曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法，尤其是涉及向被曝光基板的两面描绘图像的曝光描绘装置及曝光描绘系统、通过该曝光描绘装置及曝光描绘系统执行的程序和向被曝光基板的两面描绘图像的曝光描绘方法。
【背景技术】
[0002]以往，开发出一种在作为打印基板的被曝光基板对基于图像信息而调制的光束进行曝光，并在该被曝光基板描绘图像的曝光描绘装置。而且，为了向被曝光基板的两面描绘图像，也开发有如下曝光描绘系统:将该曝光描绘装置并列设置2台，将一方用于第一面的描绘，并将另一方用于与第一面相反的第二面的描绘。在该曝光描绘系统中，通过第一面用的曝光描绘装置向被曝光基板的第一面描绘图像之后，将该被曝光基板传送至第二面用的曝光描绘装置的预定位置，通过该曝光描绘装置向被曝光基板的第二面描绘图像。
[0003]作为与该曝光描绘系统相关的技术，在专利文献I中公开了一种曝光描绘系统，其提高了使用2台的曝光描绘装置向被曝光基板的第一面及第二面分别描绘图像时的被曝光基板的传送处理的通过量。
[0004]该曝光描绘系统所具有的各曝光描绘装置具备描绘单元，该描绘单元具有:台，载置被曝光基板；台移动构件，使台呈直线状地移动；以及光束扫描构件，在载置于台的被曝光基板的第一面扫描光束。而且，各曝光描绘装置具备在台的移动方向上配置于描绘单元的上游侧的上游侧单元和在台的移动方向上配置于描绘单元的下游侧的下游侧单元。而且，各曝光描绘装置具备送入构件，该送入构件保持上游侧单元的被曝光基板并使其沿着与台的移动方向相同的方向即传送方向移动，将被曝光基板送入到描绘单元内的台上。而且，各曝光描绘装置具备送出构件，该送出构件保持描绘单元内的台上的被曝光基板并使其沿着传送方向移动，将被曝光基板送出到下游侧单元。
[0005]在各曝光描绘装置中，当在被曝光基板的第一面扫描光束时，使台从传送方向的上游侧向下游侧移动，将被曝光基板送入到位于上游侧的台，并从位于下游侧的台送出被曝光基板。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1:日本特开2002-341550号公报
【发明内容】
[0009]发明要解决的课题
[0010]通常，当使用曝光描绘装置在被曝光基板描绘图像时，作业者对曝光描绘装置输入向被曝光基板描绘的图像及表示指定了描绘时的曝光条件的处理要求(作业)的作业信息。当以同一曝光条件在多个被曝光基板连续地描绘同一图像的情况下，在作业信息中一并表示一系列的处理。并且，曝光描绘装置基于输入的作业信息而进行对被曝光基板的曝光描绘处理。
[0011]在上述专利文献I所公开的曝光描绘系统中，分别使用2台曝光描绘装置而在被曝光基板的每个单面描绘图像，因此作业者向一方的曝光描绘装置输入第一面的作业信息，向另一方的曝光描绘装置输入第二面的作业信息。由此，由于作业者对各曝光描绘装置个别地输入作业信息，因此在作业者错误地进行输入的情况下，存在可能在被曝光基板的各面描绘彼此不对应的图像这样的问题。
[0012]另外，有时在一方的曝光描绘装置中将曝光描绘处理失败而成为不合格品的被曝光基板去除。在这种情况下，即使在作业信息的输入正确进行的情况下，在向另一方的曝光描绘装置输入的作业信息未被更新的情况下，也存在可能在被曝光基板的各面描绘彼此不对应的图像这样的问题。
[0013]本发明鉴于上述问题而完成，目的在于提供能够在被曝光基板的两面描绘图像时防止在各面描绘彼此不对应的图像的情况的曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法。
[0014]用于解决课题的技术方案
[0015]为了实现上述目的，本发明的曝光描绘装置包括:第一描绘构件，基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息，将所述第一面曝光，从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘；存储构件，存储多个第二作业信息，该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应；以及第二描绘构件，基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息所表示的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息，将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光，从而将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。
[0016]根据本发明所涉及的曝光描绘装置，通过第一描绘构件，基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息，将所述第一面曝光，从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘。
[0017]在此，在本发明中，通过存储构件，存储多个第二作业信息，该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应。并且，在本发明中，通过第二描绘构件，基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息所表示的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息，将在该第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光，从而将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。
[0018]由此，根据本发明的曝光描绘装置，使用具有与向第一面描绘图像时所使用的第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的第二作业信息，向第二面描绘图像，因此能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
[0019]另外，本发明所涉及的曝光描绘装置也可以是，所述曝光条件包括所述被曝光基板的尺寸、所述被曝光基板的作为曝光对象的片数、在所述被曝光基板设置有用于决定图像的描绘区域的标记的情况下的该标记的配置图案以及所述被曝光基板的感光材料种类中的至少一个。由此，能够以适用的曝光条件向被曝光基板的各面描绘图像。
[0020]另一方面，为了实现上述目的，本发明的曝光描绘系统具有第一曝光描绘装置和第二曝光描绘装置，所述第一曝光描绘装置包括:第一描绘构件，基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息，将所述第一面曝光，从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘；以及发送构件，发送利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息，所述第二曝光描绘装置包括:存储构件，存储多个第二作业信息，该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应；接收构件，接收由所述发送构件发送的所述曝光条件信息；以及第二描绘构件，基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与由所述接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息，将利用所述第一描绘构件在所述第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光，从而将由该第二作业信息表示的图像向该第二面描绘。
[0021]根据本发明所涉及的曝光描绘系统，通过第一曝光描绘装置的第一描绘构件，基于将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息，将所述第一面曝光，从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘。而且，通过第一曝光描绘装置的发送构件，发送利用所述第一描绘构件对被曝光基板的所述第一面进行的图像的描绘所使用的所述第一作业信息的曝光条件信息。
[0022]另一方面，在本发明所涉及的曝光描绘系统中，通过第二曝光描绘装置的第二存储构件，存储多个第二作业信息，该多个第二作业信息将表示向被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息分别建立了对应。而且，通过第二曝光描绘装置的接收构件，接收由所述发送构件发送的所述曝光条件信息。进而，通过第二曝光描绘装置的第二描绘构件，基于所述存储构件所存储的所述多个第二作业信息中的具有与由所述接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息，将利用所述第一描绘构件在所述第一面描绘了图像的被曝光基板的所述第二面曝光，从而将由该第二作业信息表示的图像向该第二面描绘。
[0023]由此，根据本发明的曝光描绘系统，第二曝光描绘装置使用具有与向第一面描绘了图像时所使用的第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的第二作业信息，向第二面描绘图像，因此能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
[0024]另外，本发明所涉及的曝光描绘系统也可以是，所述第一曝光描绘装置的所述发送构件发送由所述第一描绘构件进行的描绘正常地结束时的曝光条件信息。由此，与未适用本发明的情况相比，能够更切实地防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
[0025]另外，本发明所涉及的曝光描绘系统也可以是，所述第一曝光描绘装置的所述发送构件在由所述第一描绘构件进行的描绘异常地结束的情况下，发送表示发生了错误的错误信息。由此，与未适用本发明的情况相比，能够更切实地防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
[0026]另外，本发明所涉及的曝光描绘系统也可以是，所述第二曝光描绘装置还具备受理构件，在由所述存储构件存储的所述多个第二作业信息中存在多个具有与由所述接收构件接收到的曝光条件信息相同的曝光条件信息的所述第二作业信息的情况下，所述受理构件受理存在多个的所述第二作业信息中的任一个所述第二作业信息的选择，所述第二曝光描绘装置的所述第二描绘构件基于由所述受理构件受理了选择的所述第二作业信息来向所述第二面描绘图像。由此，即使存在多个具有与向第一面描绘了图像时所使用的第一作业信息的曝光条件信息相同的曝光条件信息的第二作业信息，也能够防止在向被曝光基板的两面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。
[0027]另外，本发明所涉及的曝光描绘系统也可以是，还具备控制装置，该控制装置包括:第二存储构件，存储所述第一作业信息以及所述第二作业信息；以及第二发送构件，将由所述第二存储构件存储的所述第一作业信息向所述第一曝光描绘装置发送，并将所述第二作业信息向所述第二曝光描绘装置发送，所述第一曝光描绘装置还具备接收由所述第二发送构件发送的所述第一作业信息的第二接收构件，所述第一曝光描绘装置的所述第一描绘构件使用由所述第二接收构件接收到的所述