一种镀铝分划元件制作方法
【专利摘要】本发明公开一种镀铝分划元件制作方法，该方法的步骤是：S1、将抛光后的玻璃光坯，采用镀铝的工艺方法进行加工，镀铝工艺为：清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—真空度达到—一次镀制铝膜—一次镀制Al2O3—取件—清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—二次镀制铝膜—二次镀制Al2O3—取件—照相复制补镀；两次镀铝膜后铝膜的厚度为1064nm；S2、取20～25质量份数的三氧化铬、35～40质量份数的氟化钠、40质量份数的溴化镉、1质量份数的可溶淀粉和500质量份数的蒸馏水配制玻璃腐蚀液；S3、光刻胶：正性光刻胶；其工艺流程为：涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→腐蚀→清洗→去胶→检验零件技术要求→转下道工序；在腐蚀工序中，用玻璃腐蚀液进行腐蚀。
【专利说明】
一种镀铝分划元件制作方法
技术领域
[0001] 本发明属于光学设备元件的制备技术领域，具体地说涉及一种镀铝分划元件制作 方法。
【背景技术】
[0002] 在我公司的一种光学产品中要用到一种分划板，在装配调试过程中屡次出现分划 铬层和玻璃基底被激光打坏的现象。该产品要求激光光束(能量约为800瓦，波长为1064nm) 聚焦在分划面上，因此分划面膜层需要有一定的抗激光损伤的能力。
[0003] 该零件是镀铬分划板，铬膜密度要求不低于23号密度样板，23号密度的铬膜，在 1064nm处的反射率R为40%左右，透过率T几乎为零，那么吸收率,即达到了 60% 左右，膜层在吸收率高的情况下，其抗激光损伤能力一定很差，不适合用作激光环境中。
【发明内容】
[0004] 本发明的目的在于针对上述现有技术的缺陷，提高昼夜两用分划元件的的线条质 量、分划精度和加工效率。克服机械刻度法制造昼夜两用分划元件存在的分划线条质量差、 分划精度不高以及加工效率低的问题。
[0005] 为了实现上述目的，本发明的技术方案是： 一种镀铝分划元件制作方法，该镀铝分划元件制作方法的步骤是： 51、 将抛光后的玻璃光坯，采用镀铝的工艺方法进行加工，镀铝工艺为:清扫真空室一 装填膜料一清擦基片一加热一保温一预熔膜料一真空度达到一一次镀制铝膜一一次镀制 A1 203-取件一清扫真空室一装填膜料一清擦基片一加热一保温一预熔膜料一二次镀制铝 膜一二次镀制A1 203-取件一(照相复制后)补镀;两次镀铝膜后铝膜的厚度为1064nm; 52、 取20~25质量份数的三氧化铬、35~40质量份数的氟化钠、40质量份数的溴化镉、1 质量份数的可溶淀粉和500质量份数的蒸馏水配制玻璃腐蚀液； 53、 光刻胶:正性光刻胶;其工艺流程为:涂胶-前烘-曝光-中烘-显影-后烘-腐 蚀-清洗-去胶-检验零件技术要求-转下道工序;在腐蚀工序中，用玻璃腐蚀液进行腐 蚀。
[0006] 作为对上述技术方案的改进，工艺过程中控制环境温度为22 °C~26 °C，相对湿度 为360%~70%，洁净度6级。
[0007] 与现有技术相比，本发明所取得有改进和有益效果是： 使用本发明的镀铝分划元件制作方法，所制造的镀铝分划元件达到如下指标:分划图 案线条整齐，经检测，分划图案(暗背景，亮分划)指标达到:错层密度不低于23号光密度样 板，亥_宽度精度达到〇. 03 ± 0.005，图中亮孔尺寸精度巾0.013±0.002。
[0008] 该方法解决了镀铬分划板易被激光打坏的难题，在玻璃光坯上制作出的铝层分划 图案，满足产品的使用要求。
[0009] 该方法对分划元件的制作具有很好的推广应用价值。可广泛应用于光学仪器镀铝 分划元件的加工。
【附图说明】
[0010] 图1为本发明的工艺流程图。
【具体实施方式】
[0011] 下面结合附图和【具体实施方式】对本发明技术作进一步详细说明。
[0012] 如图1所示，本发明的镀铝分划元件制作方法，该镀铝分划元件制作方法的步骤 是： 51、 将抛光后的玻璃光坯，采用镀铝的工艺方法进行加工，镀铝工艺为:清扫真空室一 装填膜料一清擦基片一加热一保温一预熔膜料一真空度达到一一次镀制铝膜一一次镀制 Al 2〇3-取件一清扫真空室一装填膜料一清擦基片一加热一保温一预熔膜料一二次镀制铝 膜一二次镀制Al 2〇3-取件一(照相复制后)补镀;两次镀铝膜后铝膜的厚度为1064nm; 52、 取20~25质量份数的三氧化铬、35~40质量份数的氟化钠、40质量份数的溴化镉、1 质量份数的可溶淀粉和500质量份数的蒸馏水配制玻璃腐蚀液； 53、 光刻胶:正性光刻胶;其工艺流程为:涂胶-前烘-曝光-中烘-显影-后烘-腐 蚀-清洗-去胶-检验零件技术要求-转下道工序;在腐蚀工序中，用玻璃腐蚀液进行腐 蚀。
[0013]镀铝工艺方法:错膜在l〇64nm激光点处的反射率高于80%，因此吸收率较低，且性 能稳定，在铝膜上制作分划图案，既能保证分划板的功用，又有抗激光(能量约为800瓦，波 长为1064nm)光束损伤能力。通过采用两次镀制铝膜+氧化铝保护层的办法，有效的解决了 针孔问题。
[0014]玻璃腐蚀液： 以质量份数计的配方为:三氧化铬20~25、氟化钠35~40、溴化镉40、可溶淀粉1、蒸馏 水500。
[0015]三氧化铬主要作氧化剂，把铝氧化成三价铝。
[0016] 2Al+Cr03=Al2〇3+Cr 氟化钠主要作铬合剂，铝被氧化成三价铝后与氟离子结合有利于反应向右进行:Al3+ +6F-=(A1F6)3- 溴化镉主要作为去极化剂，主要是消除原电池和电解里面对电极的影响，就是三氧化 铬和铝可以形成好多微型的原电池(原电池作用），加速铝和三氧化铬的氧化还原。
[0017]淀粉主要作增稠剂和粘合剂，使液体具有粘性，从而不会从腐蚀的地方流下来。
[0018] 在工艺过程中控制环境温度为22°C~26°C，相对湿度为360%~70%，洁净度6级。
[0019] 使用本发明的镀铝分划元件制作方法，所制造的镀铝分划元件达到如下指标:分 划图案线条整齐，经检测，分划图案(暗背景，亮分划）指标达到:错层密度不低于23号光密 度样板，刻线宽度精度达到〇. 03 ± 0.005，图中亮孔尺寸精度巾0.013±0.002。
[0020] 该方法解决了镀铬分划板易被激光打坏的难题，在玻璃光坯上制作出的铝层分划 图案，满足产品的使用要求。
[0021] 该方法对分划元件的制作具有很好的推广应用价值。可广泛应用于光学仪器镀铝 分划元件的加工。
[0022] 实施例1: 口径为巾43mm，中心厚度为4mm的平凸透镜分划板，在玻璃光坯的平面上 镀上铝膜后，涂正性光刻胶，放入烘箱进行前烘后取出，暗室自然冷却，曝光，放入烘箱进行 中烘，暗室自然冷却，然后放入显影液显影后，进行后烘，暗室自然冷却，再放入腐蚀液，清 洗零件，去胶，检验图形、指标符合要求，转下一道工序真空镀膜。
[0023] 以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精 神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种镀铝分划元件制作方法，其特征在于:该镀铝分划元件制作方法的步骤是： 51、 将抛光后的玻璃光坯，采用镀铝的工艺方法进行加工，镀铝工艺为:清扫真空室一 装填膜料一清擦基片一加热一保温一预熔膜料一真空度达到一一次镀制铝膜一一次镀制 Al2O3-取件一清扫真空室一装填膜料一清擦基片一加热一保温一预熔膜料一二次镀制铝 膜一二次镀制Al 2O3-取件一照相复制补镀;两次镀铝膜后铝膜的厚度为1064nm; 52、 取20~2 5质量份数的三氧化铬、35~40质量份数的氟化钠、40质量份数的溴化镉、1 质量份数的可溶淀粉和500质量份数的蒸馏水配制玻璃腐蚀液； 53、 光刻胶:正性光刻胶;其工艺流程为:涂胶-前烘-曝光-中烘-显影-后烘-腐 蚀-清洗-去胶-检验零件技术要求-转下道工序;在腐蚀工序中，用玻璃腐蚀液进行腐 蚀。2. 根据权利要求1所述的镀铝分划元件制作方法，其特征在于:工艺过程中控制环境温 度为22 °C~26 °C，相对湿度为360%~70%，洁净度6级。
【文档编号】G02B27/32GK105892084SQ201610444429
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年6月21日
【发明人】陈俊霞, 张勇, 苏颖, 龚涛, 张金豹, 王苗苗, 耿浩, 宫秋生, 吕红伟
【申请人】河南平原光电有限公司