1.一种光掩模坯料的制造方法，所述方法先在对曝光光线具有透明性的基板上形成图案形成膜，并在所述图案形成膜上形成膜厚T的硬掩模膜，所述方法的特征在于：
在形成所述硬掩模膜时，利用重复2次以上的薄膜成长工序与通过清洗来去除所述薄膜上的异物的工序来形成所述膜厚T的硬掩模膜，所述薄膜具有比所述硬掩模膜的膜厚T更小的膜厚。
2.如权利要求1所述的光掩模坯料的制造方法，其中，在形成所述硬掩模膜时，将在所述薄膜成长工序中成长的所述薄膜的膜厚设为T/N，所述N是2以上的自然数，并且重复N次所述薄膜成长工序与所述通过清洗来去除所述薄膜上的异物的工序，而形成所述膜厚T的硬掩模膜。
3.如权利要求1所述的光掩模坯料的制造方法，其中，在形成所述硬掩模膜时，将在第M次的所述薄膜成长工序中成长的所述薄膜的膜厚设为TM，所述M是自然数且满足N≥M≥1，T＝T1+T2+T3+…+TN，并且重复N次所述薄膜成长工序与所述通过清洗来去除所述薄膜上的异物的工序，而形成所述膜厚T的硬掩模膜。
4.如权利要求1～3中任一项所述的光掩模坯料的制造方法，其中，将构成所述硬掩模膜的各薄膜设为含有过渡金属与硅的任一者或两者，并且，在全部的所述薄膜中，除了轻元素以外的构成元素都相同。
5.如权利要求4所述的光掩模坯料的制造方法，其中，所述硬掩模膜包含硅或铬。