第3排依次变大，所述光斑31在测量方向上的宽度可以是 0? 2mm~1mm，优选的，第0排光斑31在测量方向上的宽度为0? 45mm，第1排光斑31在测 量方向上的宽度为〇? 6mm，第2排光斑31在测量方向上的宽度为0? 75mm，第3排光斑31在 测量方向上的宽度为〇. 9mm。第-1排至第-3排的光斑31在测量方向上的宽度分别与第1 排至第3排对应相等。此外，所述多个光斑31的朝向一致，即皆是朝向垂直测量方向SC的 X方向。
[0036] 下面结合图1，对本实施例中的投影狭缝3应用于调焦调平传感器进行测量时的 工作情况加以阐述。在图1中，若非有特别说明，其各部件的具体结构请参考【背景技术】的引 用文献，在此不对其进行详述。
[0037]所述调焦调平传感器的光电探测器阵列11配备有对应于每一个光斑31的信号处 理通道，在实际测量中可以通过部分地启用光斑的测量通道以达到所需要的测量精度和量 程，并可以避免不同信号通道间的信号干扰。
[0038] 可选地，在调焦调平系统工作时，亦可以将实时测得的硅片面12形貌信息反馈给 控制系统，控制系统通过控制扫描反射镜6的振幅使其扫描振幅实时变化以适应不同的测 量光斑。
[0039] 具体实现过程描述如下：调焦调平系统工作时，首先将扫描反射镜6的扫描振幅 设置为低精度测量光斑宽度，如第3排和第-3排的光斑宽度，进行低精度测量，此时只开启 第3排和第-3排对应的光电探测器阵列11的通道，其它通道关闭，避免不同信号通道间的 信号干扰。接着，扫描反射镜6的扫描振幅设置为相对高精度测量光斑宽度，如第1和第-1 排的光斑宽度，进行高精度测量，此时只开启第1排和第-1排对应的光电探测器阵列11的 通道，其它通道关闭，避免不同信号通道间的信号干扰。当然，对扫描反射镜6的扫描振幅 设置并不限于本实施例所述，业内人士在面临不同的需要时，能够在本实施例的基础上采 用合适的扫描振幅设置序列，从而实现测量精度由低到高，测量量程由大到小的过渡，降低 了在测量过正中寻找光斑的难度，使测量过程更易于控制。
[0040] 请参考图3,其为本发明第二实施例的投影狭缝形成的光斑的示意图。为了使得描 述简洁，本实施例仅描述与第一实施例的区别之处。本实施例包括7排光斑31，各排光斑31 的大小形状一致，每排中光斑31的朝向一致且异于相邻排的光斑31的朝向。具体表现在， 中间的第〇排朝向为垂直测量方向SC，即沿X方向，其余排按距离中间的第0排自近而远起 由X方向沿顺时针方向逐渐倾斜，所述倾斜范围为0~90°。优选的，在第1排和第-1排 中，倾斜角度ct为15°，在第2排和第-2排中，倾斜角度P为30°，在第3排和第-3排 中，倾斜角度Y为45°。对于具有其他排数的情况下，每排的倾斜角度可在0~90°之间 采取渐进式变动。本实施例采用了每排光斑31的大小形状相同的设计，通过使得每排光斑 31有着特定的角度，同样实现了能够获得渐进变化的测量精度和测量量程。
[0041] 利用本实施例的投影狭缝3应用于调焦调平传感器进行测量时的工作情况与第 一实施例类同，在此不做赘述。
[0042] 请参考图4,其为本发明第三实施例的投影狭缝形成的光斑的示意图。为了使得 描述简洁，本实施例仅描述与第一实施例的区别之处。本实施例包括7排光斑31，相邻排 的光斑31在测量方向SC上宽度按照设定规格变化，每排中光斑31的朝向一致且异于相邻 排的光斑31的朝向。这表现在，位于中间的第0排光斑31及位于其一侧的多排光斑31在 测量方向SC上的宽度呈等差分布，即具有第一实施例的结构特征，此外，还具有第二实施 例的结构特征，中间的第〇排朝向为垂直测量方向SC，即沿X方向，但是与第二实施例不同 的是，其余排按距离中间的第〇排自远而近起由X方向沿顺时针方向逐渐倾斜，所述倾斜范 围为0~90°。具体的，在第1排和第-1排中，倾斜角度a为45°，在第2排和第-2排 中，倾斜角度0为30°，在第3排和第-3排中，倾斜角度Y为15°。对于具有其他排数 的情况下，每排的倾斜角度可在〇~90°之间采取渐进式变动。本实施例采用了每排光斑 31的大小形状不同，并且使得每排光斑31有着特定的角度，同样实现了能够获得渐进变化 的测量精度和测量量程。
[0043] 利用本实施例的投影狭缝3应用于调焦调平传感器进行测量时的工作情况与第 一实施例类同，在此不做赘述。
[0044] 通过上述实施例，将本发明的投影狭缝及调焦调平传感器的特征展现出来。在本 发明中，所述投影狭缝能够在待测表面形成沿测量方向排布的M排光斑，所述光斑具有多 种形状或朝向，以实现渐进式多精度、多量程的测量。相比现有技术，本发明中的光斑分布 具有渐进测量精度和渐进量程，可以适应不同的测量精度需求。对同一被测对象，可以实现 测量精度由低到高，测量量程由大到小的过渡，降低了在测量过正中寻找光斑的难度，使测 量过程更易于控制。
[0045] 显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精 神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围 之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1. 一种投影狭缝，用于在待测表面形成沿测量方向排布的M排光斑，其特征在于，所述 光斑具有多种形状或朝向。2. 如权利要求1所述的投影狭缝，其特征在于，所述M排光斑沿测量方向上呈多排分 布，每排中包含多个大小、形状一致的光斑。3. 如权利要求1所述的投影狭缝，其特征在于，以位于中间的一排光斑为基准，其余排 光斑在所述基准两侧排布。4. 如权利要求1所述的投影狭缝，其特在于，以位于中间的一排光斑为基准，所述基准 两侧距离所述基准等距处的两排光斑的形状及朝向相同。5. 如权利要求1所述的投影狭缝，其特征在于，相邻排的光斑在测量方向上宽度按照 设定规格变化。6. 如权利要求5所述的投影狭缝，其特征在于，位于中间的一排光斑及位于其一侧的 多排光斑在测量方向上的宽度呈等差分布，中间排的光斑的宽度最小。 7?如权利要求6所述的投影狭缝，其特征在于，所述光斑的宽度为0? 2mm~1mm。8. 如权利要求1所述的投影狭缝，其特征在于，各排光斑的大小形状一致，每排中光斑 的朝向一致且异于相邻排的光斑的朝向。9. 如权利要求1所述的投影狭缝，其特征在于，中间的一排朝向为垂直测量方向，其余 排按距离中间的一排自近而远起由垂直测量方向沿顺时针方向逐渐倾斜。10. 如权利要求9所述的投影狭缝，其特征在于，所述倾斜范围为O~90°。11. 如权利要求1所述的投影狭缝，其特征在于，相邻排的光斑在测量方向上宽度按照 设定规格变化，每排中光斑的朝向一致且异于相邻排的光斑的朝向。12. 如权利要求11所述的投影狭缝，其特征在于，位于中间的一排光斑及位于其一侧 的多排光斑在测量方向上的宽度呈等差分布，中间排的光斑的宽度最小。13. 如权利要求12所述的投影狭缝，其特征在于，所述光斑的宽度为0. 2mm~1mm。14. 如权利要求11所述的投影狭缝，其特征在于，中间的一排朝向为垂直测量方向，其 余排按距离中间的一排自远而近起由垂直测量方向沿顺时针方向逐渐倾斜。15. 如权利要求14所述的投影狭缝，其特征在于，所述倾斜范围为0~90°。16. -种调焦调平传感器，包括投影狭缝及光电探测器阵列，其特征在于，所述投影狭 缝为如权利要求1~15中任意一项所述的投影狭缝；所述光电探测器阵列配备有对应于每 一个光斑的信号处理通道。
【专利摘要】本发明揭示了一种投影狭缝及调焦调平传感器，所述投影狭缝用于在待测表面形成沿测量方向排布的M排光斑，所述光斑具有多种形状或朝向，以实现渐进式多精度、多量程的测量。所述调焦调平传感器包括所述投影狭缝及光电探测器阵列，所述光电探测器阵列配备有对应于每一个光斑的信号处理通道。本发明中的光斑分布具有渐进测量精度和渐进量程，可以适应不同的测量精度需求。对同一被测对象，可以实现测量精度由低到高，测量量程由大到小的过渡，降低了在测量过正中寻找光斑的难度，使测量过程更易于控制。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN105223780
【申请号】CN201410243346
【发明人】孙昊
【申请人】上海微电子装备有限公司
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2014年6月3日