数据修正装置、绘图装置、数据修正方法和绘图方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及基于基板上的记号位置信息，对基板上所绘制图像的绘图数据进行修正的技术。
【背景技术】
[0002]历来，半导体基板和印刷基板，或等离子显示器和液晶显示器中的玻璃基板(以下简称“基板”)上的感光材料经过光的照射，来进行绘图(描画图案)。近年来，随着图案(pattern)的高度精细化，开始利用在感光材料上通过光束扫描直接绘制图案的绘图装置。
[0003]就所述绘图装置，在基板发生反拱、歪斜、翘曲等变形时，会结合变形程度修正绘图数据。按如下方式修正绘图数据:通常先测定设在基板上的定位标记等记号位置，根据测定结果计算出基板上各位置的位移，然后把各位置的绘图数据调节至与该位移相适应。
[0004]例如，在JP特开2008-3441号公报(文献I)中，根据用于构成包围绘图数据的矩形的四个目标信息位置，计算出绘图数据的修正值。通过这样，可对绘图数据附近局部的基板变形所对应的绘图数据进行修正。在JP特开2012-79739号公报(文献2)中，基于基板上以格子状分布的多个基准点的位移使基板的变形近似曲线化，进而修正绘图数据。通过这样，可把握基板的大范围变形(如基板整体弯曲)，准确修正绘图数据。
[0005]然而，在JP特开2012-198313号公报(文献3)中的绘图装置中，修正绘图数据的手段包括基于三个修正观点的三种修正算法。绘图装置的操作人员，结合基板种类和变形程度等选择修正算法，运用所选修正算法修正绘图数据。
[0006]另外，在文献3中的绘图装置中，操作人员结合提前所获知的基板变形等情况选择修正算法。但所选修正算法是否比其他修正算法更合适尚不明确。
【发明内容】
[0007]本发明面向数据修正装置，基于基板上的记号位置信息，对基板上绘制的图像的绘图数据进行修正。本发明的目的是自动选择合适的修正方式。
[0008]本发明的数据修正装置，包括:设计位置存储部，其存储记号集合的设计位置，所述记号集合是指，位于基板上并且用于修正绘图数据的多个记号；测定位置取得部，其取得所述记号集合的测定位置；记号评估值计算部，其基于除了从所述记号集合中选出的关注记号群之外的剩余记号群的测定位置和设计位置，通过算法相异的多个修正方式，分别对所述关注记号群的设计位置进行修正，来获取修正位置，针对各修正方式求出目标评估值，所述目标评估值表示所述关注记号群的所述修正位置和测定位置之间的偏差；修正方式评估值计算部，其以与所述各修正方式相关的方式，基于通过所述记号评估值计算部针对至少一种关注记号群求出的记号评估值，求出表示所述各修正方式的修正精度的修正方式评估值；修正方式选择部，其对多个所述修正方式的修正方式评估值进行比较，选择修正精度最高的修正方式；绘图数据修正部，其利用由所述修正方式选择部选择的所述修正方式，来修正所述绘图数据。通过该数据修正装置可自动选择合适的修正方式。
[0009]本发明的一个优选实施方式是，所述关注记号群是一个记号。
[0010]在本发明的其他优选实施方式中，
[0011]所述记号评估值计算部，针对所述各修正方式，求出将所述记号集合所含的全部记号分别作为关注记号群时的记号评估值；所述修正方式评估值计算部，针对所述各修正方式，基于所述全部记号的记号评估值来求出修正方式评估值。
[0012]在本发明的其他优选实施方式中，所述记号评估值，是所述关注记号群的所述修正位置和所述测定位置之间的距离；所述修正方式评估值，是所述至少一种关注记号群的记号评估值的总和；所述修正方式选择部，选择所述修正方式评估值最小的修正方式。
[0013]在本发明的其他优选实施方式中，所述记号评估值，是所述关注记号群的所述修正位置和所述测定位置之间的距离；所述修正方式评估值，是所述至少一种关注记号群的记号评估值的最大值；所述修正方式选择部，选择所述修正方式评估值最小的修正方式。
[0014]在本发明的其他优选实施方式中，所述测定位置取得部包括:摄像部，其拍摄所述记号集合；测定位置计算部，其根据通过所述摄像部获取的图像，求出所述记号集合的所述测定位置。
[0015]本发明还提供在基板上绘图的绘图装置。本发明相关的绘图装置包括:
[0016]光源；上述数据修正装置；光调制部，其基于由所述数据修正装置修正的绘图数据，对来自所述光源的光进行调制；扫描机构，其使由所述光调制部调制的光在基板上扫描。
[0017]本发明还提供数据修正方法以及在基板上绘图的绘图方法，基于基板上的记号位置信息，修正基板上所绘制的图像的绘图数据。
[0018]通过参照附图及下述关于该发明的详细说明，可以明确所述目的及其他目的、特征、方式和优点。
【附图说明】
[0019]图1是表示绘图装置的结构的图。
[0020]图2是表示数据处理装置功能的框图。
[0021]图3A是用于对绘图数据修正处理的基本概念进行说明的图。
[0022]图3B是用于对绘图数据修正处理的基本概念进行说明的图。
[0023]图3C是用于对绘图数据修正处理的基本概念进行说明的图。
[0024]图3D是用于对绘图数据修正处理的基本概念进行说明的图。
[0025]图3E是用于对绘图数据修正处理的基本概念进行说明的图。
[0026]图3F是用于对绘图数据修正处理的基本概念进行说明的图。
[0027]图3G是用于对绘图数据修正处理的基本概念进行说明的图。
[0028]图4是表不基板上记号集合的俯视图。
[0029]图5是表示绘图数据的修正流程的图。
[0030]图6是表示绘图数据修正流程的一部分的图。
[0031]图7是表示绘图数据修正流程的一部分的图。
[0032]附图标记说明
[0033]I绘图装置
[0034]2数据处理装置
[0035]3曝光装置
[0036]9 基板
[0037]34摄像部
[0038]35扫描机构
[0039]80记号集合
[0040]81 记号
[0041]221设计位置存储部
[0042]222测定位置取得部
[0043]223记号评估值计算部
[0044]224修正方式评估值计算部
[0045]225修正方式选择部
[0046]226绘图数据修正部
[0047]228测定位置计算部
[0048]331 光源
[0049]332光调制部
[0050]Sll ?S18，S121，S122，S131 ?S135 步骤
【具体实施方式】
[0051]图1是表示本发明一个实施方式的绘图装置I的结构的图。绘图装置I是直描装置，其对设在印刷基板、半导体基板、液晶基板等(以下总称“基板”)的表面上的感光材料照射光，从而在基板上直接绘制电路图案等图像。
[0052]绘图装置I包括数据处理装置2和曝光装置3。数据处理装置2生成并修正绘图数据。数据处理2是普通的计算机系统，包括处理各种计算的CPU、存储基本程序的ROM和存储各种信息的RAM等。曝光装置3在基板9上绘制(即曝光)从数据处理装置2传送来的绘图数据。若能够在数据处理装置2和曝光装置3之间交接数据，则两者可不必设在一起，在物理位置上可分离。
[0053]图2是表示数据处理装置功能的框图。数据处理装置2包括数据修正部21和数据修正部22。将由图案设计装置4生成的图案数据作为要在基板9上绘制图像的绘图数据，而输入至数据转换部21。图案数据指电路图案等图像的设计数据。图案数据通常指多边形等向量数据。数据转换部21将图案数据转换为光栅数据。