1.一种正型干膜抗蚀剂，其特征在于，至少依次层叠有(a)支撑体膜、(b)剥离层和(c)正型感光性抗蚀剂层，(b)剥离层包含聚乙烯醇，并且(c)正型感光性抗蚀剂层包含酚醛树脂和醌二叠氮磺酸酯作为主成分。
2.根据权利要求1所述的正型干膜抗蚀剂，其中，相对于(b)剥离层的全部不挥发成分量，聚乙烯醇的含有率为80质量％以上。
3.根据权利要求1或2所述的正型干膜抗蚀剂，其中，(c)正型感光性抗蚀剂层含有聚丙二醇甘油醚。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的正型干膜抗蚀剂，其中，所述酚醛树脂包含质均分子量mw为16000～75000的邻甲酚酚醛树脂，所述醌二叠氮磺酸酯包含萘醌二叠氮磺酸酯。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的正型干膜抗蚀剂，其中，所述聚乙烯醇包含皂化度为82mol％以上的聚乙烯醇。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的正型干膜抗蚀剂，其中，对(a)支撑体膜的(b)剥离层侧实施了电晕放电处理，且(b)剥离层的厚度为1μm～4μm，(c)正型感光性抗蚀剂层的厚度为3μm～8μm。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的正型干膜抗蚀剂，其至少依次层叠有(a)支撑体膜、(b)剥离层、(c)正型感光性抗蚀剂层和(d)保护膜，(d)保护膜包含自粘合性树脂膜。
8.一种蚀刻方法，其中，利用层压法在基材的至少单面贴附权利要求1～6中任一项所述的正型干膜抗蚀剂的(c)正型感光性抗蚀剂层，同时除去(a)支撑体膜和(b)剥离层，接着曝光所期望的图案，接下来利用显影液对(c)正型感光性抗蚀剂层进行显影而形成抗蚀剂图案，接着对基材进行蚀刻处理，接下来利用剥离液实施抗蚀剂剥离。
9.一种蚀刻方法，其中，将权利要求7所述的正型干膜抗蚀剂的(d)保护膜剥离后，利用层压法在基材的至少单面贴附正型干膜抗蚀剂的(c)正型感光性抗蚀剂层，同时除去(a)支撑体膜和(b)剥离层，接着曝光所期望的图案，接下来利用显影液对(c)正型感光性抗蚀剂层进行显影而形成抗蚀剂图案，接着对基材进行蚀刻处理，接下来利用剥离液实施抗蚀剂剥离。