一种光刻机的接近式间隙曝光工件台的制作方法_2

文档序号:8714639阅读:来源:国知局
7上表面设有真空槽,与负压输入端14相连,通过负压将样片6固定于承片台7上方。所述升降驱动机构10可选用电机、气缸或其他具有相似功能的驱动机构。所述电控阀门15、驱动气缸17、锁紧气缸9、升降驱动机构10的动作都由主控器11驱动控制。所述主控制器11可选用微控制器、单片机或其他具有相似功能的控制模块。
[0023]本实用新型所述接近式间隙曝光工件台工作是这样实现的:
[0024]首先将掩模板I放在掩模架2上方,通过负压14将掩模板I固定在掩模架2上;放好样片6后通过负压14将样片6固定在承片台7上,通过控制面板12启动升降驱动机构10带动样片6上升,与此同时电控阀门15打开,驱动气缸17驱动旋转铜圈4旋转运动,带动镶有钢球5的三个滑块3沿滑块导向槽径向同步做伸出运动,使三个钢球5位于样片6与掩模板I之间,但位于掩模板I有效图形范围外;样片6上升并与三个钢球5接触,滑块3端部铜片弹性变形,样片6继续上升致使3个钢球5与掩模I三点接触,随后样片6调平,接着限位机构16发送位置信号给主控制器11,升降驱动机构10停止运动,同时电控阀门15打开,正压输入端12输出的正压致使锁紧气缸9将三点弹性支撑机构8压缩锁紧;随后升降驱动机构10下降一定的距离h后停止运动,驱动气缸17反向驱动致使旋转铜圈4反向旋转运动,带动镶有钢球5的三个滑块3沿导向槽径向做缩回运动;最后升降驱动机构10上升距离S,从而实现样片6与掩模板I的接近间隙曝光。其中S = h+d (钢球直径)-1■(曝光间隙)。
[0025]本实用新型未详细阐述部分属于本领域的公知技术。
【主权项】
1.一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,其特征在于:包括掩模板(I)、掩模架(2)、滑块(3)、旋转铜圈(4)、钢球(5)、样片(6)、承片台(7)、三点弹性支撑机构(8)、锁紧气缸(9)、升降驱动机构(10)、主控制器(11)、控制电路板(12)、正压输入端(13)、负压输入端(14)、电控阀门(15)、限位机构(16)和驱动气缸(17); 所述掩模板(I)位于掩模架(2)上方并固接;所述掩模架(2)上表面有真空槽,用于吸紧掩模板(I),内腔设置有滑块(3)的径向导向槽,用于滑块(3)导向;所述滑块(3)、钢球(5)以及旋转铜圈(4)嵌入在掩模架(2)内腔中,钢球(5)镶嵌在滑块(3)端部,旋转铜圈(4)上设置有3处滑槽,旋转铜圈(4)旋转运动带动滑块(3)径向伸缩运动;所述承片台(7)设置有真空槽,用于吸附固定样片(6);所述三点弹性支撑结构(8)与承片台(7)通过柔性铰链连接,用于样片(6)调平;所述气缸包括驱动气缸(17)和锁紧气缸(9),用于驱动铜圈(4)旋转和锁紧三点弹性支撑结构(8);所述升降驱动机构(10)设置有限位机构(16),用于停止升降驱动机构(10)运动;所述正压输入端(13)通过电控阀门(15)分别与锁紧气缸(9)和驱动气缸(17)连接;所述负压输入端(14)通过电控阀门(15)分别于掩模架(2)和承片台⑵连接;所述驱动控制板(12)分别与电控阀门(15)和主控制器(11)连接。
2.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,其特征在于:所述掩模架(2)为水平基准面,上表面有真空槽,通过负压将掩模板(I)固定于掩模架(2)上方。
3.根据权利要求1或2所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,其特征在于:所述掩模架(2)内腔中三处滑块导向槽之间沿径向以120°夹角均匀分布。
4.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,其特征在于:所述旋转铜圈(4)选用材料铜或者其他耐磨性材料,3处滑槽之间以120°夹角均匀分布。
5.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,其特征在于:所述滑块(3)端部镶有钢球的一端具有一定的恢复弹性变形的能力,可以采用铍青铜或者其他具有一定弹性和耐磨的材料代替,三个钢球(5)等直径,钢球(5)最上端与掩模面的距离为0.5mm或者在弹性变形范围内的其他值。
6.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,其特征在于:所述承片台(7)上表面设有真空槽,与负压输入端(14)相连,通过负压将样片(6)固定于承片台(7)上方。
7.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,其特征在于:所述升降驱动机构(10)可选用电机、气缸或其他具有相似功能的驱动机构;所述电控阀门(15)、驱动气缸(17)、锁紧气缸(9)、升降驱动机构(10)的动作都由主控制器(11)驱动控制。
8.根据权利要求1所述一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,其特征在于:所述主控制器(11)可选用微控制器、单片机或其他具有相似功能的控制模块。
【专利摘要】本实用新型公开了一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,该工件台用于光刻机中实现样片与掩模板的接近式曝光。该工件台以掩模架和掩模板为水平基准,利用升降驱动机构带动三点弹性支撑机构、承片台、基片上升,通过自动伸出的三个等直径钢球与基准掩模板接触调平后,气动及控制机构锁紧三点弹性支撑机构,同时升降驱动机构停止上升,此时实现并保持样片与掩模板平行;接着升降驱动机构下降某个特定的距离后停止运动,三个钢球收缩返回,最后升降驱动机构再向上运动,一直到样片与掩模板间隙为某一要求值时停止上升,实现样片与掩模板接近式间隙曝光。该工件台能自动完成样片与掩模板的调平并保持一定的曝光间隙,延长了掩模板的使用寿命。
【IPC分类】G03F7-20
【公开号】CN204422970
【申请号】CN201520092861
【发明人】龚健文, 胡松, 杨春利
【申请人】中国科学院光电技术研究所
【公开日】2015年6月24日
【申请日】2015年2月10日
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