技术特征：
技术总结
本发明公开一种曝光基台及曝光设备，属于显示技术领域。曝光基台包括：承载组件、缓冲组件和托举组件，承载组件具有承载面和与承载面相对的固定面，缓冲组件的一端和托举组件的一端均为固定端，缓冲组件的另一端和托举组件的另一端分别与承载组件固定连接，且缓冲组件和托举组件位于固定面所在侧；承载面用于承载基板，托举组件用于对承载组件进行托举，缓冲组件用于在托举组件托举承载组件的过程中，对承载组件进行缓冲。本发明解决了曝光基台的稳定性较低的问题，有助于提高曝光基台的稳定性。本发明用于曝光基台。
技术研发人员：井杨坤
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
技术研发日：2017.07.06
技术公布日：2017.09.01