。 成像光学部件31中的像场17具有10_ X 10mm的尺寸。
[0087] 基于图5,以下描述成像光学部件37的另一实施例，其可替代成像光学部件16用于 投射曝光设备1中。与以上参照图1和2说明的组件一致的组件具有相同的参考编号，并且不 再讨论。
[0088]包含单独光线20a、20b、20c的成像光路的说明与根据图4的说明一致。
[0089] 在成像光学部件37中，物平面5和像平面18彼此平行。
[0090] 图6和7概述了耦合照明光3的两个基本可能，其中照明光3的入射中心光线13的方 向在照射到掩模母版12上时，与物平面5的法线14形成基本可忽略的角度。图6和7中的成像 光线被标为3'，以允许区分所述成像光3'与照明光3。
[0091] 在根据图6和7的照明示例中，当照明光3由耦合反射镜11反射并照射到掩模母版 12上时，物平面5的法线14与照明光3的光束的入射中心光线13的方向重合。
[0092] 图6示出了当照明光3被耦合以照射到掩模母版12上时的关系，该关系与以上参照 图1至5说明的关系一致。在该情况中，耦合反射镜11布置于成像光3'的光束内部的自由区 域23中。自由区域23中的成像光3 '的辐射束的内部（inner)数值孔径略大于在耦合反射镜 11处反射后照射于掩模母版12上的照明光3的光束的数值孔径。根据图6的成像光学部件具 有像方数值孔径NA' Abb。在根据图6的照明示例中，在耦合反射镜11处反射后照射于掩模母 版12上的照明光3的光束具有小的最大入射角，该最大入射角例如可小于5°、小于4°、小于 3°、小于2°或小于1°。最大入射角为由照明光3的光束的单独光线之一与物平面5的法线14 形成的最大角度。照明光3的光束也可以基本平行的单独光线照射到掩模母版12上。
[0093] 图7示出了与根据图6的照明相反的掩模母版12的另一照明。根据图7的耦合光学 部件的耦合反射镜38(其他方面与上述实施例的耦合反射镜11 一致)具有环形反射表面39 (由图7的插图以示意的平面视图显示）。环形反射表面39围绕耦合反射镜38的内部通孔40。
[0094] 在根据图7的照明示例中，掩模母版12暴露于照明光3的环形（ring-shaped或 annular)光束。照射于親合反射镜38上的照明光3的光束的内部自由区域41具有略大于通 孔40的投射的宽度(从该照明光3的照射光束来看），从而照明光3的光束被耦合反射镜38完 全地反射至掩模母版12。
[0095]可替代上述成像光学系统用于投射曝光设备1中的成像光学部件（图7中未示出） 具有的物方数值孔径略小于限定照明光3的光束的自由区域41的内部边界的边缘光线的物 方数值孔径。成像光3 '的物方数值孔径是如此小，使得成像光3 '可完全通过通孔40，换句话 说，当成像光3 '通过耦合反射镜38的通孔40时，没有成像光3 '的损失。
[0096]在像方，根据图7的成像光学部件也具有数值孔径NA'Abb。
[0097] 在根据例如图6的照明示例中，可以仅使用由掩模母版12(即，要被成像的结构)处 的至少+/-1衍射级产生的成像光3'进行成像。在该情况下，零级衍射因此不用于成像。
[0098] 上述成像光学部件的所有实施例分别具有至少一个P(MH 0.9的反射镜M。
[0099] 通过投射曝光设备1如下制造微结构或纳米结构组件:在第一步中，设置掩模母版 12和晶片19。然后，通过投射曝光设备1将掩模母版12上的结构投射到晶片19上的光敏层。 然后显影光敏层，以形成晶片19上的微结构或纳米结构，从而获得例如以高度集成电路形 式的半导体组件的微结构组件。
【主权项】
1. 用于光刻投射曝光的照明光学部件(7;28)，用于具有小于193nm的波长的照明光(3) 的光束从辐射源（2)向物平面（5)中的物场(4)中的物体（12)的无分束器引导，所述物体 (12)对于所述照明光(3)是反射式的， 其特征在于其被设计为使得对于所述物场(4)的至少一个点，所述照明光(3)的光束至 所述物场(4)的能量加权光线的入射方向（13)与所述物平面(5)的法线（14)构成小于3°的 角度。2. 根据权利要求1所述的照明光学部件，其特征在于:所述照明光（3)的光束至所述物 场(4)的最大入射角小于10°。3. 根据权利要求1所述的照明光学部件，其特征在于：所述照明光学部件在所述物场 (4)之前的照明光路中的最后反射镜(38)包含通孔(40)。4. 根据权利要求1所述的照明光学部件，其特征在于:所述照明光学部件(7)的第一个 反射镜(9)相对于所述照明光(3)的中间聚焦点（8)布置为使得所述中间聚焦点（8)和所述 照明光学部件（7)的所述第一个反射镜（9)之间的所述照明光（3)的光路基本与所述物场 (4)下游的所述照明光(3)的光路平行。5. 根据权利要求1所述的照明光学部件，其特征在于:所述照明光学部件(28)的第一个 反射镜(29)相对于所述照明光(3)的中间聚焦点(8)布置为使得所述中间聚焦点(8)和所述 照明光学部件(28)的所述第一个反射镜(29)之间的所述照明光(3)的光路与所述物场(4) 下游的所述照明光(3)的光束引导垂直。6. 根据权利要求5所述的照明光学部件（28)，其特征在于:所述中间聚焦点（8)和所述 照明光学部件(28)的所述第一个反射镜(29)之间的部分成像光束与所述成像光(3)的光束 交叉。7. 根据权利要求1所述的照明光学部件，其特征在于:所述物平面(5)的法线（14)与所 述照明光(3)的能量加权光线的入射方向（13) -致。8. 照明系统，包含： 用于光刻投射曝光的成像光学部件（16;31;37)，用于通过多个反射镜(Ml至M6)引导具 有小于193nm的波长的成像光（3)的光束，以进行物平面(5)中的物场(4)中的反射式物体 (12)向像平面（18)中的像场（17)的无分束器成像，其中，物场点具有小于3°的主光线角 (α)，并且所述反射镜(Ml至M6)中的至少一个被设计为近场反射镜； 根据权利要求1至3中的一项所述的照明光学部件(7;28)。9. 根据权利要求8所述的照明系统，其特征在于:所述照明光学部件(7;28)的耦合反射 镜（11)经由通孔(22)将所述照明光(3)耦合入所述成像光学部件（16;31;37)的反射镜中的 一个(M2)。10. 根据权利要求8所述的照明系统，其特征在于:所述照明光学部件(7;28)的耦合反 射镜(38)包含所述成像光(3'）在所述成像光学部件的成像光路中通过的通孔(40)。11. 根据权利要求8所述的照明系统，其特征在于:在成像光(3)的光束内部的自由区域 (23)中布置所述照明光学部件(7;28)的耦合反射镜(11)。12. 根据权利要求8所述的照明系统，其特征在于:耦合反射镜（11)具有环形反射表面 (39)〇13. 投射曝光设备（1)，包含： 根据权利要求8至12中的一项所述的照明系统； 用于产生所述照明和成像光(3)的光源(2)。14.制造结构化组件的方法，所述方法包含以下步骤： 设置掩模母版(12)和晶片（19); 通过根据权利要求13的投射曝光设备（1)，将所述掩模母版（12)上的结构投射至所述 晶片（19)的光敏层上； 在所述晶片（19)上产生微结构或纳米结构。
【专利摘要】本发明涉及照明光学部件、照明系统、投射曝光设备以及制造结构化组件的方法。用于光刻投射曝光的照明光学部件(7；28)，用于具有小于193nm的波长的照明光(3)的光束从辐射源(2)向物平面(5)中的物场(4)中的物体(12)的无分束器引导，所述物体(12)对于所述照明光(3)是反射式的，其特征在于其被设计为使得对于所述物场(4)的至少一个点，所述照明光(3)的光束至所述物场(4)的能量加权光线的入射方向(13)与所述物平面(5)的法线(14)构成小于3°的角度。
【IPC分类】G02B17/06, G03F7/20
【公开号】CN105511065
【申请号】CN201610034283
【发明人】H-J.曼, M.恩德雷斯, D.莎弗, B.沃姆, A.赫科默
【申请人】卡尔蔡司Smt有限责任公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2010年12月3日
【公告号】CN102754009A, CN102754009B, EP2513697A2, US20120274917, WO2011073039A2, WO2011073039A3