液晶显示面板及其制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种液晶显示面板及该液晶显示面板的制造方法。
【背景技术】
[0002] 液晶显示面板，例如平面内切换型（IPS，In-plane switching)液晶显示面板，通 常包括两个相对设置的基板及设置于它们之间的液晶层。通过配向膜使液晶层中的液晶分 子相对于基板初始配向在一定的角度。当施加电压时，液晶层内产生电场，使液晶层中的液 晶分子发生扭转而实现图像显示。但在实际使用中，液晶分子时常不能按照预定方向配向， 影响配向的准确性，并最终影响图像显示效果。
【发明内容】
[0003] 鉴于此，有必要提供一种配向准确性高的液晶显示面板。
[0004] 一种液晶显示面板，包括第一基板、与该第一基板相对设置的第二基板及形成于 该第一基板与该第二基板之间的液晶层；所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元 设置有像素电极；每一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具 有第一间隙；相邻的像素单元之间具有第二间隙；其特征在于：所述液晶层中与所述第一 间隙及所述第二间隙对应的液晶分子的预倾角小于与所述子像素电极对应的液晶分子的 预倾角。
[0005] 还有必要提供一种配向准确性高的液晶显示面板的制造方法。
[0006] 一种液晶显示面板的制造方法，该方法包括步骤： 提供一第一基板，所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极，每 一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具有第一间隙； 在该第一基板上形成覆盖所述像素电极的第一配向膜，并对该第一配向膜进行配向； 提供一第二基板，在第二基板上形成一第二配向膜，并对该第二配向膜进行配向； 将液晶形成于所述第一配向膜与所述第二配向膜之间以形成液晶层； 提供一光罩，该光罩具有对应所述第一间隙的透光区，至少部分光线可从该透光区通 过，通过该光罩对该液晶层进行曝光。
[0007] 还有必要提供一种配向准确性高的液晶显示面板的制造方法。
[0008] 一种液晶显示面板的制造方法，该方法包括步骤： 提供一第一基板，所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极，每 一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具有第一间隙； 在该第一基板上形成覆盖所述像素电极的第一配向膜，并对该第一配向膜进行配向； 提供一第二基板，在第二基板上形成一第二配向膜，并对该第二配向膜进行配向； 提供一光罩，该光罩具有对应所述第一间隙的透光区，至少部分光线可从该透光区通 过，通过该光罩对该第一配向膜及该第二配向膜进行曝光； 将液晶形成于所述第一配向膜与所述第二配向膜之间以形成液晶层。
[0009] 相较于现有技术，与第一、二间隙对应的液晶分子的预倾角相对与子像素电极对 应的液晶分子的预倾角小，有助于克服由于第一、二间隙的存在而造成的液晶分子配向不 准的问题。另，通过具有与像素电极内的第一间隙对应的透光区的光罩对液晶层进行曝光， 使得与第一、二间隙对应的液晶分子进行二次配向，以抵消由于第一间隙的存在对液晶分 子配向的影响，从而配向更准确。此外，通过具有与像素电极内的第一间隙对应的透光区的 光罩对第一、二配向膜进行二次配向，以调节第一、二配向膜的各处的取向能力，从而抵消 由于第一间隙的存在对液晶分子配向的影响，使配向更准确。
【附图说明】
[0010] 图1为本发明第一较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
[0011] 图2至图6为图1中各步骤流程的剖面示意图。
[0012] 图7为图2中沿虚线区域局部放大后的俯视图。
[0013] 图8为本发明第二较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
[0014] 图9至图13为图8中各步骤流程的剖面示意图。
[0015] 图14为本发明第三较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
[0016] 图15至图19为图14中各步骤流程的剖面示意图。
[0017] 图20为本发明第四较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
[0018] 图21至图25为图20中各步骤流程的剖面示意图。
[0019] 图26为本发明第五较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
[0020] 图27至图32为图26中各步骤流程的剖面示意图。
[0021] 图33为本发明第六较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
[0022] 图34至图39为图32中各步骤流程的剖面示意图。
[0023] 主要元件符号说明
【主权项】
1. 一种液晶显示面板，包括第一基板、与所述第一基板相对设置的第二基板及形成于 该第一基板与该第二基板之间的液晶层；所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元 设置有像素电极；每一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具 有第一间隙；相邻的像素单元之间具有第二间隙；其特征在于：所述液晶层中与所述第一 间隙及所述第二间隙对应的液晶分子的预倾角小于与所述子像素电极对应的液晶分子的 预倾角。
2. -种液晶显示面板的制造方法，该方法包括步骤： 提供一第一基板，所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极，每 一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的所述子像素电极之间具有第一间隙； 在该第一基板上形成覆盖所述像素电极的第一配向膜，并对该第一配向膜进行配向； 提供一第二基板，在第二基板上形成一第二配向膜，并对该第二配向膜进行配向； 将液晶形成于所述第一配向膜与所述第二配向膜之间以形成液晶层； 提供一光罩，该光罩具有对应所述第一间隙的透光区，至少部分光线可从该透光区通 过，通过该光罩对该液晶层进行曝光。
3. 如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，相邻的像素单元之间 具有第二间隙，所述光罩进一步具有与所述第二间隙对应的透光区。
4. 如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述透光区为贯穿所 述光罩的开口。
5. 如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该第一配向膜及该第 二配向膜均为光配光膜。
6. 如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该第一配向膜及该第 二配向膜均为摩擦配向膜。
7. 如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述光罩为一半色调 光罩，部分光线可穿过所述透光区。
8. 如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，经过曝光后，所述液晶 层中与所述透光区对应的液晶分子的预倾角小于曝光前的预倾角。
9. 如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述像素电极呈梳型 结构。
10. 如权利要求1所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述第一基板为薄膜 晶体管阵列基板，所述第二基板为对向基板。
11. 一种液晶显示面板的制造方法，该方法包括步骤： 提供一第一基板，所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极，每 一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的所述子像素电极之间具有第一间隙； 在该第一基板上形成覆盖所述像素电极的第一配向膜，并对该第一配向膜进行配向； 提供一第二基板，在第二基板上形成一第二配向膜，并对该第二配向膜进行配向； 提供一光罩，该光罩具有对应所述第一间隙的透光区，至少部分光线可从该透光区通 过，通过该光罩对该第一配向膜及对该第二配向膜进行曝光； 将液晶形成于所述第一配向膜与所述第二配向膜之间以形成液晶层。
12. 如权利要求11所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，相邻的像素单元之 间具有第二间隙，所述光罩进一步具有与所述第二间隙对应的透光区。
13. 如权利要求11所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述透光区为贯穿 所述光罩的开口。
14. 如权利要求11所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该第一配向膜及该 第二配向膜均为光配光膜。
15. 如权利要求11所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该第一配向膜及该 第二配向膜均为摩擦配向膜。
16. 如权利要求11所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述光罩为一半色 调光罩，部分光线可穿过所述透光区。
17. 如权利要求11所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述液晶层中与所 述透光区对应的液晶分子的预倾角小于与所述子像素电极对应的液晶分子的预倾角。
18. 如权利要求11所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述像素电极呈梳 型结构。
19. 如权利要求11所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述第一基板为薄 膜晶体管阵列基板，所述第二基板为对向基板。
【专利摘要】本发明提供一种液晶显示面板，该液晶显示面板包括第一基板、与第一基板相对设置的第二基板及形成于该第一、二基板之间的液晶层；第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极；每一像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具有第一间隙；相邻的像素单元之间具有第二间隙；液晶层中与第一、二间隙对应的液晶分子的预倾角小于与所述子像素电极对应的液晶分子的预倾角。由于与第一、二间隙对应的液晶分子的预倾角较小，有助于克服由于第一、二间隙的存在而造成的液晶分子配向不准的问题。
【IPC分类】G02F1-1333, G02F1-1337
【公开号】CN104777671
【申请号】CN201510147099
【发明人】彭海波, 麦真富, 陈阳
【申请人】深超光电（深圳）有限公司
【公开日】2015年7月15日
【申请日】2015年3月31日