一种光刻胶组合物和形成光刻图案的方法_2

文档序号:9546292阅读:来源:国知局
物层; (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和2-庚酮,将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除,形成光刻胶图案。
[0019] 实施例4 (1) 准备一个光纤面板基板; (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物,组合物按重量比为ETA-706 0. 45份、 乙酸乙酯2. 5份、丙二醇甲醚醋酸酯16. 5份、二甲基乙酰胺4份、重氮萘醌磺酸酯3份、柠 檬酸2份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯5份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯8份和甲基丙烯酸正 丁酯4份和紫色颜料分散体21份,形成光刻胶组合物层; (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层; (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和2-庚酮,将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除,形成光刻胶图案。
[0020] 实施例5 (1) 准备一个光纤面板基板; (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物,组合物按重量比为ETA-706 0. 48份、 乙酸乙酯3份、丙二醇甲醚醋酸酯14份、二甲基乙酰胺5份、重氮萘醌磺酸酯3份、柠檬酸 2份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯9份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯4份、甲基丙烯酸正丁酯 4份和黄色颜料分散体21份,形成光刻胶组合物层; (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层; (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和2-庚酮,将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除,形成光刻胶图案。
[0021] 实施例6 (1) 准备一个光纤面板基板; (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物,组合物按重量比为ETA-706 0. 42份、 乙酸乙酯3份、丙二醇甲醚醋酸酯15份、二甲基乙酰胺5份、重氮萘醌磺酸酯2. 5份、柠檬 酸1份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯8份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯5份、甲基丙烯酸正丁 酯4份和蓝色颜料分散体20份,形成光刻胶组合物层; (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层; (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和2-庚酮,将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除,形成光刻胶图案。
[0022] 实施例7 (1)准备一个光纤面板基板; (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物,组合物按重量比为ETA-706 0. 4份、乙 酸乙酯2. 5份、丙二醇甲醚醋酸酯14. 5份、二甲基乙酰胺5. 5份、重氮萘醌磺酸酯2份、柠 檬酸1. 5份、2-羟基乙基丙烯酸甲酯6份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯6份、甲基丙烯酸 正丁酯5份和红色颜料分散体20. 5份,形成光刻胶组合物层; (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层; (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和2-庚酮,将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除,形成光刻胶图案。
[0023] 对比例 (1) 准备一个光纤面板基板; (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物,组合物按重量比为ETA-735 0. 4份、乙 酸乙酯8份、丙二醇甲醚醋酸酯2份、二甲基乙酰胺0.5份、重氮萘醌磺酸酯2份、2-羟基乙 基丙烯酸甲酯4份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯2份和甲基丙烯酸正丁酯4份,形成光刻 胶组合物层; (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层; (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂2-庚酮,将光刻胶组合物层上的未曝光区域用显 影剂去除,形成光刻胶图案。
[0024] 实验例 利用本发明光刻胶形成浮雕图像,立即测量实施例1-实施例4以及对比例的膜厚度和 增加的曝光量,计算厚度损失,并且检测图案塌陷情况,结果如表1 :
表1 由表1可知,本发明实施例1-实施例4的制得光刻胶的厚度损失小,没有图案塌陷的 情况,质量显著高于对比例。
[0025] 上述详细说明是针对本发明其中之一可行实施例的具体说明,该实施例并非用以 限制本发明的专利范围,凡未脱离本发明所为的等效实施或变更,均应包含于本发明技术 方案的范围内。
【主权项】
1. 一种光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物按重量比为聚醚改性的有机硅 流平剂0. 4-0. 55份、溶剂20-23份、光活性物质2-3份、有机酸1-2份、树脂16-18份和颜 料分散体20-21份。2. 如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述聚醚改性的有机硅流平剂为 ETA-706。3. 如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述溶剂为乙酸乙酯、丙二醇甲 醚醋酸酯和二甲基乙酰胺,所述乙酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯和二甲基乙酰胺的质量比为 (2-3):(14-17):(4-7) 〇4. 如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光活性物质为重氮萘醌磺酸 酯。5. 如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述有机酸为柠檬酸。6. 如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述树脂为2-羟基乙基丙烯酸甲 酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酸正丁酯。7. 如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述颜料分散体为红色、蓝色、黄 色或紫色。8. -种形成光刻胶图案的方法,其特征在于,包括以下步骤: (1) 准备一个光纤面板基板; (2) 在光纤面板基板的正面涂覆权利要求1-8任一项的光刻胶组合物,形成光刻胶组 合物层; (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层; (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和2-庚酮,将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除,形成光刻胶图案。
【专利摘要】本发明公开了一种光刻胶组合物和形成光刻图案的方法。所述组合物包括:聚醚改性的有机硅流平剂、溶剂、光活性物质、有机酸、树脂和颜料分散体。形成光刻图案的方法包括准备一个光纤面板基板,在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物,形成光刻胶组合物层,在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层,施加显影剂,将光刻胶组合物层上的未曝光区域用显影剂去除,形成光刻胶图案。
【IPC分类】G03F7/004, G03F7/00
【公开号】CN105301900
【申请号】CN201510781719
【发明人】陈哲, 任鲁风, 殷金龙
【申请人】北京中科紫鑫科技有限责任公司
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年11月16日
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