电子照相感光体、处理盒和成像装置的制造方法

电子照相感光体、处理盒和成像装置的制造方法
【专利摘要】一种电子照相感光体、处理盒和成像装置，该电子照相感光体包括：导电性基体和单层型感光层，该感光层包含粘结剂树脂、电荷产生材料、空穴传输材料和电子传输材料，其中感光层中的电荷产生材料的含量为0.5重量％以上且小于2.0重量％，并且电荷产生材料满足表达式(1)：30≤a/b，其中a表示在从感光层的膜厚度的表面侧至对应于膜厚度1/3的点的区域中，每单位截面积的电荷产生材料的数目，并且b表示在从感光层的膜厚度的导电性基体侧至对应于膜厚度的2/3的位置的区域中，每单位截面积的电荷产生材料的数目，条件是包括b为0的情况。
【专利说明】
电子照相感光体、处理盒和成像装置
技术领域
[0001] 本发明涉及电子照相感光体、处理盒和成像装置。
【背景技术】
[0002] 在现有技术的电子照相系统的成像装置中，通过充电、形成静电潜像、显影和转印 工序将形成于电子照相感光体表面上的调色剂图像转印到记录介质上。
[0003] 例如，通过组合具有特定结构的材料而具有高灵敏度和优异品质的单层型电子照 相感光体是已知的（参见专利文献1至4)。
[0004] 此外，专利文献5公开了一种电子照相用的带正电的有机分散型感光体，其为电 子照相用的带正电的有机感光体，具有至少两个感光度不同的感光层。
[0005] [专利文献 1] JP-A-2013-231867
[0006] [专利文献 2] JP-A-2012-247614
[0007] [专利文献 3] JP-A-2〇l2_247498
[0008] [专利文献 4] JP-A-2〇l2_247497
[0009] [专利文献 5] JP-A-2002-139851

【发明内容】

[0010] 本发明的目的是提供一种带正电的有机感光体，其包括单层型感光层，与其中表 示电荷产生材料在感光层的膜厚度方向上的分布的表达式a/b小于30的情况相比，即使当 感光层中的电荷产生材料的含量为〇. 5重量％以上且小于2. 0重量％时，该感光体仍是具 有高充电性和高灵敏度的电子照相感光体。
[0011] 上述目的通过以下构造而得以实现。
[0012] 根据本发明的第一方面，提供了一种电子照相感光体，包括：
[0013] 导电性基体；以及
[0014] 单层型感光层，其设置在所述导电性基体上，并且包含粘结剂树脂、电荷产生材 料、空穴传输材料和电子传输材料，
[0015] 其中感光层中的电荷产生材料的含量为0. 5重量％以上且小于2. 0重量％，并 且关于电荷产生材料在感光层的膜厚度方向上的分布，该电荷产生材料满足以下表达式 (1)：
[0016] 表达式（1) :30 < a/b
[0017] 其中a表示在从感光层的膜厚度的表面侧至对应于膜厚度1/3的点的区域中，每 单位截面积的电荷产生材料的数目，并且b表示在从感光层的膜厚度的导电性基体侧至对 应于膜厚度的2/3的位置的区域中，每单位截面积的电荷产生材料的数目，条件是也包括b 为〇的情况。
[0018] 根据本发明的第二方面，在根据第一方面所述的电子照相感光体中，b为0。
[0019] 根据本发明的第三方面，在根据第一方面所述的电子照相感光体中，b大于0。
[0020] 根据本发明的第四方面，在根据第一方面所述的电子照相感光体中，电荷产生材 料相对于粘结剂树脂的含量为2重量％至10重量％。
[0021] 根据本发明的第五方面，在根据第一方面所述的电子照相感光体中，电荷产生材 料相对于感光层整体的含量为〇. 7重量％至1. 7重量％。
[0022] 根据本发明的第六方面，在根据第一方面所述的电子照相感光体中，电荷产生材 料相对于感光层整体的含量为〇. 9重量％至1. 5重量％。
[0023] 根据本发明的第七方面，提供了一种处理盒，包括：
[0024] 根据第一至第六方面中任一方面所述的电子照相感光体，
[0025] 其中所述处理盒可从成像装置中拆卸下来。
[0026] 根据本发明的第八方面，提供了一种成像装置，包括：
[0027] 根据第一至第六方面中任一方面所述的电子照相感光体；
[0028] 充电单元，其对电子照相感光体的表面进行充电；
[0029] 静电潜像形成单元，其在已经带电的电子照相感光体的表面上形成静电潜像；
[0030] 显影单元，其利用包含调色剂的显影剂将形成于电子照相感光体表面上的静电潜 像显影，以形成调色剂图像；以及
[0031] 转印单元，其将调色剂图像转印到记录介质的表面。
[0032] 根据本发明的第一至第六方面中的任一方面，提供了一种具有单层型感光层的带 正电的有机电子照相感光体，与其中表示电荷产生材料在感光层的膜厚度方向上的分布的 表达式a/b小于30的情况相比，即使当感光层中的电荷产生材料的含量为0. 5重量％以上 且小于2. 0重量％时，该感光体仍具有高充电性和高灵敏度。
[0033] 根据本发明的第七或第八方面，提供了一种处理盒或成像装置，其设置有具有单 层型感光层的带正电的有机电子照相感光体，与其中表示电荷产生材料在感光层的膜厚度 方向上的分布的表达式a/b小于30的情况相比，即使当感光层中的电荷产生材料的含量为 0. 5重量％以上且小于2. 0重量％时，该感光体仍具有高充电性和高灵敏度。
[0034] 附图简要说明
[0035] 将基于下述附图对本发明的示例性实施方案进行详细说明，其中：
[0036] 图1是示出根据示例性实施方案的电子照相感光体的示意性部分截面图；
[0037] 图2A是示出通过喷墨涂布法由液滴排出部喷出而落下的部分液滴的重叠状态的 示意图，并且图2B为示出液滴排出部相对于导电性基体的倾斜状态的示意图；
[0038] 图3为示出通过喷墨涂布法形成感光层的方法例子的示意图；
[0039] 图4为示出根据示例性实施方案的成像装置的示意性结构图；以及
[0040] 图5为示出根据另一示例性实施方案的成像装置的示意性结构图。
【具体实施方式】
[0041] 下面将详细说明作为本发明的例子的示例性实施方案。
[0042] 电子照相感光体
[0043] 根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体（下文有时称为"感光体"）为带正 电的有机感光体（下文有时称为"单层型感光体"），其具有导电性基体和位于导电性基体 上的单层型感光层。
[0044] 此外，单层型感光层（下文有时简称为"感光层"）包括粘结剂树脂、电荷产生材 料、空穴传输材料和电子传输材料。此外，电荷产生材料在感光层中的含量为0. 5重量％以 上且小于2. 0重量％，并且其分布被构造为在膜厚度方向上满足下述表达式（1)。
[0045] 表达式（1) :30 彡 a/b
[0046] 在式（1)中，a表示在从感光层的膜厚度的表面侧至对应于膜厚度1/3的点的区 域中，每单位截面积的电荷产生材料的数目，并且b表示在从感光层的膜厚度的导电性基 体侧至对应于膜厚度的2/3的位置的区域中，每单位截面积的电荷产生材料的数目，条件 是包括b为0的情况。
[0047] 此外，单层型感光层为具有电荷产生能力以及空穴传输性质和电子传输性质的感 光层。
[0048] 在根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体中，电荷产生材料的"在感光层 中的含量"表示相对于感光层整体的含量。
[0049] "从感光层的膜厚度的表面侧至对应于膜厚度1/3的点的区域"表示从感光层的最 外表面朝向导电性基体直至对应于感光层的膜厚度1/3的位置的区域。
[0050] "从感光层的膜厚度的导电性基体侧至对应于膜厚度的2/3的位置的区域"表示在 感光层的膜厚度方向上，从导电性基体侧朝向最外表面侧直至对应于膜厚度的2/3的位置 的区域，即，排除掉从感光层的最外表面侧朝向导电性基体直至对应于膜厚度的1/3的位 置的区域后的区域。
[0051] "每单位截面积的电荷产生材料的数目"表示当观察感光层的膜厚度的截面时，在 截面中存在的电荷产生材料的数目，以每平方微米（ym 2)的材料数为单位来表示。
[0052] 这里，在现有技术中，从制造成本等观点考虑，作为电子照相感光体，单层型感光 体是优选的。
[0053] 单层型感光体被构造为在单层型感光层中包括电荷产生材料、空穴传输材料和电 子传输材料，并在同一层中发挥充电功能和感光度表现功能。另一方面，可以将具有层叠型 感光层的有机感光体（下文称为"层叠型感光体"）根据功能特定化从而分别发挥充电功能 和感光度表现功能。因此，原则上讲，就充电性和感光度而言，难以获得至少等同于层叠型 感光体的那些性质的性质。
[0054] 相反，对于根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体，通过采用上述构造， 即，通过控制电荷产生材料在感光层的膜厚度方向上的分布，可以获得具有高充电性和高 灵敏度的电子照相感光体。其原因尚不清楚，但据推测如下。
[0055] 在单层型感光体中，对于充电性而言，优选的是在暗条件下在感光层中不产生过 量的电荷（热激发载流子）。为了防止在感光层中生成热激发载流子，通过降低电荷产生材 料的含量可以容易地确保达到这种防止作用。
[0056] 需要充足的电荷生成量、空穴传输能力和电子传输能力以获得感光度。例如，当增 加电荷产生材料的含量时（例如增加至2.0重量％以上），易于提高感光度。然而，当电荷 产生材料的含量增加太多时，充电性容易降低，因此，优选少量的电荷产生材料。另一方面， 当电荷产生材料的含量降低太多时，感光度容易降低。例如，在感光层中的电荷产生材料的 含量为0. 5重量％以上且小于2. 0重量％的情况下，难以获得同时具有高充电性和高灵敏 度的感光体。
[0057] 由于通常已知的具有最高电子传输能力的电子传输材料的输送能力是空穴传输 材料的空穴传输能力的数十分之一，因此感光层中电子传输能力低于空穴传输能力。结果， 据认为，为了进一步提高单层型感光体中的感光度的性能，需要缩短电子的输送距离。
[0058] 在单层型感光体中如果用光照射感光层，则电荷产生材料吸收光从而生成电荷， 因此，电荷更易于在感光层的表面侧上的区域中生成。此外，如果电荷容易生成的话，则可 以缩短电子的输送距离。据认为，当电子的输送距离缩短时，电子传输能力提高并因而可以 提高感光度。
[0059] 结果，在根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体中，通过使得电荷产生材 料不均匀地分布于单层型感光层的表面侧上的区域中，可以更有效地发挥电荷产生材料的 感光度表现功能。即，据推测，通过增加单层型感光层所包含的电荷产生材料在从感光层的 表面侧至对应于1/3的位置的区域中的含量，即使当单层型感光层整体中的电荷产生材料 的含量为〇. 5重量％以上且小于2. 0重量％时，也可以获得具有高充电性和高灵敏度的电 子照相感光体。
[0060] 另外，由于可通过根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体获得具有高充电 性和高灵敏度的电子照相感光体，因此即使在长期使用情况下也可以抑制电特性的变化。
[0061] 下文将参照附图对根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体进行说明。
[0062] 图1示意性地示出了根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体10的一部分 的截面图。
[0063] 图1中示出的电子照相感光体10被构造为具有（例如）导电性基体3、然后依次 位于导电性基体3上的底涂层1和单层型感光层2。
[0064] 此外，底涂层1是根据需要设置的层。即，单层型感光层2可以直接设置在导电性 基体3上，或隔着底涂层1设置于其上。
[0065] 此外，还可以设置其它层。具体来说，例如，根据需要可以在单层型感光层2上设 置保护层。
[0066] 下文将对根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体的各个部件进行详细说 明。此外，省略符号进行说明。
[0067] 导电性基体
[0068] 导电性基体的例子包括使用了金属（如铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金和铂）及其 合金（如不锈钢）的金属板、金属鼓和金属带。此外，导电性基体的其它例子包括涂覆、沉 积或层合有导电性化合物（如导电性聚合物和氧化铟）、金属（如铝、钯和金）或其合金的 纸张、树脂膜和带。术语"导电性"是指体积电阻率小于l〇 13Qcm。
[0069] 当在激光打印机中使用电子照相感光体时，为了防止在用激光照射时形成的干涉 条纹，优选将导电性基体的表面粗糙化使之具有〇. 04 y m至0. 5 y m的中心线平均粗糙度 (Ra)。此外，当将非相干光用作光源时，用于防止干涉条纹的表面粗糙化并没有特别的必要 性，但是由于抑制了由导电性基体表面上的凹凸不平引起的缺陷的产生，因而适于实现更 长的使用寿命。
[0070] 用于表面粗糙化的方法的例子包括将悬浮于水中的研磨剂吹至导电性基体上的 湿式珩磨、通过将导电性基体按压在旋转的磨石上从而进行连续磨削的无心磨削、以及阳 极氧化处理。
[0071] 用于表面粗糙化的方法的其它例子包括：通过在导电性基体的表面上形成其中分 散有导电性或半导电性颗粒的树脂层，从而通过分散在该层中的颗粒实现表面粗糙化，而 不将导电性基体的表面粗糙化的表面粗糙化方法。
[0072] 在通过阳极氧化进行的表面粗糙化处理中，通过其中金属（例如铝）导电性基体 作为阳极在电解液中被阳极氧化的阳极氧化处理，从而在导电性基体的表面上形成氧化 膜。电解液的例子包括硫酸溶液和草酸溶液。然而，通过阳极氧化而没有加以改性所形成 的多孔阳极氧化膜是化学活性的，易于被污染，根据环境的不同电阻变化大。因此，优选进 行密封处理，在该密封处理中，在加压水蒸汽或沸水中（其中可以加入金属盐如镍盐）通过 由水合反应引起的体积膨胀来密封阳极氧化膜的细孔，从而将阳极氧化物转化为更稳定的 水合氧化物。
[0073] 阳极氧化膜的膜厚优选为0. 3 ym至15 ym。当阳极氧化膜的厚度在上述范围内 时，趋向于发挥对于注入的阻挡性，并且趋向于抑制由于重复使用而引起的残留电势的增 加。
[0074] 可以对导电性基体进行使用了酸性水溶液的处理或勃姆石处理。
[0075] 利用酸性处理液的处理如下进行。首先，制备包含磷酸、铬酸和氢氟酸的酸性处理 液。酸性处理液中磷酸、铬酸和氢氟酸的混合比（例如）为10重量％至11重量％的磷酸、 3重量％至5重量％的铬酸和0. 5重量％至2重量％的氢氟酸。酸性成分的总浓度优选为 13. 5重量％至18重量％的范围。处理温度优选为（例如）42°C至48°C。膜的膜厚优选为 0? 3 y m 至 15 y m〇
[0076] 勃姆石处理是这样进行的：将基体浸没在温度为90°C至100°C的纯水中5分钟至 60分钟，或者使基体与温度为90°C至120°C的热水蒸汽接触5分钟至60分钟。膜厚度优选 为0. 1 ym至5 ym。可以使用对膜溶解性低的电解液（例如己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、 邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐和柠檬酸盐溶液）对膜进一步进行阳极氧化 处理。
[0077] 底涂层
[0078] 底涂层为（例如）包括无机颗粒和粘结剂树脂的层。
[0079] 无机颗粒的例子包括粉末电阻（体积电阻率）约为102 Q ? cm至1011 Q ? cm的无 机颗粒。
[0080] 其中，作为具有上述电阻值的无机颗粒，优选诸如氧化锡颗粒、氧化钛颗粒、氧化 锌颗粒、和氧化锆颗粒之类的无机颗粒，更优选氧化锌颗粒。
[0081] 通过BET法测定的无机颗粒的比表面积优选为（例如）10m2/g以上。
[0082] 无机颗粒的体积平均粒径优选为（例如）50nm至2000nm(更优选60nm至lOOOnm)。
[0083] 无机颗粒相对于粘结剂树脂的含量优选为（例如）10重量％至80重量％，更优选 为40重量％至80重量％。
[0084] 无机颗粒可以是经过表面处理的无机颗粒。可以组合使用两种或更多种经过不同 的表面处理或具有不同粒径的无机颗粒。
[0085] 表面处理剂的例子包括硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝偶联剂和表面活性剂。硅烷 偶联剂是特别优选的，并且具有氨基的硅烷偶联剂是更优选的。
[0086] 具有氨基的硅烷偶联剂的例子包括3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2_(氨基乙 基）-3_氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基）-3_氨基丙基甲基二甲氧基硅烷和 N，N-双（2-羟乙基）-3-氨基丙基三乙氧基硅烷，但不限于此。
[0087] 可使用这些硅烷偶联剂中的两种或多种的混合物。例如，具有氣基的硅烷偶联 剂可与另外的硅烷偶联剂组合使用。硅烷偶联剂的其它例子包括：乙烯基三甲氧基硅烷、 3-甲基丙烯酰氧基丙基-三（2-甲氧基乙氧基）硅烷、2-(3, 4-环氧环己基）乙基三甲氧 基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧 基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基）-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨 基乙基）-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N，N-双（2-羟乙基）-3-氨基丙基三乙氧基硅烷 和3-氯丙基三甲氧基硅烷，但不限于此。
[0088] 使用表面处理剂进行表面处理的方法可为已知方法中的任意一种方法，并且可以 是干法或湿法。
[0089] 用于处理的表面处理剂相对于无机颗粒的量优选为（例如）0. 5重量％至10重 量％。
[0090] 这里，从电特性的长期稳定性和载流子阻挡性（carrier blocking properties) 优异的角度考虑，底涂层中优选包含无机颗粒和电子受体化合物（受体化合物）。
[0091] 电子受体化合物的例子包括电子传输材料，包括（例如）：醌类化合物，如 四氯苯醌和四溴苯醌；四氰基醌二甲烷化合物；芴酮类化合物，如2, 4, 7-三硝基芴酮 和2,4,5,7-四硝基-9-芴酮；噁二唑类化合物，如2-(4-联苯基）-5-(4-叔丁基苯 基）-1，3, 4-噁二唑、2, 5-双（4-萘基）-1，3, 4-噁二唑以及2, 5-双（4-二乙基氨基 苯基）-1，3, 4-噁二唑；氧杂蒽酮类化合物；噻吩类化合物；以及联苯醌类化合物，如 3, 3'，5, 5'-四叔丁基联苯醌。
[0092] 特别是，作为电子受体化合物，具有蒽醌结构的化合物是优选的。作为具有蒽醌结 构的电子受体化合物，优选羟基蒽醌类化合物、氨基蒽醌类化合物和氨基羟基蒽醌类化合 物等，并且蒽醌、1，2-二羟基蒽醌、1，4-二羟基蒽醌、1，5-二羟基蒽醌和1，2, 4-三羟基蒽醌 是特别优选的。
[0093] 电子受体化合物可与无机颗粒一起分散包含在底涂层中，或可以附着在无机颗粒 的表面而被包含在底涂层中。
[0094] 将电子受体化合物附着至无机颗粒表面的方法的例子包括干法和湿法。
[0095] 干法为这样一种将电子受体化合物附着至无机颗粒表面的方法，其中在用具有高 剪切力的混合机等搅拌无机颗粒的同时，直接或以电子受体化合物溶解于有机溶剂中的溶 液的形式将电子受体化合物滴加到无机颗粒上，或将其与干燥空气或氮气一起喷到无机颗 粒上。电子受体化合物的滴加或喷雾优选在不高于溶剂沸点的温度下进行。在将电子受体 化合物滴加或喷雾后，可以进一步对无机颗粒在l〇〇°C以上的温度下进行烘烤。烘烤可以在 能够获得所需的电子照相特性的任意温度和时间下进行，而没有限制。
[0096] 湿法为这样一种将电子受体化合物附着到无机颗粒表面的方法，其中利用搅拌、 超声波、砂磨机、碾磨机、球磨机等将无机颗粒分散于溶剂中，之后添加电子受体化合物，并 进一步搅拌或分散混合物，之后除去溶剂。作为除去溶剂的方法，通过过滤或蒸馏来除去溶 剂。在除去溶剂后，可以进一步对颗粒在l〇〇°C以上的温度下进行烘烤。烘烤可以在能够获 得所需的电子照相特性的任意温度和时间下进行，而没有限制。在湿法中，可以在添加表面 处理剂之前除去无机颗粒中所含的水分，并且除去水分的方法的例子包括通过搅拌加热溶 剂中的无机颗粒来除去水分的方法、或通过与溶剂共沸来除去水分的方法。
[0097] 此外，可以在使用表面处理剂对无机颗粒进行表面处理之前或之后进行电子受体 化合物的附着，电子受体化合物的附着也可以与利用表面处理剂进行的表面处理同时进 行。
[0098] 电子受体化合物相对于无机颗粒的含量优选为（例如）0. 01重量％至20重量％， 更优选为〇.〇1重量％至10重量％。
[0099] 底涂层中使用的粘结剂树脂的例子包括已知材料，包括（例如）已知的高分子化 合物如缩醛树脂（如聚乙烯醇缩丁醛）、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚 酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚醚树脂、甲基丙烯酸树脂、丙 烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅 树脂、有机硅-醇酸树脂、脲醛树脂、酚树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸乙酯树脂、 醇酸树脂和环氧树脂；锆螯合物；钛螯合物；铝螯合物；钛醇盐化合物；有机钛化合物；以 及硅烷偶联剂。
[0100] 底涂层中所用的粘结剂树脂的其它例子包括具有电荷输送基团的电荷输送树脂 和导电性树脂（例如聚苯胺）。
[0101] 其中，不溶于上层的涂布溶剂的树脂适合作为底涂层中所用的粘结剂树脂，并且 特别合适的是：通过热固性树脂反应而得到的树脂，所述热固性树脂例如为脲醛树脂、酚树 月旨、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸乙酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂和环氧树脂； 以及通过使选自由聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯 醇树脂以及聚乙烯醇缩醛树脂构成的组中的至少一种树脂与固化剂反应而得到的树脂。
[0102] 在这些粘结剂树脂以两种或更多种组合使用的情况下，混合比例酌情而定。
[0103] 可以在底涂层中加入各种添加剂以提高电特性、环境稳定性或图像质量。
[0104] 添加剂的例子包括已知的材料，例如，多环缩合型或偶氮型电子传输颜料、锆螯合 物、钛螯合物、铝螯合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物和硅烷偶联剂。还可以将用于上述无 机颗粒的表面处理的硅烷偶联剂加入到底涂层中作为添加剂。
[0105] 作为添加剂的硅烷偶联剂的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙 基-三（2-甲氧基乙氧基）硅烷、2-(3, 4-环氧环己基）乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧 基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三 乙氧基硅烷、N_2_(氛乙基）_3_氛基丙基二甲氧基硅烷、N_2_(氛乙基）_3_氛基丙基甲基 甲氧基硅烷、N，N-双（2-羟乙基）-3-氨基丙基三乙氧基硅烷和3-氯丙基三甲氧基硅烷。
[0106] 锆螯合物的例子包括丁醇锆、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮丁醇锆、乙 酰乙酸乙酯丁醇锆、醋酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、十二酸锆、硬脂酸 锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸丁醇锆、硬脂酸丁醇锆和异硬脂酸丁醇锆。
[0107] 钛螯合物的例子包括钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚物、四（2-乙基 己基）钛酸酯、乙酰丙酮钛、聚乙酰丙酮钛、辛二醇钛、乳酸钛的铵盐、乳酸钛、乳酸钛的乙 基酯、三乙醇胺钛和聚硬脂酸羟基钛。
[0108] 铝螯合物的例子包括异丙醇铝、二异丙醇单丁氧基铝、丁醇铝、二乙基乙酰乙酸二 异丙醇铝和三（乙基乙酰乙酸）铝。
[0109] 这些添加剂可以单独使用，或作为两种或更多种添加剂的混合物或缩聚物使用。
[0110] 底涂层的维氏硬度优选为35以上。
[0111] 将底涂层的表面粗糙度（微观不平度十点高度（ten point height of irregularities))调节在（l/(4n)) A至（1/2) A的范围内，以抑制莫尔图像（moire image)，其中A表示用于曝光的激光的波长，n表示上层的折射率。
[0112] 为了调节表面粗糙度，可以将树脂颗粒等加入到底涂层中。树脂颗粒的例子包括 有机硅树脂颗粒和交联聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒。另外，为了调节表面粗糙度，可以对底 涂层的表面进行抛光。抛光方法的例子包括磨光（buffing)、研磨（grinding)、喷砂处理、 湿式I行磨、磨削处理（grinding treatment)。
[0113] 对底涂层的形成没有特别限制，使用那些已知的形成方法。然而，例如，底涂层的 形成通过以下方式来进行：使底涂层形成用涂布液（该涂布液是通过将上述组分加入到溶 剂中而获得的）形成涂膜，并干燥涂膜，之后根据需要进行加热。
[0114] 用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂的例子包括醇溶剂、芳族烃溶剂、卤代烃溶 剂、酮溶剂、酮醇溶剂、醚溶剂和酯溶剂。
[0115] 这些溶剂的具体例子包括常见的有机溶剂，如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁 醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲乙酮、环己酮、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丁 酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。
[0116] 在底涂层形成用涂布液的制备中用于分散无机颗粒的方法的例子包括已知的方 法，例如使用辊磨机、球磨机、振动式球磨机、碾磨机、砂磨机、胶体磨和涂料振动器等的方 法。
[0117] 此外，用于将底涂层形成用涂布液涂布到导电性基体上的方法包括常规的方法， 例如刮涂法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法和帘涂法。
[0118] 底涂层的膜厚度优选设定为（例如）15 ym以上的范围，更优选20 ym至50 ym。
[0119] 中间层
[0120] 尽管未在图中示出，但是可以在底涂层和感光层之间设置中间层。
[0121] 中间层为（例如）包括树脂的层。中间层中所用的树脂的例子包括诸如缩醛树脂 (如聚乙烯醇缩丁醛）、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维 素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸 乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、有机硅-醇酸树脂、酚醛树 脂和三聚氰胺树脂等高分子化合物。
[0122] 中间层可以是包括有机金属化合物的层。中间层中所用的有机金属化合物的例子 包括含有诸如锆、钛、铝、锰和硅等金属原子的有机金属化合物。
[0123] 中间层中所用的这些化合物可以单独使用，或者作为多种化合物的混合物或缩聚 物使用。
[0124] 其中，包含含有锆原子或硅原子的有机金属化合物的层是优选的。
[0125] 对中间层的形成没有特别限定，使用那些已知的形成方法。然而，例如，中间层的 形成通过以下方式来进行：使中间层形成用涂布液（所述涂布液是通过将上述组分加入到 溶剂中而获得的）形成涂膜，并干燥涂膜，之后根据需要进行加热。
[0126] 作为用于形成中间层的涂布方法，可使用常规的方法，例如浸涂法、挤出涂布法、 线棒涂布法、喷涂法、刮涂法、刀片涂布法和帘涂法。
[0127] 中间层的膜厚度优选设定为（例如）0? 1 ym至3 ym的范围。此外，可以将中间层 用作底涂层。
[0128] 单层型感光层
[0129] 在本发明示例性实施方案的单层型感光层中，单层型感光层中所含的电荷产生材 料不均匀地分布于感光层的膜厚度方向上的表面侧的区域中。此外，其被构造为具有满足 关系式30 < a/b的式子，该式子表不电荷产生材料在感光层的膜厚方向上的分布。
[0130] 这里，在本发明示例性实施方案的单层型感光层中，在存在大量电荷产生材料的 表面侧的区域和存在少量电荷产生材料的导电性基体侧的区域之间的边界处未形成清晰 的界面。此外，在b为0的情况中，有电荷产生材料所存在的表面侧的区域和不存在电荷产 生材料的导电性基体侧的区域。在这种情况中，也没有在这两个区域之间的边界处形成清 晰的界面。
[0131] 顺便提及，在通常已知的层叠型感光层中，形成了包含电荷产生材料的电荷发生 层和不含电荷产生材料的电荷传输层，并且在这两个层之间的边界处形成了清晰的界面。 此外，由于在很多情况下电荷发生层中使用的粘结剂树脂不同于电荷传输层中使用的粘结 剂树脂，因此这两个层可以清楚地区分开。
[0132] 另一方面，在本发明示例性实施方案的单层型感光层中，即使如上所述在b为0的 情况下，其上具有电荷产生材料的表面侧的区域和不存在电荷产生材料的导电性基体侧的 区域之间的边界也是模糊不清的。因此，本发明示例性实施方案的单层型感光层可以与现 有技术中的层叠型感光层明确地区分开。
[0133] 就实施方案方面来讲，对单层型感光层没有特别限制，只要其被构造为满足关系 式30 < a/b即可。其例子包括以下实施方案。
[0134] 在b为0的情况中，实施方案包括：仅在从感光层的表面侧至对应于膜厚1/4的位 置的区域中存在电荷产生材料并且在从感光层的导电性基体侧至对应于膜厚3/4的位置 的区域中不存在电荷产生材料的实施方案；仅在从感光层的表面侧至对应于膜厚1/3的位 置的区域中存在电荷产生材料并且在从感光层的导电性基体侧至对应于膜厚2/3的位置 的区域中不存在电荷产生材料的实施方案；以及仅在从感光层的表面侧至对应于膜厚1/2 的位置的区域中存在电荷产生材料并且在从感光层的导电性基体侧至对应于膜厚1/2的 位置的区域中不存在电荷产生材料的实施方案。
[0135] 在b大于0的情况中（即，在整个感光层中都存在电荷产生材料的情况），实施方 案包括：在从感光层的表面侧至对应于膜厚1/2的位置的区域中存在大量电荷产生材料、 而与从表面侧至对应于膜厚1/2的位置的区域相比在从感光层的导电性基体侧至对应于 膜厚1/2的位置的区域中存在较少量的电荷产生材料的实施方案；在从感光层的表面侧至 对应于膜厚1/3的位置的区域中存在大量电荷产生材料、而与从表面侧至对应于膜厚1/3 的位置的区域相比在从感光层的导电性基体侧至对应于膜厚2/3的位置的区域中存在较 少量的电荷产生材料的实施方案；以及在从感光层的表面侧至对应于膜厚1/3的位置的区 域中存在大量电荷产生材料、并且在感光层的膜厚方向上朝向导电性基体侧存在逐步降低 的量的电荷产生材料的实施方案。
[0136] 在这些实施方案中，从能更有效地发挥出电荷产生材料的感光度表现功能的角度 考虑，优选b为0的实施方案。
[0137] 关于a/b (其为表不电荷产生材料在感光层的膜厚方向上的分布的式子），a和b 是通过对利用扫描电子显微镜（SEM)观察到的图像进行图像处理而测量的，并且a/b由测 量结果计算得到。
[0138] 具体来说，将感光层从待测量的感光体中剥离，从中切下一小片，将其包埋入环 氧树脂中，并固化。利用超薄切片机制备其切片，用作用于测量a和b的样品。此外，将 JSM-6700F/JED-2300F(由JEOL Ltd.制造）用作SEM装置来观察待测量的样品的三处位 置，并测量a和b (a和b计算为在三个位置处的三个值的平均值（下文中称为"n3平均 值"））。
[0139] 此外，通过在感光层的与导电性基体表面平行的方向上设定40 ym范围的距离来 观察SEM图像。
[0140] 单层型感光层的膜厚优选设定为5 ym至60 ym的范围，更优选设定为10 ym至 50 ym的范围。
[0141] 粘结剂树脂
[0142] 对粘结剂树脂没有特别限定，其例子包括聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、 甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚醋酸乙烯 酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、 氯乙烯-醋酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、有机硅树脂、有机硅-醇酸树脂、酚醛树脂、苯乙 烯-醇酸树脂、聚-N-乙烯基咔唑和聚硅烷。这些粘结剂树脂可以单独使用，或两种或更多 种组合使用。
[0143] 在这些粘结剂树脂中，尤其是从感光层的成膜性的角度考虑，例如粘均分子量为 30, 000至80, 000的聚碳酸酯树脂是优选的。
[0144] 相对于感光层的固体总含量，粘结剂树脂的含量为35重量％至60重量％，优选为 20重量％至35重量％。
[0145] 电荷产生材料
[0146] 对电荷产生材料没有特别限制，但其例子包括羟基镓酞菁颜料、氯镓酞菁颜料、氧 钛酞菁颜料和非金属酞菁颜料。这些电荷产生材料可以单独使用，或作为其两种或多种的 混合物使用。其中，从为感光体提供更高的灵敏度的角度考虑，羟基镓酞菁颜料是优选的， V型羟基镓酞菁颜料是更优选的。
[0147] 尤其是，例如，从获得优异的分散性的角度考虑，优选在600nm至900nm的波长带 的分光吸收光谱中，在810nm至839nm的范围内具有最大峰波长的羟基镓酞菁颜料作为轻 基镓酞菁颜料。以此方式，通过使分光吸收光谱的最大吸收波长相比于现有技术的V型羟 基镓酞菁颜料偏移至短波长侧，颜料颗粒的晶体排列成为被适当控制的微细羟基镓酞菁颜 料的晶体排列，并且在用作电子照相感光体用的材料时，容易获得优异的分散性、充分的灵 敏度和充电性、以及暗衰减特性。
[0148] 此外，优选的是，在810nm至839nm的范围内具有最大峰波长的羟基镓酞菁颜料 的平均粒径处于特定的范围内，并且BET比表面积位于特定的范围内。具体来说，平均粒 径优选为〇. 20 ym以下，更优选为0. 01 ym至0. 15 ym，而BET比表面积优选为45m2/g以 上，更优选为50m2/g以上，特别优选为55m 2/g至120m2/g。平均粒径是作为体积平均粒径 (d50粒径）利用激光衍射-散射型粒度分布测量装置（LA-700,由Horiba Ltd.制造）测 定的值。此外，比表面积是使用BET型比表面积测量装置（FLOWSOAP II 2300,由Shimadzu Corporation制造）并通过氮气吹扫法测定的值。
[0149] 这里，在平均粒径超过0. 20 ym或比表面积小于45m2/g的情况下，存在颜料颗粒 粗大化或形成颜料颗粒聚集体的趋势。此外，在一些情况下，易于在分散性、灵敏度、充电性 和暗衰减特性等特性方面产生缺陷，结果容易形成图像质量缺陷。
[0150] 羟基镓酞菁颜料的最大粒径（一次粒径的最大值）优选为1.2 ym以下，更优选为 1. 0 ym以下，还更优选为0. 3 ym以下。如果该最大粒径超过上述范围，则存在容易形成黑 点的趋势。
[0151] 从感光体抑制由暴露于荧光等引起的浓度偏差的角度考虑，优选羟基镓酞菁颜料 的平均粒径为〇. 2 ym以下，最大粒径为1. 2 ym以下，且比表面积为45m2/g以上。
[0152] 羟基镓酞菁颜料为在使用CuKa特征X-射线的X-射线衍射光谱中，在7.5°、 9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1° 和 28. 3° 的布拉格角（2 0 ±0.2° )处具有衍射峰 的V型。
[0153] 此外，对氯镓酞菁颜料没有特别限定，但优选作为电子照相感光体材料能够提供 优异的灵敏度的、在7.4°、16. 6°、25. 5°和28. 3°的布拉格角（2 0 ±0.2° )处具有衍射 峰的颜料。
[0154] 氯镓酞菁颜料的分光吸收光谱的合适的最大峰波长、平均粒径、最大粒径和比表 面积与羟基镓酞菁颜料的那些相同。
[0155] 感光层中电荷产生材料相对于感光层整体的含量为0. 5重量％以上且小于2. 0重 量％。通过将电荷产生材料的含量设定为这些范围，可以获得具有高充电性和高灵敏度的 感光体。此外，相对于感光层整体，感光层中电荷产生材料的含量优选为0. 7重量％至1. 7 重量％，更优选为0.9重量％至1.5重量％。
[0156] 顺便提及，电荷产生材料相对于粘结剂树脂的含量（例如）优选为0. 05重量％至 30重量％，更优选为1重量％至15重量％，还更优选为2重量％至10重量％。
[0157] 空穴传输材料
[0158] 对空穴传输材料没有特别限定，其例子包括：噁二唑衍生物（如2, 5-双（对二 乙氨基苯基）-1，3, 4-噁二唑）；吡唑啉衍生物（如1，3, 5-三苯基-吡唑啉和1-[吡啶 基-(2)]-3-(对二乙氨基苯乙烯基）-5-(对二乙氨基苯乙烯基）吡唑啉）；芳香族叔氨基 化合物（如三苯基胺、N，N'_双（3, 4-二甲基苯基）-联苯-4-胺、三（对甲基苯基）胺 基-4-胺以及二苄基苯胺）；芳香族叔二氨基化合物（如N，N' -双（3-甲基苯基）-N，N' -二 苯基联苯胺）；1，2, 4-三嗪衍生物（如3-(4' -二甲氨基苯基）-5, 6-二_(4'_甲氧基苯 基）-1，2, 4-三嗪）；腙衍生物（如4-二乙氨基苯甲醛-1，1-二苯基腙）；喹唑啉衍生物（如 2-苯基-4-苯乙烯基-喹唑啉）；苯并呋喃衍生物（如6-羟基-2, 3-二（对甲氧基苯基） 苯并呋喃）；a -二苯乙烯衍生物（如对（2, 2-二苯基乙烯基）-N，N-二苯基苯胺）；烯胺衍 生物；咔唑衍生物（如N-乙基咔唑）；聚-N-乙烯基咔唑及其衍生物，以及在主链或侧链中 具有由上述化合物形成的基团的聚合物。这些空穴传输材料可以单独使用，或者使用其中 两种或者更多种的组合。
[0159] 其中，从电荷迀移率的角度考虑，优选由下式（a-1)表示的三芳胺衍生物和由下 式（a-2)表示的联苯胺衍生物。
[0160]
[0161] 在上式（a-1)中，ArT1、ArT2和Ar 13各自独立地表示取代或未取代的芳 基、-C6H4-C(R T4) = C(RT5) (R?)、或-C6H4-CH = CH-CH = C(RT7) (RTS)，并且 RT4、RT5、RT6、R17和 rts各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基。
[0162] 上述各基团的取代基的例子包括卤素原子、具有1至5个碳原子的烷基和具有1 至5个碳原子的烷氧基。上述各基团的取代基的其它例子包括被具有1至3个碳原子的烷 基取代的取代氨基。
[0163]
[0164] 在式（a-2)中，R?和R?2各自独立地表示氢原子、卤素原子、具有1至5个碳原 子的烷基、或具有1至5个碳原子的烷氧基；^ 1'!??2、^111和RT112各自独立地表示卤素原 子、具有1至5个碳原子的烷基、具有1至5个碳原子的烷氧基、被具有1或2个碳原子的 烷基取代的氨基、取代或未取代的芳基、-C(R m) = C(RT13) (R114)、或-CH = CH-CH = C(RT15) (Rt16) ;Rt12、Rt13、Rt14、Rt15和R t16各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基、或者取代或 未取代的芳基；并且Tml、Tm2、Tnl和Tn2各自独立地表示0至2的整数。
[0165] 上述各基团的取代基的例子包括卤素原子、具有1至5个碳原子的烷基和具有1 至5个碳原子的烷氧基。上述各基团的取代基的其它例子包括被具有1至3个碳原子的烷 基取代的氨基。
[0166] 这里，在由式（a-1)表示的三芳胺衍生物和由式（a-2)表示的联苯胺衍生物中，从 电荷迀移率的角度考虑，特别优选具有"-C 6H4-CH = CH-CH = C(RT7) (RTS) "的三芳胺衍生物 和具有"-CH = CH-CH = C(RT15) (R116) "的联苯胺衍生物。
[0167] 由式（a-1)表示的化合物和由式（a-2)表示的化合物的具体例子包括以下化合 物。
[0168]
[0170] 空穴传输材料相对于粘结剂树脂的含量（例如）优选为10重量％至98重量％， 更优选为60重量％至95重量％，还更优选为70重量％至90重量％。
[0171] 电子传输材料
[0172] 对电子传输材料没有特别限定，但其例子包括醌类化合物，例如氯醌和四溴代苯 醌；四氰基对醌二甲烧（tetracyanoquinodimethane)化合物；荷酮化合物，如2, 4, 7-三硝 基芴酮、9-二氰基亚甲基-9-芴酮-4-羧酸辛酯和2, 4, 5, 7-四硝基-9-芴酮；噁二唑化合 物，如2- (4-联苯基）-5- (4-叔丁基苯基）-1，3, 4-噁二唑、2, 5-双（4-萘基）-1，3, 4-噁二 唑和2, 5-双（4-二乙氨基苯基）-1，3, 4-噁二唑；氧杂蒽酮化合物；噻吩化合物；联萘醌化 合物，如3, 3' -二叔戊基-联萘醌；联苯醌化合物，如3, 3' -二叔丁基-5, 5' -二甲基联苯 醌和3, 3'，5, 5' -四叔丁基-4, 4' -联苯醌；以及在主链或侧链上具有由上述化合物形成的 基团的聚合物。这些电荷传输材料可以单独使用，或将其两种或多种组合使用。
[0173] 其中，优选使用由下式（b-1)表示的芴酮化合物、由下式（b-2)表示的联苯醌化合 物和由下式（b-3)表示的联萘醌化合物。
[0174]
[0175] 在式（b-1)中，R111和R112各自独立地表示卤素原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基； R 113表示烷基、-L 114-0-R115、芳基或芳烷基；nl和n2各自独立地表示0至3的整数；L114表示 亚烷基；且R 115表不烷基。
[0176] 在式（b-1)中，由R111和R112表示的卤素原子的例子包括氟原子、氯原子、溴原子和 碘原子。
[0177] 在式（b-1)中，由R111和R 112表示的烷基的例子包括具有1至4个碳原子（优选1 至3个碳原子）的直链或支链烷基。其具体例子包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、 异丁基和叔丁基。
[0178] 在式（b-1)中，由R111和R112表示的烷氧基的例子包括具有1至4个碳原子（优选 1至3个碳原子）的烷氧基。其具体例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧基和丁氧基。
[0179] 在式（b-1)中，由R111和R 112表示的芳基的例子包括苯基和甲苯基。
[0180] 在式（b-1)中，由R111和R 112表示的芳烷基的例子包括苄基、苯乙基和苯丙基。
[0181] 其中优选苯基。
[0182] 在式（b-1)中，由R113表示的烷基的例子包括具有1至10个碳原子（优选5至10 个碳原子）的直链烷基和具有3至10个碳原子（优选5至10个碳原子）的支链烷基。
[0183] 具有1至10个碳原子的直链烷基的例子包括甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、 正己基、正庚基、正辛基、正壬基和正癸基。
[0184] 具有3至10个碳原子的支链烷基的例子包括异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异 戊基、新戊基、叔戊基、异己基、仲己基、叔己基、异庚基、仲庚基、叔庚基、异辛基、仲辛基、叔 辛基、异壬基、仲壬基、叔壬基、异癸基、仲癸基和叔癸基。
[0185] 在式（b-1)中，关于由R113表示的-L114-0-R 115所表示的基团，L114表示亚烷基且R115 表不烷基。
[0186] 由L114表示的亚烷基的例子包括具有1至12个碳原子的直链或支链亚烷基，如亚 甲基、亚乙基、正亚丙基、异亚丙基、正亚丁基、异亚丁基、仲亚丁基、叔亚丁基、正亚戊基、异 亚戊基、新亚戊基和叔亚戊基。
[0187] 由R115表示的烷基的例子包括与由R 111和R 112表示的烷基相同的那些基团。
[0188] 在式（b-1)中，由R113表示的芳基的例子包括苯基、甲基苯基和二甲基苯基。
[0189] 此外，在式（b-1)中，在R113为芳基的情况下，从溶解性的角度考虑，优选的是芳基 进一步被烷基取代。取代芳基的烷基的例子包括与由R 111和R112表示的烷基相同的那些基 团。另外，进一步被烷基取代的芳基的具体例子除了甲基苯基和二甲基苯基以外，还包括乙 基苯基。
[0190] 在式（b-1)中，由R113表示的芳烷基的例子包括由-R116-Ar表示的基团，其中R 116 表示亚烷基，Ar表示芳基。
[0191] 由R116表示的亚烷基的例子包括具有1至12个碳原子的直链或支链亚烷基，如亚 甲基、亚乙基、正亚丙基、异亚丙基、正亚丁基、异亚丁基、仲亚丁基、叔亚丁基、正亚戊基、异 亚戊基、新亚戊基和叔亚戊基。
[0192] 由Ar表示的芳基的例子包括苯基、甲基苯基、二甲基苯基和乙基苯基。
[0193] 在式（b-1)中，由R113表示的芳烷基的具体例子包括苄基、甲基苄基、二甲基苄基、 苯乙基、甲基苯乙基、苯丙基和苯丁基。
[0194] 作为由式（b_l)表示的电子传输材料，从获得高灵敏度等特性的角度考虑，特别 优选其中R 113表示芳烷基或具有5至10个碳原子的支链烷基的电子传输材料，并且优选其 中R111和R 112各自独立地表示卤素原子或烷基、并且R 113表示芳烷基或具有5至10个碳原 子的支链烷基的电子传输材料。此外，从上述相同的角度出发，优选_C0( = 0)_R113在2位 或4位被取代，特别优选-C0 ( = 0) -R113在4位被取代。
[0195] 由式（b_l)表示的电子传输材料的示例性化合物如下所示，但本发明不限于此。 此外，以下示例性化合物编号标记为下面的示例性化合物（b-1-No.)。具体来说，例如，示例 性化合物15标记为"示例性化合物（b-1-15) "。
[0197] 此外，示例性化合物中的缩写符号表示以下意思。
[0198] "No. 表示在芴环的编号位置取代的取代基。例如，"1-C1"表示在芴环的1位取 代的Cl(氯原子），并且4-C0( = 0)-R113表示在芴环的4位取代的C0( = 0)-R113。
[0199] 另外，"1-至3_"表示在1位至3位的所有位置处取代的取代基，并且"5-至8_" 表示在5位至8位的所有位置处取代的取代基。
[0200] "Ph"表示苯基。
[0201]
[0202] 在式（b-2)中，R221、R222、R223和R 224各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、烷氧 基、芳基或芳烷基。
[0203] 在式（b-2)中，由R221、R222、R223和R 224表示的卤素原子的例子包括氟原子、氯原子、 溴原子和碘原子。
[0204] 在式（b-2)中，由R221、R222、R223和R 224表示的烷基的例子包括具有1至6个碳原子 (优选1至4个碳原子）的直链或支链烷基。其具体例子包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、 正丁基、异丁基和叔丁基。
[0205] 在式（b-2)中，由R221、R222、R223和R 224表示的烷氧基的例子包括具有1至4个碳原 子（优选1至3个碳原子）的直链或支链的烷氧基，其具体例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧 基和丁氧基。
[0206] 在式（b-2)中，由R221、R222、R223和R 224表示的芳基的例子包括苯基和甲苯基。
[0207] 在式（b-2)中，由R221、R222、R223和R 224表示的芳烷基的例子包括苄基、甲基苄基、二 甲基苄基、苯乙基、甲基苯乙基、苯丙基和苯丁基。
[0208] 由式（b-2)表示的电子传输材料的示例性化合物如下所示，但本发明不限于此。 此外，以下示例性化合物编号标记为下面的示例性化合物（b-2-No.)。具体来说，例如，示例 性化合物1标记为"示例性化合物（b-2-l) "。
[0209]
[0210] 此外，示例性化合物中的缩写符号表示以下意思。
[0211] " t-Bu"表示叔丁基，" i-Pr "表示异丙基，"Me "表示甲基，"MeO"表示甲氧基，并且 "Ph"表示苯基。
[0212]
[0213] 在式（b-3)中，R331、R332、R333和R 334各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、烷氧 基、芳基或芳烷基。
[0214] 在式（b-3)中，由R331、R332、R333和R 334表示的卤素原子的例子包括氟原子、氯原子、 溴原子和碘原子。
[0215] 在式（b-3)中，由R331、R332、R333和R 334表示的烷基的例子包括具有1至6个碳原子 (优选1至5个碳原子）的直链或支链烷基。其具体例子包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、 正丁基、异丁基、叔丁基和叔戊基。
[0216] 在式（b-3)中，由R331、R332、R333和R 334表示的烷氧基的例子包括具有1至4个碳原 子（优选1至3个碳原子）的直链或支链的烷氧基，其具体例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧 基和丁氧基。
[0217] 在式（b-3)中，由R331、R332、R333和R 334表示的芳基的例子包括苯基和甲苯基。
[0218] 在式（b-3)中，由R331、R332、R333和R 334表示的芳烷基的例子包括苄基、甲基苄基、二 甲基苄基、苯乙基、甲基苯乙基、苯丙基和苯丁基。
[0219] 由式（b-3)表示的电子传输材料的示例性化合物如下所示，但本发明不限于此。 此外，以下示例性化合物编号标记为下面的示例性化合物（b-3-No.)。具体来说，例如，示例 性化合物1标记为"示例性化合物（b-3-l) "。
[0221] 此外，示例性化合物中的缩写符号表示以下意思。
[0222] "t-Pen"表示叔戊基，"t-Bu"表示叔丁基，"i-Pr"表示异丙基，"Me"表示甲基， "MeO "表示甲氧基，" Ph "表示苯基。
[0223] 相对于粘结剂树脂，电子传输材料的含量（例如）优选为4重量％至70重量％， 更优选为8重量％至50重量％，还更优选为10重量％至30重量％。
[0224] 此外，从获得高灵敏度的角度考虑，优选电子传输材料被包含在其中存在电荷产 生材料的区域中。此外，在形成了其中不存在电荷产生材料的区域的情况下，在该区域中可 以包含电子传输材料，但也可以不包含电子传输材料。即，在含有电荷产生材料的区域中包 含粘结剂树脂、电荷产生材料、空穴传输材料和电子传输材料，并且在不包含电荷产生材料 的区域中可形成包括粘结剂树脂和空穴传输材料的感光层（即不包含电荷产生材料和电 子传输材料）。
[0225] 空穴传输材料与电子传输材料的重量比
[0226] 空穴传输材料与电子传输材料的重量比（空穴传输材料/电子传输材料）优选为 50/50 至 90/10,更优选为 60/40 至 80/20。
[0227] 其他添加剂
[0228] 单层型感光层可含有已知的添加剂，如抗氧化剂、光稳定剂和热稳定剂。此外，在 单层型感光层为表面层的情况中，其可含有氟树脂颗粒、硅油等。
[0229] 单层型感光层的形成
[0230] 下面将对用于形成本发明示例性实施方案的单层型感光层的方法进行说明。
[0231] 对用于形成单层型感光层的方法没有特别限定，例如在导电性基体上形成了底涂 层的情况中，单层型感光层形成于设置在导电性基体上的底涂层上。该方法的例子为这样 一种方法，其包括：制备含有电荷产生材料的感光层形成用涂布液，将该感光层形成用涂布 液涂布到导电性基体上从而形成涂膜，加热并干燥所述涂膜以形成单层型感光层。
[0232] 顺便提及，感光层形成用涂布液的制备包括制备含有电荷产生材料的第一感光层 形成用涂布液，以及制备含有比第一感光层形成用涂布液中所含的电荷产生材料少的电荷 产生材料（包括不含电荷产生材料的情况）的第二感光层形成用涂布液。
[0233] 另外，涂膜的形成包括将第二感光层形成用涂布液和第一感光层涂布液涂布到导 电性基体上从而形成第二涂膜和第一涂膜。更具体来说，涂膜的形成包括将第二感光层形 成用涂布液涂布到导电性基体上以形成第二涂膜，以及将第一感光层形成用涂布液涂布到 该第二涂膜上以形成第一涂膜。
[0234] 下文中将对用于形成单层型感光层的具体方法进行说明。
[0235] 感光层形成用涂布液的制备
[0236] 首先，制备感光层形成用涂布液。例如，制备通过将各种成分如电荷产生材料加入 到溶剂中而获得的第一感光层形成用涂布液，以及含有比第一感光层形成用涂布液中的电 荷产生材料少的电荷产生材料的第二感光层形成用涂布液。然而，当在感光层的导电性基 体侧形成不存在电荷产生材料的区域时，关于第二感光层形成用涂布液，制备了不含电荷 产生材料的涂布液。此外，针对感光层的膜厚方向，在电荷产生材料的含量逐步减少而产生 一定倾斜的情况下，可以制备第三感光层形成用涂布液，在该涂布液中，电荷产生材料的含 量小于第一感光层形成用涂布液，并大于第二感光层形成用涂布液。
[0237] 此外，例如，在第二感光层形成用涂布液不包含电荷产生材料时，可以制备包含粘 结剂树脂、电子传输材料和空穴传输材料的第二感光层形成用涂布液，或可以制备包含粘 结剂树脂和空穴传输材料的第二感光层形成用涂布液（即不包含电荷产生材料和电子传 输材料的涂布液）。
[0238] 通过将所述成分加入到溶剂中来制备各感光层形成用涂布液。
[0239] 在各感光层形成用涂布液中使用的溶剂的例子包括有机溶剂，包括：芳香烃溶剂， 如苯、甲苯、二甲苯和氯苯；酮溶剂，如丙酮、2-丁酮和甲乙酮；卤代脂肪烃溶剂，如二氯甲 烷、氯仿和1，2-二氯乙烷；环状醚溶剂或直链醚溶剂，如四氢呋喃和乙醚；以及脂肪族烃溶 剂，如2-甲基戊烷和环戊烷。这些溶剂可单独使用或使用其两种或更多种的混合物。
[0240] 此外，关于将颗粒（例如，电荷产生材料）分散于感光层形成用涂布液中的方法， 例如可使用：介质分散机，如球磨机、振动球磨机、碾磨机、砂磨机和卧式砂磨机；或者无介 质分散机，如搅拌机、超声分散机、辊磨机、或高压均质器。高压均质器的例子包括：通过在 尚压下使分散液撞击液体或撞击壁以将颗粒分散的碰撞系统；以及通过在尚压状态下使分 散液穿过微细的流路从而将颗粒分散的贯穿系统（penetration system)。
[0241] 涂膜的形成
[0242] 接下来，将感光层形成用涂布液涂布到导电性基体上从而形成涂膜。例如，将第二 感光层形成用涂布液涂布到导电性基体上从而形成第二涂膜，并将第一感光层形成用涂布 液涂布到第二涂膜上从而形成第一涂膜。
[0243] 此外，在使用第三感光层形成用涂布液来形成第三涂膜的情况下，该方法还包括 在形成第一涂膜之前，用第三感光层涂布液涂布第二涂膜以形成第三涂膜。在这种情况下， 可以形成这样的涂膜，在该涂膜中，相对于感光层的膜厚方向，从第一涂膜朝向第二涂膜， 电荷产生材料的含量逐步减少。
[0244] 对用于涂布第二感光层形成用涂布液的方法和用于涂布第一感光层形成用涂布 液的方法没有特别限定。其例子包括喷墨涂布法、浸涂法、刮涂法、线棒涂布法、喷涂法、环 涂法、珠涂法、气刀涂布法和帘涂法。考虑到感光层的形成效率，优选的是，涂布第二感光层 形成用涂布液的方法和涂布第一感光层形成用涂布液的方法采用相同的方法。
[0245] 然而，例如，关于利用浸涂法的成膜法，当将第一感光层形成用涂布液涂布到第二 涂膜上时，在有些情况中第一感光层形成用涂布液和第二涂膜成分两者不混合在一起。结 果，有些情况下难以形成电荷产生材料不均匀分布于感光层的表面侧的感光层。
[0246] 因此，为了形成其中电荷产生材料不均匀地分布于感光层表面侧的感光层，优选 采用这样的涂布法：其中第一感光层形成用涂布液和第二涂膜成分全都不会混合在一起。 这种涂布法的例子包括诸如喷墨涂布法和喷涂法等方法。在这些涂布法中，从感光层的形 成效率的角度考虑，优选采用喷墨涂布法。
[0247] 此外，根据该方法，可以形成这样的单层型感光层，其中存在少量电荷产生材料的 导电性基体侧的区域的边界中不存在清晰的界面。
[0248] 接下来将对喷墨涂布法进行说明，该方法为优选作为单层型感光层的形成方法的 涂布方法的例子。
[0249] 图2A至3示意性示出了根据喷墨涂布法的涂膜形成方法的例子。如图2B所示， 设置液滴排出部200使其相对于导电性基体206的轴线倾斜。此外，从液滴排出部200的 各喷嘴202喷出的感光层形成用涂布液落在导电性基体206的表面上，然后以相邻液滴204 彼此毗连的状态涂布。即，如图2A所示，刚刚喷射出的液滴的尺寸基本上如由虚线所看到 的那样与喷嘴直径相同，但是在落在导电性基体206的表面上之后，如由实线所看到的那 样，感光层形成用涂布液展开，并且与相邻的液滴接触，从而形成涂膜。
[0250] 具体来说，如图3所示，将液滴排出部安装在使导电性基体206的轴线水平旋转的 装置中。接下来，为了将感光层形成用涂布液的液滴喷射到导电性基体206上，设置第一液 滴排出部200A、第二液滴排出部200B和第三液滴排出部200C，并在各液滴排出部200A至 200C中装填感光层形成用涂布液。这种情况下，使导电性基体206旋转，并从各个液滴排 出部200A至200C中设置的喷嘴202中喷出感光层形成用涂布液。此外，第一液滴排出部 200A、第二液滴排出部200B和第三液滴排出部200C沿着图3中箭头的方向从导电性基体 206的一端向另一端水平移动，从而形成涂膜。
[0251] 例如，在第一液滴排出部200A中装填了包括电荷产生材料等的第一感光层形成 用涂布液，并且在第二液滴排出部200B中装填了包括比第一感光层形成用涂布液中的电 荷产生材料少的电荷产生材料（或者不包含）的第二感光层形成用涂布液（在该情况中， 未使用第三液滴排出部200C)。
[0252] 或者，在第一液滴排出部200A中装填了包括电荷产生材料等的第一感光层形成 用涂布液，并且在第二液滴排出部200B和第三液滴排出部200C中装填了包括比第一感光 层形成用涂布液中的电荷产生材料少的电荷产生材料（或者不包含）的第二感光层形成用 涂布液。
[0253] 此外，通过如上所述形成涂膜，形成了这样的单层型感光层：其具有电荷发生层的 含量少的导电性基体侧的区域和电荷发生层的含量多的表面侧的区域。
[0254] 此外，例如，在使用上述的第三感光层形成用涂布液的情况中，还可以通过以下方 式形成涂膜：在第三液滴排出部200C中装填第二感光层形成用涂布液；在第二液滴排出部 200B中装填如上所述的第三感光层形成用涂布液；以及在第一液滴排出部200A中装填包 括电荷产生材料等的第一感光层形成用涂布液。
[0255] 此外，在形成保护层的情况中，在第三液滴排出部200C中装填第二感光层形成用 涂布液，在第二液滴排出部200B中装填第一感光层形成用涂布液，并且在第一液滴排出部 200A中装填保护层形成用涂布液，以提供感光层，并且还提供保护层。
[0256] 此外，上述说明中主要提到了在各液滴排出部200A至200C中装填感光层形成用 涂布液的例子，但本发明并不限于此。此外，在图3中，提到了安装第一液滴排出部200A至 第三液滴排出部200C这三个液滴排出部作为液滴排出部的例子，但本发明并不限于此。液 滴排出部的数量可以根据感光层的膜厚、所喷射的液滴的量等来设置，只要电荷产生材料 不均匀分布于感光层中即可。
[0257] 通过喷墨涂布法从液滴排出部200的喷嘴202喷出的感光层形成用涂布液的液滴 量没有特别限定，但（例如）为lpl至50pl。
[0258] 作为利用了喷墨涂布法的液滴喷射系统，可以使用（例如）连续系统或间歇系统 (压电型、热型、静电型等类型的连续系统或间歇系统），没有特别限定。然而，压电系统的 连续型或间歇型（采用压电元件（压电式元件）的系统）是优选的。尤其是，从获得膜厚 度小且废液量减少的薄膜的角度考虑，更优选采用压电元件的间歇型。
[0259] 感光层的形成
[0260] 本发明示例性实施方案的单层型感光层是通过利用热风干燥等方法来加热并干 燥由涂膜的形成所获得的涂膜而形成的。用于干燥涂膜的条件没有特别限定，只要涂膜能 够被干燥并固化即可，可以通过（例如）溶剂的种类等来设置。具体来说，所述条件的例子 包括范围为l〇〇°C至170°C的干燥温度和范围为10分钟至120分钟的干燥时间。
[0261] 保护层
[0262] 根据需要在感光层上设置保护层。设置保护层的目的（例如）是为了防止在充电 时感光层发生化学变化，或者进一步提高感光层的机械强度。
[0263] 因而，优选使用由固化膜（交联膜）构成的层作为保护层。这些层的例子包括下 面1)或2)所示的层。
[0264] 1)由组成中含有含反应性基团的电荷传输材料的固化膜构成的层（即，含有含反 应性基团的电荷传输材料的聚合物或交联体的层），其中该含反应性基团的电荷传输材料 在同一分子中具有反应性基团以及电荷输送骨架，
[0265] 2)由组成中含有非反应性电荷传输材料以及含反应性基团的非电荷传输材料的 固化膜构成的层（即，含有非反应性电荷传输材料以及含反应性基团的非电荷传输材料的 聚合物或交联体的层），其中所述含反应性基团的非电荷传输材料具有反应性基团，而不具 有电荷输送骨架。
[0266] 含反应性基团的电荷传输材料中的反应性基团的例子包括已知反应性基团，如链 聚合性基团、环氧基、-〇H、-0R(前提为：R表示烷基）、-NH 2、-SH、-C00H、和-SiRQ13 Qn(0RQ2) Qn(前提为：RQ1表示氢原子、烷基、或者取代或未取代芳基，R Q2表示氢原子、烷基、或三烷基 甲硅烷基，并且Qn表示1至3的整数）。
[0267] 对链聚合性基团没有特别的限制，只要其为能够引发自由基聚合的官能团即可， 例如，该链聚合性基团为至少包含碳双键的官能团。其具体例子包括：含有选自乙烯基、乙 烯基醚基、乙烯基硫醚基、苯乙烯基（乙烯基苯基）、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及其衍生物等 中的至少一者的基团。其中，从具有优异的反应性的方面来看，链聚合性基团优选是含有选 自乙烯基、苯乙烯基（乙烯基苯基）、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、及其衍生物中的至少一者的 基团。
[0268] 对含反应性基团的电荷传输材料的电荷输送骨架没有特别的限制，只要该电荷输 送骨架具有电子照相感光体中已知的结构即可，其例子包括衍生自含氮空穴传输化合物 (例如三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物和腙系化合物）的骨架，并且包括与氮原子共辄 的结构。其中，优选三芳基胺骨架。
[0269] 具有反应性基团以及电荷输送骨架的这些含反应性基团的电荷传输材料、非反应 性电荷传输材料和含反应性基团的非电荷传输材料可选自已知材料。
[0270] 除了上述材料外，保护层还可含有已知添加剂。
[0271] 对保护层的形成没有特别的限制，可使用已知的形成方法。例如，可通过如下方式 形成保护层：使保护层形成用涂布液形成涂膜，将该涂膜干燥，以及根据需要进行固化处理 (例如加热），其中该保护层形成用涂布液是通过将上述成分加入溶剂中而获得的。
[0272] 用于制备保护层形成用涂布液的溶剂的例子包括芳族溶剂，例如甲苯和二甲苯； 酮类溶剂，例如甲基乙基酮、甲基异丁基酮和环己酮；酯类溶剂，例如乙酸乙酯和乙酸丁酯； 醚类溶剂，例如四氢呋喃和二噁烷；溶纤剂类溶剂，例如乙二醇单甲醚；和醇类溶剂，例如 异丙醇和丁醇。这些溶剂可单独使用、或者两种或更多种组合使用。
[0273] 此外，保护层形成用涂布液可为不含溶剂的涂布液。
[0274] 此外，在感光层（例如电荷传输层）上涂布保护层形成用涂布液的方法包括常见 方法，如浸涂法、挤出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮涂法、刀片涂布法和帘涂法。
[0275] 保护层的膜厚优选设定在（例如）1 y m至20 y m的范围内，更优选设定在2 y m至 10 ym的范围内。
[0276] 成像装置（和处理盒）
[0277] 本发明示例性实施方案的成像装置设有：电子照相感光体；充电单元，其对所述 电子照相感光体的表面充电；静电潜像形成单元，其在已充电的电子照相感光体的表面上 形成静电潜像；显影单元，其利用包含调色剂的显影剂将形成于电子照相感光体的表面上 的静电潜像显影，以形成调色剂图像；以及转印单元，其将调色剂图像转印至记录介质的表 面上。此外，作为电子照相感光体，使用根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体。
[0278] 作为根据本发明示例性实施方案的成像装置，采用已知成像装置，其设有：包括定 影单元的装置，该定影单元将已转印至记录介质表面的调色剂图像定影；直接转印型装置， 其将形成于电子照相感光体表面上的调色剂图像直接转印至记录介质上；中间转印型装 置，其将形成于电子照相感光体表面上的调色剂图像一次转印至中间转印部件的表面上， 然后将已转印至中间转印部件表面上的调色剂图像二次转印至记录介质的表面上；设有清 洁单元的装置，该清洁单元在调色剂图像转印之后、充电之前对电子照相感光体的表面进 行清洁；设有除电单元的装置，在调色剂图像转印之后、充电之前，该除电单元利用除电光 照射电子照相感光体的表面以进行除电；设有电子照相感光体的加热单元的装置，该加热 单元用于提高电子照相感光体的温度从而降低相对温度；等等。
[0279] 在中间转印型装置的情况中，对于转印单元，例如应用包括以下部件的构造：中间 转印部件，调色剂图像被转印至该中间转印部件的表面上；一次转印单元，其将形成于电子 照相感光体的表面上的调色剂图像一次转印至中间转印部件的表面上；和二次转印单元， 其将已转印至中间转印部件的表面上的调色剂图像二次转印至记录介质的表面上。
[0280] 根据本发明示例性实施方案的成像装置可为干式显影型成像装置和湿式显影型 (使用液体显影剂的显影类型）成像装置中的任意一种。
[0281] 此外，在根据本发明示例性实施方案的成像装置中，例如，设有电子照相感光体的 部分可为能够从成像装置上拆卸下来的盒结构（处理盒）。作为该处理盒，优选使用（例 如）包括根据本发明示例性实施方案的电子照相感光体的处理盒。此外，除了该电子照相 感光体外，处理盒可还包括（例如）选自由充电单元、静电潜像形成单元、显影单元和转印 单元构成的组中的至少一者。
[0282] 下文中示出了根据本发明示例性实施方案的成像装置的一个例子，但本发明的示 例性实施方案不限于此。此外，对附图中示出的主要部件加以说明，而省略了对其它部件的 描述。
[0283] 图4是示出根据本发明示例性实施方案的成像装置的例子的示意性结构视图。
[0284] 如图4所示，根据本发明示例性实施方案的成像装置100设有：具有电子照相感光 体7的处理盒300、曝光装置9 (静电潜像形成单元的一个例子）、转印装置40 ( -次转印装 置）、以及中间转印部件50。此外，在成像装置100中，曝光装置9被设置在这样一个位置： 其中曝光装置9可以通过处理盒300中的开口而将光照射在电子照相感光体7上，并且转 印装置40隔着中间转印部件50而设置在与电子照相感光体7相对的位置。中间转印部件 50设置为与电子照相感光体7部分接触。此外，虽然图中没有显示，但该成像装置还包括 将转印到中间转印部件50上的调色剂图像转印到记录介质（例如，纸张）上的二次转印装 置。此外，中间转印部件50、转印装置40(-次转印装置）、和二次转印装置（未示出）相 当于转印单元的实例。
[0285] 图4中的处理盒300支撑在壳体内作为一个整体的电子照相感光体7、充电装置 8 (充电单元的一个例子）、显影装置11 (显影单元的一个例子）和清洁装置13 (清洁单元 的一个例子）。清洁装置13具有清洁刮片（清洁部件的一个例子）131，且该清洁刮片131 被设置为与电子照相感光体7的表面相接触。此外，清洁部件可为导电性或绝缘性纤维部 件（其并不是清洁刮片131的实施方案），并可单独使用、或者与清洁刮片131组合使用。
[0286] 此外，图4示出了这样的例子，其中成像装置包括用于向电子照相感光体7的表面 上供给润滑剂14的纤维状部件132 (辊状）、以及有助于清洁工艺的纤维状部件133 (呈平 刷状），但这些部件可视需要而设置。
[0287] 以下，将描述根据本发明示例性实施方案的成像装置的各个构成。
[0288] 充电装置
[0289] 作为充电装置8,例如，使用采用导电性或半导电性的充电辑、充电刷、充电膜、充 电橡胶刮片、充电管等的接触型充电装置。此外，还可使用已知的充电装置本身如非接触型 辊状充电器，以及利用了电晕放电的栅格充电器和电晕管充电器。
[0290] 曝光装置
[0291] 曝光装置9可以是以预定的成像方式（image-wise manner)将电子照相感光体7 的表面曝光于射线（如半导体激光射线、LED射线和液晶快门射线）下的光学设备。光源 的波长可以是在电子照相感光体的光谱敏感波长范围内的波长。作为半导体激光的波长， 主要是激光发射波长在780nm附近的近红外波长。然而，可使用的激光射线波长并不局限 于这种波长，并可使用发射波长在600nm范围的激光、或者作为蓝色激光的具有在400nm至 450nm范围内的任意发射波长的激光。为形成彩色图像，使用能够获得多波束输出的平面发 光型激光光源是有效的。
[0292] 显影装置
[0293] 作为显影装置11，例如可使用常用显影装置，其中成像时与磁性或非磁性单组份 或双组份显影剂接触或不接触。对这种显影装置11没有特别限定，只要其具有上述功能即 可，并且可根据所需用途适当选择。其例子包括已知的显影装置，其中利用刷或辊将单组份 或双组份显影剂施加至电子照相感光体7上。其中，使用在其表面上保持有显影剂的显影 辊的显影装置是优选的。
[0294] 显影装置11中使用的显影剂可以是仅由调色剂形成的单组份显影剂、或者是由 调色剂和载体形成的双组份显影剂。此外，显影剂可为磁性显影剂或非磁性显影剂。作为 这些显影剂，可使用已知显影剂。
[0295] 清洁装置
[0296] 作为清洁装置13,使用设有清洁刮片131的清洁刮片型装置。
[0297] 此外，除了清洁刮片型，还可使用毛刷清洁型，以及同时进行显影和清洁的类型。
[0298] 转印装置
[0299] 转印装置40的例子包括已知的转印充电装置自身，如使用带、辊、膜、橡胶片等的 接触型转印充电装置；利用电晕放电的栅格转印充电装置和电晕管转印充电装置。
[0300] 中间转印部件
[0301] 作为中间转印部件50,可使用被赋予半导电性的由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳 酸酯、聚芳酯、聚酯、橡胶等构成的带形式（中间转印带）。另外，除了带形式以外，所述中间 转印部件还可采取鼓的形式。
[0302] 图5是示出了本发明示例性实施方案的成像装置的另一个例子的示意性结构图。
[0303] 图5所示成像装置120是其中配备有四个处理盒300的串联型全色成像装置。在 成像装置120中，四个处理盒300彼此平行地置于中间转印部件50上，并且一个电子照相 感光体可被用于一种颜色。此外，除了成像装置120是串联型以外，成像装置120与成像装 置100具有相同的构造。
[0304] 根据本发明示例性实施方案的成像装置100不限于上述构成。例如，为了使得残 留调色剂的极性均匀且有利于利用清洁刷等进行清洁，以设置在沿着电子照相感光体7的 旋转方向的转印装置40的下游侧、以及沿着电子照相感光体7的旋转方向的清洁装置13 的上游侧的方式，在电子照相感光体7周围设置第一除电装置。此外，为了对电子照相感光 体7的表面除电，可以在沿着电子照相感光体的旋转方向的清洁装置13的下游侧、以及沿 着电子照相感光体的旋转方向的充电装置8的上游侧设置第二除电装置。
[0305] 此外，根据本发明示例性实施方案的成像装置100并不局限于上述构造，可以应 用已知的构造，例如，将形成于电子照相感光体7上的调色剂图像直接转印至记录介质的 成像装置。
[0306] 实施例
[0307] 下文中将结合实施例对本发明示例性实施方案进行详细说明，但是本发明示例性 实施方案不限于这些实施例。此外，在以下说明中，除非另外指明，否则"份"和" ％ "表示 "重量份"和"重量％ "。
[0308] 电子照相感光体的制备 [0309] 实施例1
[0310] 将50重量份的双酚Z聚碳酸酯树脂（粘均分子量：50, 000)和表1中示出的40重 量份的空穴传输材料溶解于250重量份的四氢呋喃和250重量份的甲苯中，从而获得感光 层形成用涂布液A。
[0311] 将由作为电荷产生材料的1. 5重量份的V型羟基镓酞菁颜料、作为粘结剂树脂的 50重量份的双酸Z聚碳酸酯树脂（粘均分子量：50, 000)、表1中示出的11. 5重量份的电 子传输材料、表1中不出的37重量份的空穴传输材料和作为溶剂的250重量份的四氢咲喃 和250重量份的甲苯形成的混合物用Dyno磨分散4小时，从而获得感光层形成用涂布液 B1，其中所述羟基镓酞菁颜料在使用CuK a特征X射线的X射线衍射光谱中在至少7. 3°、 16. 0°、24. 9°和28.0°的布拉格角（2 0 ±0.2° )的位置处具有衍射峰，所述Dyno磨中 使用了直径为1 ffiawp的玻璃珠。
[0312] 将导电性基体（由铝制成）安装在如图3所示构成的喷墨成膜装置中。将感光层 形成用涂布液A装填到液滴排出部200B中，将感光层形成用涂布液B1装填到液滴排出部 200A中（但是没有使用图3中的液滴排出部200C)。在下文所述条件下，从设置在液滴排 出部200B和200A中的各喷嘴202向导电性基体喷出感光层形成用涂布液A和B1。
[0313] 之后，在140°C下进行干燥30分钟。这样就形成了厚度为30 ym的单层型感光层， 从而制得实施例1的电子照相感光体（1)。
[0314] 在喷墨成膜装置中，用栗传送涂布液，在液滴排出部中设置有压电元件，使压电元 件振动以形成液滴，并连续喷出液滴。装置的构成和涂布条件如下所述。此外，各液滴排出 部的装置构成是共通的。另外，在各例子中，用于从液滴排出部200B和200A的各喷嘴中喷 出涂布液的喷射条件如下所述。
[0315] 喷墨喷嘴的内径：12. 5 ym ;喷嘴的排列/数目：成列/7 ;喷嘴间的距离：0. 5mm ;喷 嘴和鼓间的距离：1mm ;倾斜角：80° ;压电元件的频率：75kHz ;柱塞栗的频率：5. 58Hz ;鼓 的旋转速度：715rpm
[0316] 实施例2至7和比较例3和4
[0317] 按与实施例1相同的方式制得实施例2至7的电子照相感光体（2至7)、比较例3 的电子照相感光体（C3)和比较例4的电子照相感光体（C4)，不同之处在于，使用感光层形 成用涂布液B2至B6和C3来形成感光层，这些涂布液是根据表1改变了电荷产生材料的量 以及电子传输材料、空穴传输材料和溶剂的种类而制得的。
[0318] 比较例1
[0319] 将由作为电荷产生材料的1. 5重量份的V型羟基镓酞菁颜料、作为粘结剂树脂的 50重量份的双酸Z聚碳酸酯树脂（粘均分子量：50, 000)、表1中示出的10重量份的电子传 输材料、表1中示出的37重量份的空穴传输材料和作为溶剂的250重量份的四氢呋喃和50 重量份的甲苯形成的混合物用Dyno磨分散4小时，从而获得感光层形成用涂布液C1，其中 所述羟基镓酞菁颜料在使用CuK a特征X射线的X射线衍射光谱中在至少7. 3°、16. 0°、 24.9°和28.0°的布拉格角（2 0 ±0.2° )的位置处具有衍射峰，所述Dyno磨中使用了直 径为1 mm(p的玻璃珠。
[0320] 通过浸涂法将感光层形成用涂布液C1涂布在导电性基体（铝基体）上，并在 140°C下进行干燥和固化30分钟，从而形成厚度为30 y m的单层型感光层，由此制备了比较 例1的电子照相感光体（C1)。
[0321] 比较例2
[0322] 按与比较例1相同的方式制备了比较例2的电子照相感光体（C2)，不同之处在于， 通过使用改变了电荷产生材料的量而制得的感光层形成用涂布液C2,制备了感光层。
[0323] 评价
[0324] 通过以下方式评价了各例子中获得的电子照相感光体。其结果在表中示出。
[0325] a/b的计算
[0326] 在各例子中，关于所获得的感光层，根据上文所述方法计算表达式a/b的值，其中 a/b表示电荷产生材料在感光层的膜厚度上的分布。结果在表2中示出。
[0327] 感光体的灵敏度的评价
[0328] 将感光体的灵敏度评价为将其充电至+800V时的半减曝光量（half-reduction exposure amount)。具体来说，使用静电复印纸试验装置（静电分析仪EPA-8100,Kawaguchi Electric Works制造）在20°C和40% RH的环境中将感光体充电至+800V，然后以在感光 体的表面上提供1 yW/cm2的方式用800nm的单色光照射感光体，该单色光是使用单色仪由 钨灯的光中获得的。
[0329] 之后，测量刚刚充电后感光体表面的电势V0(V)、以及通过用光照射感光体表面使 得表面电势变成1/2XV0(V)时的半减曝光量E 1/2(yJ/cm2)。
[0330] 此外，关于感光体的灵敏度的评价标准，当获得了 0. 2 yj/cm2以下的半减曝光量 时，评价为获得了高的灵敏度。结果在表2中示出。
[0331] A :0? 2 y J/cm2以下
[0332] B :大于 0? 2 u J/cm2
[0333] 感光体的充电性的评价
[0334] 通过电导率〇 [1/Q ?_]来评价感光体的充电性，该电导率是在暗条件下通过直 流IV测量而确定的。
[0335] 通过将金溅射在感光体表面上（三联电极面积为0. 92cm2)来制备充电性评价用 的测量样品。以金侧为正逐步施加电压并测量此时的电流值，计算27V/ym时的电导率。结 果在表2中不出。
[0336] 此外，关于感光体充电性的评价标准，当〇为1. 0X 10 13[1/0 ? cm]以下时，评价 为获得了高充电性。
[0337] A :1. 0X10 13[1/Q ? cm]以下
[0338] B :超过 1. 0X10 13[1/Q ? cm]
[0339]

[0341] 从上述结果中可以看出，与比较例相比，在实施例中对于电子照相感光体的灵敏 度和充电性评价获得了良好的结果。
[0342] 表1和2中的缩写明细如下所示。
[0343] "IJ"：喷墨涂布法
[0344] "CGM-1" ： V型羟基镓酞菁颜料，其在使用CuK a特征X射线的X射线衍射光谱中 在至少7.3°、16.0°、24. 9°和28.0°的布拉格角（2 0 ±0.2° )的位置处具有衍射峰
[0345] "ETM-1" ：3, 3' -二叔戊基-联萘醌
[0346] "ETM-2" ：3, 3'，5, 5' -四叔丁基-4, 4' -联苯醌
[0347] "ETM-3" ：9_二氰基亚甲基-9-芴酮2-羧酸苄基酯
[0348] "HTM-1" ：N，N' -二苯基-N，N' -双（3-甲基苯基）-1，1' -二苯基-4,4' -二胺
[0349] "HTM-2" ：4-(2,2_二苯基乙烯基）-N，N' -双（4-甲基苯基）苯胺
[0350] "THF" ：四氢呋喃
[0351] "Tol"：甲苯
[0352] "CPN" ：环戊酮
[0353] 提供对本发明示例性实施方案的上述描述是为了举例和说明。并非旨在穷举，或 将本发明限制为所公开的精确形式。明显地，对于本领域技术人员而言，许多变型和修改将 是显而易见的。选择并描述这些实施方案为的是更好地说明本发明的原理及其实际应用， 从而使得本领域技术人员理解本发明的多种实施方案，并且其多种变型适用于所预期的特 定用途。本发明的范围旨在通过所附权利要求及其等同形式来限定。
【主权项】
1. 一种电子照相感光体，包括： 导电性基体；以及 设置在所述导电性基体上的单层型感光层，所述感光层包含粘结剂树脂、电荷产生材 料、空穴传输材料和电子传输材料， 其中所述电荷产生材料在所述感光层中的含量为0. 5重量％以上且小于2. O重量％， 并且关于所述电荷产生材料在所述感光层的膜厚度方向上的分布，该电荷产生材料满足以 下表达式（1): 表达式（1) :30< a/b 其中a表示在从所述感光层的膜厚度的表面侧至对应于膜厚度1/3的点的区域中，每 单位截面积的电荷产生材料的数目，并且b表示在从所述感光层的膜厚度的导电性基体侧 至对应于膜厚度的2/3的位置的区域中，每单位截面积的电荷产生材料的数目，条件是也 包括b为0的情况。2. 根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中b为0。3. 根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中b大于0。4. 根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中所述电荷产生材料相对于所述粘结剂 树脂的含量为2重量％至10重量％。5. 根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中所述电荷产生材料相对于所述感光层 整体的含量为〇. 7重量％至1. 7重量％。6. 根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中所述电荷产生材料相对于所述感光层 整体的含量为〇. 9重量％至1. 5重量％。7. -种处理盒，包括： 根据权利要求1至6中任一项所述的电子照相感光体， 其中所述处理盒能从成像装置中拆卸下来。8. -种成像装置，包括： 根据权利要求1至6中任一项所述的电子照相感光体； 充电单元，其对所述电子照相感光体的表面进行充电； 静电潜像形成单元，其在已经带电的所述电子照相感光体的表面上形成静电潜像； 显影单元，其利用包含调色剂的显影剂将形成于所述电子照相感光体表面上的静电潜 像显影，以形成调色剂图像；以及 转印单元，其将所述调色剂图像转印到记录介质的表面。
【文档编号】G03G5/05GK105911822SQ201510570613
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2015年9月9日
【发明人】川畑幸美, 多田幸, 多田一幸, 是永次郎, 新居田恭弘
【申请人】富士施乐株式会社