一种对蓝光具有高反射率的光学薄膜及其生产工艺的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明属于光学薄膜技术领域，具体设及一种对蓝光具有高反射率的光学薄膜及 其生产工艺。
【背景技术】
[0002] 短波蓝光是波长处于400nm-480nm之间具有相对较高能量的光线。该波长内的蓝 光会使眼睛内的黄斑区毒素量增高，严重威胁我们的眼底健康。蓝光诱发致盲眼病。早在 1966年化11等研究发现蓝光的照射可W引起视网膜细胞的损伤，导致视力下降甚至丧失。 其中，波长400-480纳米之间的短波蓝光对视网膜的危害程度最大。在2010年国际光协会年 会中，世界顶尖光学专家一致指出：短波蓝光具有极高能量，能够穿透晶状体直达视网膜。 蓝光照射视网膜会产生自由基，而运些自由基会导致视网膜色素上皮细胞衰亡，上皮细胞 的衰亡会导致光敏感细胞缺少养分从而引起视力的永久性损伤。
[0003] 如今科技迅速发展的时代，随着电子数码产品的普及，人们每天都离不开电脑，笔 记本，平板电脑等数码产品，在提高工作效率，享受娱乐生活的同时，也应该注意到运些电 子设备的屏幕发出的大量高能短波蓝光，正在损伤我们的双眼。
[0004] 目前市场上出现的防蓝光产品通常采用在过滤膜片上增加化学助剂涂层的方式， 来吸收过滤部分蓝光，如CN20140681543.4和CN201510257196.7等，但其实际效果并不能令 人满意。
【发明内容】
[0005] 针对【背景技术】中存在的问题，本发明提供了一种通过磁控瓣射锻膜形成的对蓝光 具有高反射率的光学薄膜及其生产工艺。
[0006] 本发明采用的技术方案是： 一种对蓝光具有高反射率的光学薄膜，包括透明基板，其特征在于:在所述透明基板上 通过磁控瓣射锻膜的方式形成厚度为250nm~750nm的金属锻层，所述金属锻层为多层的Si 锻层、Ni化锻层、MoSi2锻层和Ti锻层交替附着于所述透明基板表面。
[0007] 进一步地，所述的金属锻层由基板表面向上依次为：膜厚为45~55nm的Si锻层，膜 厚为10~20nm的NiCr锻层，膜厚为15~25nm的MoSi2锻层，膜厚为45~55nm的Ti锻层。
[000引进一步地，所述Si锻层为2~4层;所述Ni化锻层为^3层;所述MoSi2锻层为4~10层； 所述Ti锻层为2~4层。
[0009]本发明的另一目的在于提供所述光学薄膜的磁控瓣射生产工艺，包括如下步骤： 1) 取透明基材，将其放入磁控瓣射设备中；对磁控瓣射设备通气，调整设备腔体内气压 至8.0 xl〇-3Pa; 2) 在磁控瓣射设备中通入氣气与氧气的混合气体，其中氣气为工作气体，氧气为反应 气体，工作压强为4.0~5. Oxl〇-ipa，所述氣气与氧气的流量比为25:1; 3) 通过离子累对基材进行放气处理，并将基材表面打毛W增加锻膜附着力； 4) 开启磁控瓣射设备电源，依次进行Si祀材第一组锻膜、NiCr祀材第二组锻膜、MoSi2 祀材第Ξ组锻膜和Ti祀材第四组锻膜； 5) 锻膜完成后，关闭磁控瓣射设备电源，停止通入氣气与氧气的混合气体； 6) 在磁控瓣射设备中充气至大气压，溫度降低至室溫，最后取出锻膜基材。
[0010] 进一步地，所述步骤4中Si祀材第一组锻膜锻层为2~4层，工作参数为:卷绕张力 0.6N，卷绕转速0.5m/min，布气参数:MFCl:Ar(100)，MFC3:Ar(200)，MFC4:Ar(100)，MFC5:Ar (300)MFC16：Ar(300)； 进一步地，所述步骤4中NiCr祀材第二组锻膜锻层为1~3层，工作参数为：卷绕张力 0.4N，卷绕转速0.1m/min，布气参数:NFCl:Ar(100)、NFC4:Ar(100)，NFC5:Ar(300)、NFC12: Ar(300)、NFC13:02(10)、NFC14:02(80)、NFC15:02(10)、NFC16:Ar(400); 进一步地，所述步骤4中MoSi2祀材第Ξ组锻膜锻层为4~10层，工作参数为:卷绕张力 0.6N，卷绕转速0.5m/min，布气参数:NFCl:Ar(100)、NFC4:Ar(100)，NFC5:Ar(300)、NFC12: Ar(300)、NFC13:02(10)、NFC14:02(80)、NFC15:02(10)、NFC16:Ar(400); 进一步地，所述步骤4中Ti祀材第四组锻膜锻层为2~4层，工作参数为:卷绕张力1N，卷 绕转速O.lm/min，布气参数:MFCl:Ar(300)，MFC4:Ar(300)，MFC5:Ar(400)，MFC6:02(10), MFC7:02(60),MFCS :02(10)，MFC16:Ar(300)。
[0011] 本发明的光学薄膜选择51、化0、1〇512、1'1四种祀材，采用磁控瓣射锻膜的方式形 成特殊构造的复合金属锻层，对波长为420~480nm的蓝光具有高反射率，平均反射率达到 83%W上;而对其它波长的可见光具有高透过率，透射比达到82%W上。
【附图说明】
[0012] 图1为本发明的结构示意图； 图2为本发明的反射率测试结果曲线图； 图3为本发明的透射比测试结果曲线图。
【具体实施方式】
[0013] 下面结合附图对本发明进一步描述： 如图1所示的一种对蓝光具有高反射率的光学薄膜，包括透明基板1，其特征在于:在所 述透明基板1上通过磁控瓣射锻膜的方式形成厚度为250nm~750nm的金属锻层，所述金属锻 层为多层的Si锻层、NiCr锻层、MoSi2锻层和Ti锻层交替附着于所述透明基板表面。所述的 金属锻层由基板表面向上依次为:膜厚为45~55nm的Si锻层，膜厚为10~20nm的Ni化锻层，膜 厚为15~25皿的MoSi2锻层，膜厚为45~55皿的Ti锻层。所述Si锻层为2~4层;所述Μ化锻层为 1~3层;所述MoSi2锻层为4~10层;所述Ti锻层为2~4层。
[0014] 所述光学薄膜的磁控瓣射生产工艺，包括如下步骤： 1) 取透明基材，将其放入磁控瓣射设备中；对磁控瓣射设备通气，调整设备腔体内气压 至8.0 xl〇-3Pa; 2) 在磁控瓣射设备中通入氣气与氧气的混合气体，其中氣气为工作气体，氧气为反应 气体，工作压强为4.0~5. Oxl〇-ipa，所述氣气与氧气的流量比为25:1; 3) 通过离子累对基材进行放气处理，并将基材表面打毛W增加锻膜附着力； 4)开启磁控瓣射设备电源，依次进行依次进行Si祀材第一组锻膜、NiCr祀材第二组锻 膜、MoSi2祀材第Ξ组锻膜和Ti祀材第四组锻膜； 所述步骤4中Si祀材第一组锻膜锻层为2~4层，工作参数为:卷绕张力0.6N，卷绕转速 0.5m/min，布气参数:MFCl:Ar(100)，MFC3:Ar(200)，MFC4:Aパ100)，MFC5:Ar(300)MFC16:Ar (300)； 所述步骤4中Ni化祀材第二组锻膜锻层为^3层，工作参数为:卷绕张力0.4N，卷绕转速 O.lm/min，布气参数:NFCl:Ar(100)、NFC4:Ar(100)，NFC5:Ar(300)、NFC12:Ar(300)、NFC13: 02(10)、NFC14:02(80)、NFC15:02(10)、NFC16:Ar(400); 所述步骤4中MoSi2祀材第Ξ组锻膜锻层为4~10层，工作参数为:卷绕张力0.6N，卷绕转 速 0.5m/min，布气参数：NFCl:Ar(100)、NFC4:Ar(100)，NFC5:Ar(300)、NFC12:Ar(300)、 NFC13:02(10)、NFC14:02(80)、NFC15:02(10)、NFC16:Ar(400); 所述步骤4中Ti祀材第四组锻膜锻层为2~4层，工作参数为：卷绕张力IN,卷绕转速 0.1 m/min，布气参数:MFCl:Ar(300)，MFC4:Ar(300)，MFC5:Ar(400)，MFC6:02(10)，MFC7:02 (60)，MFC8:02(10)，MFC16:Ar(300)。
[0015] 5)锻膜完成后，关闭磁控瓣射设备电源，停止通入氣气与氧气的混合气体； 6)在磁控瓣射设备中充气至大气压，溫度降低至室溫，最后取出锻膜基材。
[0016] 按上述工艺完成锻膜后，取光学薄膜样片进行检测，测试结果如下： 检测依据:JJG1034-2008《光谱光度计标准滤光镜》 检测地点:深圳市计量质量检测研究院光学108室 环境条件:溫度24°C，相对湿度69% 表1反射率测试结果
表2透射比测试结果
由测试结果可知，本发明的光学薄膜对波长为420~480nm的蓝光具有高反射率，反射率 达73.32%~88.27%，平均反射率达到83%W上;而对其它波长的可见光具有高透过率，平均透 射比达到82.92〇/〇。
[0017] W上例举仅仅是对本发明的举例说明，并不构成对本发明的保护范围的限制，凡 是与本发明相同或相似的设计均属于本发明的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种对蓝光具有高反射率的光学薄膜，包括透明基板，其特征在于:在所述透明基板 上通过磁控派射镀膜的方式形成厚度为250nm~750nm的金属镀层，所述金属镀层为多层的 Si镀层、NiCr镀层、M〇Si2镀层和Ti镀层交替附着于所述透明基板表面。2. 如权利要求1所述的对蓝光具有高反射率的光学薄膜，其特征在于，所述的金属镀层 由基板表面向上依次为:膜厚为45~55nm的Si镀层，膜厚为10~20nm的NiCr镀层，膜厚为15~ 25nm的MoSi2镀层，膜厚为45~55nm的Ti镀层。3. 如权利要求2所述的对蓝光具有高反射率的光学薄膜，其特征在于:所述Si镀层为2~ 4层;所述NiCr镀层为1~3层;所述MoSi2镀层为4~10层;所述Ti镀层为2~4层。4. 一种光学薄膜的磁控溅射生产工艺，包括如下步骤： 1) 取透明基材，将其放入磁控溅射设备中；对磁控溅射设备通气，调整设备腔体内气压 至8.0xlO-3Pa; 2) 在磁控溅射设备中通入氩气与氧气的混合气体，其中氩气为工作气体，氧气为反应 气体，工作压强为4.0~5.OxH^Pa，所述氩气与氧气的流量比为25:1; 3) 通过离子栗对基材进行放气处理，并将基材表面打毛以增加镀膜附着力； 4) 开启磁控溅射设备电源，依次进行Si靶材第一组镀膜、NiCr靶材第二组镀膜、M〇Si2 靶材第三组镀膜和Ti靶材第四组镀膜； 5) 镀膜完成后，关闭磁控溅射设备电源，停止通入氩气与氧气的混合气体； 6) 在磁控溅射设备中充气至大气压，温度降低至室温，最后取出镀膜基材。5. 如权利要求4所述的生产工艺，其特征在于:所述步骤4中Si靶材第一组镀膜镀层为2 ~4层，工作参数为:卷绕张力0·6N，卷绕转速0·5m/min，布气参数:MFC1:Ar( 100)，MFC3 :Ar (200),MFC4：Ar(100),MFC5：Ar(300)MFC16：Ar(300)； 所述NiCr靶材第二组镀膜镀层为1~3层，工作参数为：卷绕张力0.4N，卷绕转速0 .lm/11^11，布气参数：呖(：1^1(100)、册〇4:厶1(100)，呖〇5 :厶1(300)、呖(：12:厶1(300)、呖(：13:02 (10)、NFC14:02(80)、NFC15:02(10)、NFC16:Ar(400); 所述MoSi2靶材第三组镀膜镀层为4~10层，工作参数为:卷绕张力0.6N，卷绕转速0.5m/ (10)、NFC14:02(80)、NFC15:02(10)、NFC16:Ar(400); 所述Ti靶材第四组镀膜镀层为2~4层，工作参数为:卷绕张力IN，卷绕转速0.lm/min，布 气参数：MFCl:Ar(300)，MFC4:Ar(300)，MFC5:Ar(400)，MFC6:02(10)，MFC7:02(60)，MFC8:02 (10)，MFC16:Ar(300)。
【专利摘要】本发明公开了一种对蓝光具有高反射率的光学薄膜及其生产工艺。所述光学薄膜包括透明基板，在透明基板上通过磁控溅射镀膜的方式形成厚度为250nm~750nm的金属镀层，所述金属镀层由多层的Si镀层、NiCr镀层、MoSi2镀层和Ti镀层交替附着于所述透明基板表面。本发明采用磁控溅射镀膜的方式形成特殊构造的复合金属镀层，对波长为420~480nm的蓝光具有高反射率，平均反射率达到83%以上；而对其它波长的可见光具有高透过率，透射比达到82%以上。
【IPC分类】G02B1/10, G02B5/08
【公开号】CN105487142
【申请号】CN201510990118
【发明人】任永安, 韩毅, 魏东
【申请人】渭南像王光电显示技术开发有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2015年12月28日