黑色矩阵的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种黑色矩阵的制作方法。
【背景技术】
[0002]随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
[0003]现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，两片玻璃基板中间有许多垂直和水平的细小电线，通过通电与否来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。
[0004]通常液晶显示面板由彩膜(CF，Color Filter)基板、薄膜晶体管(TFT，Thin FilmTransistor)阵列基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管阵列基板之间的液晶(LC，LiquidCrystal)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括:前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
[0005]传统的液晶显示面板中，通常会在彩膜基板一侧制作一层黑色矩阵(BM，BlackMatrix)，用于分割相邻色阻，遮挡色彩的空隙，防止漏光或者混色；而将黑色矩阵制备在TFT阵列基板的技术叫做BOA (BM On Array，黑色矩阵贴附于阵列基板)，BOA可以解决上下基板错位导致遮光区域不匹配的问题，这种对曲面显示器尤其有用。COA(Color filter OnArray)技术是一种将原本制备于彩膜基板上的RGB色阻制备在TFT阵列基板上的技术，COA技术可以改善金属线上的信号延迟，提供面板开口率，改善面板显示品质。
[0006]图1为在彩膜基板上制作黑色矩阵后的示意图，如图1所示，黑色矩阵200为彩膜基板100的第一道制程，因此在黑色矩阵的制备过程中无需参考前制程的对位标记(mark)。而在BOA架构的液晶显示面板中，由于黑色矩阵制作于TFT阵列基板一侧，在制备黑色矩阵之前，已经进行了其它图案的制程，因此在制备黑色矩阵时需要参考前制程的对位标记，但由于黑色矩阵具有较高的光密度值(0D, optical density)，因此在涂布后对光罩对位标记的识别造成干扰，可能导致曝光机无法对位。如果要使用较低光密度值的黑色矩阵材料，可以增加涂布后对位标记的识别能力，但是黑色矩阵的遮光效果会受到严重影响。
[0007]图2为在TFT阵列基板上涂布黑色矩阵薄膜后的示意图，图3为图2所示的圆圈区域的横截面示意图，从图2、及图3中可以看出，在TFT阵列基板300上涂布黑色矩阵薄膜400后，所述黑色矩阵薄膜400将对位标记500完全覆盖掉，由于所述黑色矩阵薄膜400厚度的典型值为I μ m，其对对位标记500形成覆盖后，减弱了对位标记500处与相邻区域的断差dl，因此即使使用轮廓探测的方法也很难识别出对位标记500的准确位置。
【发明内容】
[0008]本发明的目的在于提供一种黑色矩阵的制作方法，通过增加对位标记处与相邻区域的断差，在涂布黑色矩阵薄膜后，可以利用轮廓探测的方法来识别对位标记所在的位置，进行精确对位后，对黑色矩阵薄膜进行图形化，形成黑色矩阵的设计图形，解决了 BOA架构中黑色矩阵的制备过程中对位标记难以识别的问题。
[0009]为实现上述目的，本发明提供一种黑色矩阵的制作方法，其特征在于，包括如下步骤:
[0010]步骤1、提供基板，所述基板上设置有数个对位标记；
[0011]步骤2、在所述基板上制作一有机光阻层，所述有机光阻层包括分别覆盖数个对位标记的数个有机光阻块；
[0012]步骤3、在所述基板及有机光阻层上涂覆一黑色矩阵薄膜；
[0013]步骤4、基于基板上对位标记处与相邻区域形成的断差，采用轮廓识别设备识别出对位标记的位置，进行精确对位后，图案化所述黑色矩阵薄膜，形成黑色矩阵。
[0014]所述步骤I中，所述基板为TFT阵列基板。
[0015]所述基板为矩形结构，所述对位标记为四个，分别设置于矩形的四个角处。
[0016]所述对位标记与有机光阻块均为十字形结构，且二者的尺寸相同。
[0017]述有机光阻块为彩色光阻块。
[0018]所述有机光阻块的厚度为3 μ mo
[0019]所述黑色矩阵薄膜的厚度为I ym。
[0020]所述步骤3中对位标记处与相邻区域的断差大于2 μπι。
[0021]所述步骤3中对位标记处与相邻区域的断差为3 μπι。
[0022]所述步骤3中的轮廓识别设备为具有差分模式的镜头或CCD探头。
[0023]本发明的有益效果:本发明提供一种黑色矩阵的制作方法，采用COA技术先在对位标记上制备厚度较大的有机光阻块，然后将黑色矩阵薄膜覆盖在有机光阻块上，大大增加了对位标记处与相邻区域的的断差，进而可以利用轮廓识别设备准确识别出对位标记的位置，从而解决了 BOA制程中黑色矩阵薄膜涂布后对位标记难以识别的问题。
[0024]为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
【附图说明】
[0025]下面结合附图，通过对本发明的【具体实施方式】详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0026]附图中，
[0027]图1为在彩膜基板上制作黑色矩阵后的示意图；
[0028]图2为在TFT阵列基板上涂布黑色矩阵光阻体系后的示意图；
[0029]图3为图2中的圆圈区域的横截面示意图；
[0030]图4为本发明的黑色矩阵的制作方法步骤I的示意图；
[0031]图5为图4中A-A处的剖面示意图；
[0032]图6为本发明的黑色矩阵的制作方法步骤2的示意图；
[0033]图7为图6中A-A处的剖面示意图；
[0034]图8为本发明的