技术总结
本实用新型提供一种光刻胶排放系统，光刻胶排放系统包括：若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；若干个缓冲罐，与光刻胶供给源一一对应连接；若干个第一供液管路，位于光刻胶供给源与缓冲罐之间，一端与光刻胶供给源一一对应连接，另一端与缓冲罐一一对应连接；若干个排液管路，与缓冲罐一一对应连接；若干个第二供液管路，一端与缓冲罐一一对应连接。本实用新型的光刻胶排放系统通过使用不同排液管路与各个缓冲罐一一对应连接，即将不同的缓冲罐使用不同的排液管路连接，不同的光刻胶供给源之间相互独立，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。
技术研发人员：郑义强
受保护的技术使用者：长鑫存储技术有限公司
技术研发日：2018.10.23
技术公布日：2019.05.10