，可以减小曝光基台的振动，解决了曝光基台的稳定性较低的问题，有助于提高曝光基台的稳定性。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本发明。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种曝光基台的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的一种曝光基台的托举速度的变化图。

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在显示基板的制造过程中，通常需要在基板上形成薄膜，然后在薄膜上涂覆光刻胶，并采用曝光基台将基板托举至掩膜版(英文：mask)附近进行曝光。曝光基台在托举基板的过程中，需要依次经过加速运动、匀速运动和减速运动，曝光基台在加速运动和减速运动的过程中都会产生较大的振动，导致曝光基台的稳定性较低，并且曝光基台的振动还会传递给基板，使得基板的稳定性也较低；此外，为了满足生产节拍要求，将基板托举至掩膜版附近之后，需要立即对基板进行曝光，而此时基板的振动还未停止，该振动还会对曝光质量产生影响。

目前，对于高清(英文：highdefinition；简称：hd)产品的基板，通常需要将基板托举至掩膜版附近，并使基板与掩膜版之间的间隙(距离)小于200um(微米)，而随着产品的像素和边框要求的越来越高，基板的厚度越来越薄，基板与掩膜版之间的间隙也越来越小，这对曝光基台的托举精度和平坦度的要求也越来越高。

本发明实施例提供了一种曝光基台，采用缓冲组件对曝光基台的振动进行缓冲，可以提高曝光基台的稳定性以及基板的稳定性，并且由于缓冲组件的缓冲作用，将基板托举至掩膜版附近之后，基板的振动较小，可以减小振动对曝光质量的影响。进一步地，本发明实施例提供的曝光基台采用脉冲电动机对托举组件进行驱动，可以保证托举精度，并且还可以对曝光基台的平坦度进行调整，保证曝光基台的平坦度。

请参考图1，其示出了本发明实施例提供的一种曝光基台0的结构示意图，参见图1，该曝光基台0包括：承载组件01、缓冲组件02和托举组件(图1中未标出)。承载组件01具有承载面m和与承载面相对的固定面g，缓冲组件02的一端和托举组件的一端均为固定端，缓冲组件02的另一端和托举组件的另一端分别与承载组件01固定连接，且缓冲组件02和托举组件位于承载组件01的固定面g所在侧；承载组件01的承载面m用于承载基板(图1中未标出)，托举组件用于对承载组件01进行托举，缓冲组件02用于在托举组件托举承载组件01的过程中，对承载组件01进行缓冲。

综上所述，本发明实施例提供的曝光基台，由于缓冲组件能够在托举组件托举承载组件的过程中对承载组件进行缓冲，因此，可以减小曝光基台的振动，解决了曝光基台的稳定性较低的问题，有助于提高曝光基台的稳定性。

可选地，请继续参考图1，托举组件包括至少两个托举件03，至少两个托举件03在承载组件01的固定面g上的正投影均匀分布在承载组件01的固定面g的边缘区域，缓冲组件02在承载组件01的固定面g上的正投影位于承载组件01的固定面g的中央区域。可选地，承载组件01通常为承载板，承载板的板面的形状可以为矩形，托举组件可以包括4个托举件03，该4个托举件03在承载组件01的固定面g上的正投影可以位于承载组件01的固定面g的四个角所在区域。

可选地，请继续参考图1，至少两个托举件03中的每个托举件03包括：滚珠丝杠031、滑动部件032、支撑部件033和驱动部件034，滑动部件032分别与滚珠丝杠031和支撑部件033固定连接，驱动部件034与滚珠丝杠031电连接，支撑部件033与承载组件01固定连接；驱动部件034用于驱动滚珠丝杠031旋转，带动滑动部件032沿滚珠丝杠031滑动，进而带动支撑部件033对承载组件01进行托举。可选地，滚珠丝杠031可以为高精度滚珠丝杠，其具有较高的托举精度，是承载组件01高精度托举基板的间接动力装置；滑动部件032可以为滑杆、滑块等；支撑部件033可以为支撑杆，支撑部件033可以与承载组件01的固定面g固定连接，例如，支撑部件033可以焊接在承载组件01的固定面g上，或者，承载组件01的固定面g上设置有螺孔，支撑部件033用于与承载组件01连接的一端设置有螺纹，支撑部件033与承载组件01螺纹连接，其中，支撑部件033用于连接承载组件01和滑动部件032，起到连接推动的作用；驱动部件034可以包括脉冲电动机，采用脉冲电动机驱动滚珠丝杠031旋转，可以提高滚珠丝杠031的旋转精度，从而提高托举件03的托举精度。

进一步地，请继续参考图1，至少两个托举件03中的每个托举件03还包括：定位部件035、转动部件036和至少两个夹持部件037，滚珠丝杠031的长度方向(图1中未示出)与承载组件01的固定面g之间存在夹角(图1中未标出)，定位部件035与滚珠丝杠031靠近承载组件01的固定面g的一端固定连接，转动部件036与滚珠丝杠031远离承载组件01的固定面g的一端固定连接，转动部件036用于带动滚珠丝杠031转动，以调整滚珠丝杠031的长度方向与承载组件01的固定面g之间的夹角为预设夹角；至少两个夹持部件037用于对定位部件035进行夹持，以固定滚珠丝杠031的长度方向与承载组件01的固定面g之间的夹角为预设夹角。其中，预设夹角的度数可以为90度，当每个托举件03中的滚珠丝杠031的长度方向与承载组件01的固定面g之间的夹角的度数为90度时，可以认为承载组件01的承载面m平坦。需要说明的是，本发明实施例是以预设夹角的度数为90度为例进行说明的，实际应用中，预设夹角的度数还可以为其他数值，例如，60度、120度等，本发明实施例对此不作限定。

可选地，在本发明实施例中，定位部件035可以为定位杆、定位板、定位圆盘、定位栓等，定位部件035可以焊接在滚珠丝杠031上，或者，定位部件035与滚珠丝杠031可以螺纹连接；至少两个夹持部件037中的每个夹持部件037可以包括气压缸，该气压缸可以为具有压力感知功能的气压缸，且该气压缸设置有气垫，当向气垫充气时气垫膨胀对定位部件035进行夹持；转动部件036可以包括万向轮，该万向轮能够360度转动，以便于带动滚珠丝杠031转动，在本发明实施例中，至少两个夹持部件037对定位部件035夹持之后，该转动部件036无法转动。其中，定位部件035可以对托举件03进行轴向水平度的控制，当至少两个托举件03的驱动部件034对滚轴丝杠031的驱动不同步时，会造成滚珠丝杠031倾斜，如果不设置定位部件035，则会造成滚珠丝杠031的纵向摩擦力过大，导致滚珠丝杠031损坏，在本发明实施例中，定位部件035是与转动部件036配合工作的，定位部件035与转动部件036配合，可以通过滚珠丝杠031控制托举件03以任何角度进行托举，充分调节曝光基台0的水平度，并且对于曝光基台0水平度的微调可以达到微米级别。其中，具有压力感知功能的气压缸可以采用气垫对定位部件035进行夹持，以对确定了角度的滚珠丝杠031进行定位，当气压缸夹紧定位部件035时，滚珠丝杠031的长度方向与承载组件01的固定面g之间的夹角固定，之后，本发明实施例中的至少两个托举件03的滚珠丝杠031需要同步运动，以保证承载组件01的承载面的平坦度，也即是，定位部件035与至少两个夹持部件037共同作用对承载组件01的承载面的平坦度进行锁定，这样在托举的过程中，不会改变承载组件01的承载面的平坦度。

可选地，缓冲组件02包括：缓冲气缸或电磁缓冲器。如图1所示，本发明实施例以缓冲组件02包括缓冲气缸021为例进行说明，则缓冲组件02还包括2个控制阀022、2个供气件023和2个排气件024，缓冲气缸021包括缸体0211、活塞0212和活塞杆0213，活塞0212设置在缸体0211内，活塞杆0213的一端与活塞0212固定连接，活塞杆0213的另一端与承载组件01固定连接，活塞0212将缸体0211的内腔分为两部分，每一部分与一根供气管025连接，每个控制阀022可以为三通控制阀，每个控制阀022的一个端口可以与一个供气管025连接，另外两个端口分别与一个供气件023和一个排气件024连接。可选地，在本发明实施例中，每个供气件023可以为压缩气体(英文：compressedair；简称：cda)供给罐，供气件023用于向缓冲气缸021提供压缩气体，排气件024用于排出缓冲气缸021中的气体，控制阀022主要用于供气件023向缓冲气缸021供气以及控制缓冲气缸021向排气件024排气。在本发明实施例中，缓冲气缸021为气动装置，缓冲气缸021可以是曝光基台0的主要承载力量的来源，该缓冲气缸021可以在承载组件01加速运动时，对承载组件01进行加速，在承载组件01减速运动时，对承载组件01进行缓冲，并且，在托举的过程中，缓冲气缸021还可以对滚珠丝杠031进行保护，避免滚珠丝杠031承受过大的压力。

进一步地，如图1所示，该曝光基台0还包括：平坦度获取组件04和距离获取组件05，平坦度获取组件04和距离获取组件05分别设置在承载组件01的承载面m上，平坦度获取组件04用于获取承载组件01的承载面m的平坦度；距离获取组件05用于获取承载组件01的承载面m与掩膜版(图1中未示出)之间的距离。

可选地，平坦度获取组件04可以包括至少两个平坦度光学感应器(图1中未示出)，至少两个平坦度光学感应器均匀分布在承载组件01的承载面m上，平坦度光学感应器可以发射出激光，可以通过平坦度光学感应器发出的激光，来确定承载组件01的承载面m上的各个位置点的空间坐标数据，进而根据承载组件01的承载面m上的各个位置点的空间坐标数据确定承载组件01的承载面m的平坦度。在本发明实施例中，平坦度获取组件04可以包括4个平坦度光学感应器，4个平坦度光学感应器可以分别设置在承载组件01的承载面m的四个角所在区域。

可选地，距离获取组件05可以包括至少一个距离传感器，距离传感器可以发射出红外光线，以及接收被物体反射的红外光线，并根据发射红外光线的时刻与接收反射的红外光线的时刻之间的时间差，结合光速计算距离传感器与物体之间的距离。在本发明实施例中，反射红外光线的物体可以为掩膜版，且距离传感器设置在承载组件01的承载面m上，因此，计算得到的距离也即是承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离。

进一步地，该曝光基台0还包括：控制组件(图1中未示出)，控制组件分别与缓冲组件02、托举组件、平坦度获取组件04和距离获取组件05电连接。在本发明实施例中，控制组件可以为可编程逻辑控制器(英文：programmablelogiccontroller；简称：plc)。

控制组件用于控制托举组件对承载组件01进行托举，并控制缓冲组件02对承载组件01进行缓冲。具体地，控制组件可以控制每个托举件03的驱动部件034驱动滚珠丝杠031旋转，在滚珠丝杠031旋转的过程中，可以带动滑动部件032沿滚珠丝杠031滑动，进而带动支撑部件033对承载组件01进行托举；控制组件还可以控制控制阀022开启，使供气件023向缓冲气缸021供气，在缓冲气缸021的气体达到一定气体量之后，控制组件控制控制阀022关闭，使缓冲气缸021的气体形成缓冲垫效应，对承载组件01进行缓冲。

控制组件还用于根据承载组件01的承载面m的平坦度判断承载组件01的承载面m是否平坦，当承载组件01的承载面m不平坦时，控制至少两个托举件03中的每个托举件03的转动部件036调整每个托举件03的滚珠丝杠031的长度方向与承载组件01的固定面g之间的夹角，以对承载组件01的承载面m的平坦度进行调整。具体地，控制组件可以控制每个托举件03的转动部件036转动，带动滚珠丝杠031转动，以调整滚珠丝杠031的长度方向与承载组件01的固定面g之间的夹角，此外，控制组件还可以控制每个托举件03的驱动部件034驱动滚珠丝杠031旋转以控制每个托举件03上升或下降调整承载组件01的承载面m的平坦度，例如，控制组件控制驱动部件034的脉冲电动机的脉冲数以驱动部件034驱动滚珠丝杠031的旋转方向，来控制每个托举件03上升或下降一定距离调整承载组件01的承载面m的平坦度。

控制组件还用于判断承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离是否符合预设距离条件，当承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离符合预设距离条件时，控制托举组件停止对承载组件01托举。其中，预设距离条件可以根据实际情况设置，例如，预设距离条件为一预设距离范围，该预设距离范围可以为100um～200um，则控制组件可以判断承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离是否位于预设距离范围100um～200um内，如果承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离位于预设距离范围100um～200um内，则承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离符合预设距离条件，控制组件控制托举组件停止对承载组件01托举。需要说明的是，如果承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离过大，会造成曝光过程衍射漏光，产品出现黄边等异常，本发明实施例中，在曝光的过程中，可以保持承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离处于预设距离范围100um～200um内，避免曝光过程衍射漏光，进而避免产品出现黄边等异常。

进一步地，如图1所示，该曝光基台0还包括：固定底座06，缓冲组件02的固定端和托举组件的固定端分别固定在固定底座06上。固定底座06用于固定曝光基台0的整体结构，具有高强度和高可靠性。固定底座06的具体结构可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。

请参考图2，其示出了本发明实施例提供的一种曝光基台托举基板的过程中的托举速度随时间变化的曲线图，参见图2，在托举基板的过程中，曝光基台首先进行加速运动，在t1时刻，托举速度达到预设速度v0，之后曝光基台以该预设速度v0匀速运动(t2-t1)时长到达t2时刻，在t2时刻，曝光基台开始进行减速运动，直至t3时刻，曝光基台的运动速度减小为0。其中，在曝光基台加速运动的过程中，动力主要来源于缓冲气缸021，驱动力主要来源于至少两个托举件03；在曝光基台匀速运动的过程中，缓冲气缸021的气体量不变，驱动力主要来源于至少两个托举件03；在曝光基台减速运动的过程中，缓冲气缸021内的气体形成气体缓冲垫效应，至少两个托举件03减速托举。

本发明实施例中，如图1所示，在曝光基台0托举基板的过程中，控制组件可以先控制缓冲气缸021的上部(活塞杆0213所在缸体)排气，同时，控制组件控制所有的托举件03的驱动部件034驱动相应的滚珠丝杠031按照第一方向旋转，以对基板进行托举；之后，控制组件控制缓冲气缸021的下部(缓冲气缸021中除活塞杆0213所在缸体之外的缸体)充气，最后控制组件控制缓冲气缸021的上部充气，使缓冲气缸021的气体形成缓冲垫效应，对承载组件01进行缓冲。

在本发明实施例中，承载组件01托举的最终位置需要根据曝光间隙、基板的厚度以及掩膜版的厚度确定，具体地，假设承载组件01的最终位置相对于预设的基准面的高度为h，承载组件01的初始位置(托举之前的位置)相对于该预设的基准面的高度为h1，曝光间隙为d1，基板的厚度为d2，掩膜版的厚度为d3，则可以根据公式h＝h1+d1-d2+d3来确定承载组件01的最终位置，其中，d1是预先设置好的，h1、d2和d3都是可以预先获知的。当承载组件01运动至该最终位置时，可以停止对基板进行托举。

综上所述，本发明实施例提供的曝光基台，由于缓冲组件能够在托举组件托举承载组件的过程中对承载组件进行缓冲，因此，可以减小曝光基台的振动，解决了曝光基台的稳定性较低的问题，有助于提高曝光基台的稳定性。本发明实施例提供的曝光基台，将缓冲气缸与滚轴丝杠结合使用，可以保证曝光基台的高速托举，并且在托举的过程中缓冲气缸可以对托举组件进行缓冲以减小振动，提高曝光基台的稳定性，提高曝光质量。

下面结合图1对本发明实施例提供的曝光基台托举过程进行简单说明。

在本发明实施例中，可以采用机械臂将基板搬运至曝光基台0上方，当机械臂将基板搬运至曝光基台0上方时，机械臂可以向曝光基台0的控制组件发送载入信号，同时，机械臂向下移动使基板靠近承载组件01的承载面m移动，控制组件接收到载入信号后，可以控制供气件023向缓冲气缸021供气，且供气气流不断增大，之后，随着机械臂的下降，基板承载到承载组件01的承载面m上。在基板承载到承载组件01的承载面m上之前，控制组件可以控制平坦度获取组件04获取承载组件01的承载面m的平坦度，并通过平坦度获取组件04获取的平坦度确定承载组件01的承载面m上凹凸不平点的位置点的空间坐标，之后，控制组件控制至少两个托举件03的转动部件036转动，以调整托举件03的滚轴丝杠031与承载组件01的固定面g之间的夹角，对承载组件01的承载面m的平坦度进行调整，控制组件还可以控制至少两个托举件03的驱动部件034驱动滚珠丝杠031旋转，带动滑动部件032沿滚珠丝杠031滑动，进而带动支撑部件033对承载组件01进行托举，以对承载组件01的承载面m的平坦度进行调整；调整承载组件01的承载面m的平坦度之后，可以将基板承载到承载组件01的承载面m上，然后控制组件控制至少两个托举件03的驱动部件034驱动滚珠丝杠031旋转，带动滑动部件032沿滚珠丝杠031滑动，进而带动支撑部件033对承载组件01进行托举，从而对基板进行托举，当将基板托举至掩膜版附近之后，可以对基板进行曝光。

需要说明的是，在托举基板的过程中，控制组件还可以控制距离获取组件05获取承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离，并判断承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离是否符合预设距离条件，当承载组件01的承载面m与掩膜版之间的距离符合预设距离条件时，控制组件控制至少两个托举件03停止对基板进行托举。还需要说明的是，在将基板托举至掩膜版附近之后，还可以采用曝光设备的对位装置对基板和掩膜版进行对位，在对位之后，方可对基板进行曝光，具体的对位过程可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。

本发明实施例还提供了一种曝光设备，该曝光设备可以包括图1所示的曝光基台0。

综上所述，本发明实施例提供的曝光设备，由于曝光基台的缓冲组件能够在托举组件托举承载组件的过程中对承载组件进行缓冲，因此，可以减小曝光基台的振动，解决了曝光基台的稳定性较低的问题，有助于提高曝光基台的稳定性。

本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分步骤可以通过硬件来完成，也可以通过程序来指令相关的硬件完成，所述的程序可以存储于一种计算机可读存储介质中，上述提到的存储介质可以是只读存储器，磁盘或光盘等。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。