光写入头定位机构、处理单元及图像形成装置的制造方法_4

文档序号:9523335阅读:来源:国知局
会变得难以与感光体2接触。其结果是,会在内侧感光体接触面21al和感光体2之间形成间隙,产生感光体2上的清洁残留物的挤过,从而不能够进行适当的清洁残留物除去。为了抑制这种内侧感光体接触面21al和感光体2之间的间隙的发生,如图10所示地,以将先端宽度tl设定在0.6mm以下为好。
[0089]另外,当间隔构件21从光写入头4受到的负载较大时,虽然内侧感光体接触面21al与感光体2容易接触,但是,该负载太大时,就会加快感光体2或间隔构件21的磨耗。其结果是,光写入头4和感光体2的距离太近而发生光写入头4的焦点模糊。为了抑制这种感光体2或间隔构件21的磨耗,如图10所示地,以将对间隔构件21的负载设定在8N以下为好。
[0090]另一方面,当间隔构件21的负载较小时,虽然能够抑制感光体2或间隔构件21的磨耗,但是内侧感光体接触面21al会难以与感光体2接触。其结果是,会在内侧感光体接触面21al和感光体2之间形成间隙,产生感光体2上的清洁残留物的挤过,从而不能够进行适当的清洁残留物除去。为了抑制这种内侧感光体接触面21al和感光体2之间的间隙的发生,如图10所示地,以将对间隔构件21的负载设定在3N以上为好。
[0091]根据以上结果可以这样说,在本实施方式的构成中,优选的是将作为内侧感光体接触面21al的宽度的脚部24的先端宽度tl设定在0.lmm-0.6mm的范围内,并将对间隔构件21的负载设定在3N-8N的范围内。
[0092](本发明的第二实施方式的光写入头定位机构的说明)
[0093]图11所示是第二实施方式的光写入头定位机构中的间隔构件21。图11(a)是从间隔构件21上方看到的图,图11(b)所示是间隔构件21在感光体2轴方向的右侧部分的接触面21a的概要图,后述的图12也是同样的构成。在本发明的第二实施方式中,外侧感光体接触面21a2没有圆弧形状而是由平面状的接触面来构成。通过将外侧感光体接触面21a2形成为平面,就使得外侧感光体接触面21a2以与感光体2的表面相接的方式来与感光体2接触了。
[0094]通过将外侧感光体接触面21a2形成为平面,还能够使得间隔构件21的制作变得简单,并减低制造成本。另外,还能够提高零件精度,从而进一步稳定光写入头4相对于感光体2的距离。关于间隔构件21以三点来与感光体2接触则与第一实施方式是同样的。
[0095](本发明的第三实施方式的光写入头定位机构的说明)
[0096]本发明的第三实施方式的光写入头定位机构如图12所示地,是在间隔构件21的感光体2轴方向外侧的脚部24里设置了比周围要朝着感光体2 —侧突起的凸部30。凸部30是面向感光体2 —侧来与感光体2接触的平面状的接触面,并具有外侧感光体接触面
21a2o
[0097]然后,感光体2的轴方向内侧的脚部24具有的内侧感光体接触面21al与第一实施方式同样地,具有曲率半径在感光体2的半径以下的圆弧形状。
[0098]间隔构件21通过内侧感光体接触面21al的圆弧形状的两端的两点和设置在凸部30中的外侧感光体接触面21a2的一点来与感光体2接触,关于通过三点来与感光体2接触是和其他实施方式同样的。
[0099]通过在感光体2的轴方向内侧的脚部24里设置凸部30,就能够将与感光体2接触的部分限定为比周围更为突起的凸部30。由此,与其他实施方式相比,就容易确保接触面21a对感光体2的精度。由此,就能够稳定光写入头4相对于感光体2的距离。
[0100](本发明的第四实施方式的光写入头定位机构的说明)
[0101]在本发明的第一实施方式中,是在具有内侧感光体接触面21al的脚部24和感光体2相接的边缘部中对间隔构件21的外侧的边缘部E1进行了 R0.03mm以下的R倒角。
[0102]通过该构成,因为感光体2的轴方向的回转而是的感光体2表面上的粘着物Z和边缘部E1接触,并具有能够搂取粘着物Z的效果。
[0103]但是,通过边缘部E1接取的粘着物Z容易从边缘部E1再次流向感光体2表面,有时会再次粘着到感光体2上。因此,通过边缘部E1的刮落,有时并不能够从感光体2表面上来除去粘着物Z。
[0104]于是,在本发明的第四实施方式的光写入头定位机构中,如图13所示地,内侧感光体接触面21al设置在清洁区域B内。由此,通过边缘部E1接取的粘着物Z即使再次流向感光体2表面,在再次粘着到感光体2上之前,会通过清洁刮板6来搂取。由此,就能够防止对感光体2表面的粘着。
[0105]以上,虽然对本发明的实施方式做了说明,但本发明不局限于上述实施方式,只要在不脱离本发明的要旨的范围内就可以进行各种变更。本发明的光写入头定位机构20虽然是对鼓形状的感光体2的定位机构作了说明,但也可以是带形状的感光体,这时,本文中的感光体2的轴方向是将对带进行张紧架设的辊等的回转轴的方向来作为轴方向的。
[0106]本发明所涉及的图像形成装置不局限于图1所示的黑白图像形成装置,也可以是彩色图像形成装置或复印机、打印机、传真机或它们的多功能外围设备等。另外,也能够适用于中间转印串列方式或直接串列方式、四回转方式。
【主权项】
1.一种光写入头定位机构,其包括被设置在载置潜像的潜像载置体和对所述潜像载置体曝光后形成潜像的光写入头之间并决定所述光写入头相对于所述潜像载置体的位置的间隔构件, 其特征在于,所述间隔构件在所述潜像载置体的轴方向上设有多个与所述潜像载置体的接触面,并且,所述多个的接触面包括: 具有在所述潜像载置体半径以下的曲率半径的圆弧的所述接触面,和 具有大于所述潜像载置体半径的曲率半径的圆弧的所述接触面,或者, 与所述潜像载置体的表面接触的平面状的所述接触面。2.根据权利要求1所述的光写入头定位机构,其特征在于: 所述多个接触面是避开对所述潜像载置体的表面进行清洁的清洁机构的清洁区域的边界并在其两侧至少各配置有一个。3.根据权利要求1或2所述的光写入头定位机构,其特征在于: 所述间隔构件中相对于所述潜像载置体的接触面上的边缘部,在从所述潜像载置体回转方向的上游侧朝着下游侧的方向上,是离开所述潜像载置体上的图像形成区域地倾斜的。4.根据权利要求1至3中任何一项所述的光写入头定位机构,其特征是: 在所述间隔构件中设置在所述潜像载置体回转方向上延伸的肋条形状部,并使得所述肋条形状部的先端面与所述潜像载置体接触。5.根据权利要求4所述的光写入头定位机构,其特征在于: 所述肋条形状部的先端面的宽度的设定范围是在0.1mm以上且0.6mm以下。6.根据权利要求1至5中任何一项所述的光写入头定位机构,其特征是: 所述间隔构件从所述光写入头受到的负载的设定范围是在3N以上且8N以下。7.根据权利要求1至6中任何一项所述的光写入头定位机构,其特征是: 所述接触面的表面粗糙度Ra在0.3X106m以上且5.0X106m以下的范围内。8.根据权利要求1至7中任何一项所述的光写入头定位机构,其特征是: 所述间隔构件中与所述潜像载置体相接的边缘部进行R0.03mm以下的R倒角,或C0.03mm以下的C倒角,抑或是直角。9.一种处理单元,其包括: 通过光写入头的曝光来形成潜像的潜像载置体,和相对于所述潜像载置体来确定所述光写入头的位置的光写入头定位机构, 其特征在于,作为所述光写入头定位机构,权利要求1至8中任何一项所述的光写入头定位机构。10.一种图像形成装置,其特征在于: 包括权利要求1至8中任何一项所述的光写入头定位机构。
【专利摘要】一种光写入头定位机构、处理单元及图像形成装置,用以解决附着在潜像载置体上的调色剂等异物侵入到间隔构件和潜像载置体的接触面之间后不再能够确保光写入头对潜像载置体的定位精度的问题。内侧感光体接触面(21a1)具有的圆弧形状的曲率半径被设定在感光体(2)的半径以下。然后,外侧感光体接触面(21a2)具有的圆弧形状的曲率半径被设定为大于感光体。间隔构件(21)因为配置在其上方的光写入头(4)的负载而朝向感光体一侧被按压,并且接触面(21a)的表面形状变形为沿着感光体的表面形状的形状,从而使得接触面与感光体的表面密接。由此能够防止异物侵入到间隔构件和感光体的之间,并高精度地维持光写入头对感光体的位置。
【IPC分类】G03G15/04, G03G21/16
【公开号】CN105278283
【申请号】CN201510437995
【发明人】荒泽信一, 吉见贵博, 中村贤二
【申请人】株式会社理光
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年7月23日
【公告号】US20160026111
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