)的厚度可在4皿到400皿的范围。保护层(19或20)的厚度 可在10皿至Ij400]im的范围。压敏粘合剂的厚度通常在6皿到200皿的范围。
[0044] 所提及的任何层的阻挡属性(强或弱)取决于它们的位置和薄膜分离发生的地方。 [004引微单元壁（Ila)和微单元底部（Ilb)通常是弱阻挡层。运种情况下，至少层（13)、 (17)、（18)和（19)之一必须为强阻挡层，至少层（14)、（15)、（16)和（20)之一也必须为强阻 挡层，W防止流体中的溶剂在分离薄膜之前正常操作期间蒸发。
[0046]然而，当此种薄膜纳入到防伪模块中时，目标是通过拆除薄膜让薄膜在一次使用 后失效。如果薄膜的分离发生在层（1化)和（14)之间，因为层（Ila)和（1化)是弱阻挡层，流 体中的溶剂将会通过层(Ila)和（Ilb)蒸发从而导致薄膜的故障。如果薄膜的分离发生在层 (14)和（15)之间，层（14)必须为弱阻挡层，W便允许溶剂通过层（Ila)、（1化)和（14)蒸发。 如果薄膜的分离发生在层（15)和（16)之间，层（14)和（15)二者都必须为弱阻挡层，W便允 许溶剂通过层（Ila)、（llb)、（14)和（15)蒸发。同样，如果薄膜的分离发生在层（16)和(20) 之间，层（14)、（15)和（16)全部都必须为弱阻挡层。
[0047] 类似地，如果薄膜的分离发生在层（13)和（17)之间，层（13)必须为弱阻挡层，W便 允许溶剂通过层(lla)、（l化)和（13)蒸发。如果分离发生在层(17)和（18)之间，则层（13)和 (17)二者都必须为弱阻挡层，W便允许溶剂通过层（11a)、（Ilb)、（13)和（17)蒸发。如果分 离发生在层（18)和（19)之间，层（13)、（17)和（18)全部都必须为弱阻挡层。
[0048] 微单元分隔壁（Ila)和微单元底层（1化)也可能为强阻挡层。运种情况下，密封层 (13)必须为弱阻挡层。薄膜的分离也可能发生在层（13)和（17)之间，W便允许溶剂通过 (13)蒸发。如果分离不发生在层（13)和（17)之间，剩余的层必须与密封层(13)相邻，并也是 弱阻挡层。例如，如果分离发生在层（17)和（18)之间，则层(13)和（17)二者都必须为弱阻挡 层。
[0049] 用于形成作为弱阻挡层的微单元的适当组成在前面掲示了。美国专利6,831，770 和6,930,818描述了用于形成微单元的适当组成可W包括热塑性(thermoplastic)、热固性 (thermoset)或其前体。热塑性或热固性前体的例子可能是多功能丙締酸醋或甲基丙締酸 醋，多功能乙締酸，多功能环氧化物和低聚物或其聚合物。也可加入交联聚合物赋予柔软 性，例如聚氨醋丙締酸醋或聚醋丙締酸醋，W提高所形成的微单元的耐晓曲性。
[0050] 美国专利7,880,958描述了微单元的组成，其可包括极性低聚物或聚合物材料。此 种极性低聚物或聚合物材料可W从一组包含拥有如下列出的至少一组的低聚物或聚合物 中选择，如硝基(-NO 2)，径基(-OH)，簇基(-C00H)，烷氧基(-OR，而R是烷基），面素(例如， 氣，氯，漠或舰），氯基(-CN)，横酸(-S0 3)和类似物。极性高分子材料的玻璃化转变溫度优 选地在大约100摄氏度W下，并更优选地在大约60摄氏度W下。适合的极性低聚物和聚合物 材料的具体的例子可W包括但不限于多径基官能化聚醋丙締酸醋（如BDE 1025 ,Bomar Specialties Co ,Winsted, CT)或烷氧基化的丙締酸醋，例如乙氧基化的壬基酪丙締酸醋 (例如，SR504，Sartomer Company)，乙氧基化S径甲基丙烷S丙締酸醋（例如，SR9035， Sa;rtome;r Company)或乙氧基化季戊四醇四（例如，SR494,来自Sa;rtome;r Company)。
[0051] 美国专利申请13/686,778公开了另一种形成微单元的组成。该组成包括(a)至少 一种双官能的UV可固化组分(b)至少一种光引发剂，和(C)至少一种脱模剂。合适的双官能 组分可具有高于大于约200的分子量。优选的是双官能丙締酸醋，特别优选的是具有聚氨醋 或乙氧基化骨干的双官能丙締酸醋。更具体地，适合的双官能组分可W包括但不限于二甘 醇二丙締酸醋（例如，来自Sadomer的SR230)，S甘醇二丙締酸醋（例如，来自Sadomer的 SR272)，四甘醇二丙締酸醋（例如，来自Sadomer的SR268)，聚乙二醇二丙締酸醋（例如，来 自 Sartomer的SR295，SR：344或SR610)，聚乙二醇二甲基（例如，来自 Sadomer的SR603， SR644，SR252或SR740)，乙氧基化的双酪A二丙締酸醋（例如，来自Sartomer的CD9038， SR349，SR601 或SR602)，乙氧基化的双酪A二（例如，来自 Sadomer的CD540，CD542，SRlOl， SR150，SR348，SR480或SR541)，和氨基甲酸乙醋二丙締酸醋（例如，来自Sadomer的CN959， CN961 ,CN964 ,CN965，CN980或CN981;来自切tec的化ec巧 1 230，的化ec巧 1270 ,Ebecryl 8402，Ebecryl 8804，Ebecryl 8807或E；bec;ryl 8808)。适合的光引发剂可W包括但不限于 双酷基麟氧化物，2-苄基-2-(二甲基氨基)-1-[4-(4-吗嘟基)苯基]-1-下酬，2,4,6-S甲基 苯甲酯二苯基氧化麟，2-异丙基-9H--thioxanthen-9-酬，4-苄基-4 ' -甲基二苯基硫化物和 1-径基环己基-苯基-酬，2-?基-2-甲基-I-苯基-丙烷-I-酬，1-[4-(2-径基乙氧基）-苯 基]-2-径基-2-甲基1-丙烷-1-酬，2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烧-1-酬或2-甲基-1-[4-(甲硫基）苯基]-2-吗嘟丙-1-酬。适合的脱模剂可W包括但不限于有机改性的硅氧烷聚合 物，如有机娃丙締酸醋(例如，来自切tec的化ercirl 1360或化ec巧1 350)，硅氧烷聚酸(例 如，来自Momentive的Silwet 7200，Silwet 7210，Silwet 7220，Silwet7230，Silwet 7500， Silwet 7600或Silwet 7607)。该组成可W进一步选择性地包括如下一种或更多的组分:共 引发剂、单官能可UV固化组分、多功能UV固化组分或稳定剂。
[0052] 上文提及的所有专利和专利申请的内容通过引用全文纳入于此。
[0053] 如果氣化溶剂被用在该流体中，用于微单元的材料优选地具有氣化官能团，W使 微单元层成为弱阻挡层。
[0054] 用在电泳流体中的适合的溶剂可W是具有良好沸点和粘度的非极性溶剂。对于显 示性能，如切换速度，更低粘性的溶剂是较佳的。优选的非极性溶剂是控类溶剂和氣化溶 剂。优选地，该氣化溶剂有大于50 %重量的氣。
[0055] 该溶剂可W包含共同烧控溶剂，如戊烧，己烧，庚烧，辛烧，壬烧，癸烧，十一烧，十 二烧，十=烧，十四烧，十五烧，十屯烧，十六烧，十八烧，十九烧，异辛烧，异构体或其混合 物。市售的烧溶剂包括但不限于，来自ExxonMobile化emical的Isopar，来自化el 1的 She 11 So 1，来自化evron的So 1 tro 1，来自Total的I sane。常用的氣化溶剂可包括氣化烧控， 氣代酸，氣代胺等。市售的氣化溶剂可包括但不限于来自3M的FC-43，来自Solvay的Galden fIuido
[0056] 共溶剂可被选择性的加入该流体中。合适的共溶剂可包括但不限于，氨化氣化溶 剂，面代烧控等，如来自化Iocarbon Product Co巧oration的面控油。
[0057] 用于该流体的溶剂的选择对于确定显示薄膜中层的阻挡属性至关重要。换句话 说，当不同的溶剂被用在流体中时，层可呈现出不同的阻挡属性。
[0058] 形成微单元的材料(如果为弱阻挡层)通常有类似于在电泳流体中的溶剂的极性， 而强阻挡层有与该溶剂很大不同的极性。
[0059] 例如，如果控类溶剂用在该流体中，微单元应该由疏水材料制备，而强阻挡层应该 由亲水性材料来制备。更具体地，弱阻挡层有类似于电泳流体中烧控溶剂的极性，而强阻挡 层有与烧控溶剂很大不同的极性。例如，如果一种控类溶剂被用在流体中，该弱阻挡层应该 从疏水性物质制备或包含显著量的疏水性官能团或键，而强阻挡层应该从亲水性材料制备 或包含显著量的亲水性官能