一种高反射率太赫兹反射镜的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及太赫兹光学元件领域，尤其是一种高反射率太赫兹反射镜。
【背景技术】
[0002]反射镜一般采用在基底上镀一层具有较好反射率的薄膜材料，当光波照射薄膜材料时，光波的电场使薄膜材料的自由电子吸收了光的能量，从而产生振荡，此振荡又放出与入射光线相同频率的反射光，这种电子的振荡随着入射光线进入薄膜材料深度的增加而减小，通常情况下，薄膜材料的导电系数愈高，穿透深度愈浅，反射率愈高。随着太赫兹时域光谱分析仪、太赫兹光功率测试与计量等技术的快速发展，对太赫兹反射镜的反射率提出了更高的要求。目前，关于太赫兹反射镜的研究较少，现有技术主要是关于远红外反射镜的研究，现有的远红外反射镜主要使用铝作为反射膜材料，但是，铝膜材质较软，在某些情况下容易被氧化，为了保护铝的反射性能，必须在表面镀一层保护膜。另外，铝的导电系数相对较低，束缚了反射率的进一步提高。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是为了克服上述现有技术的不足，提供一种成本低、效率高、反射率高的一种高反射率太赫兹反射镜。
[0004]为实现上述目的，本实用新型采用下述技术方案:
[0005]—种高反射率太赫兹反射镜，包括三层结构，从下到上依次由基底、粘合层和Au薄膜层组成，所述的基底和Au薄膜层通过粘合层粘连，所述的粘合层采用TiW薄膜。
[0006]所述的基底采用中性密度滤光片。
[0007]所述的粘合层的厚度为50nmo
[0008]所述的Au薄膜层的厚度为200nm。
[0009]本实用新型所提供的一种高反射率太赫兹反射镜，三层结构最上层Au薄膜的设计，具有较高的导电系数，能够提高太赫兹反射镜的反射率，另外，Au材质与铝相比更加坚硬，不容易被氧化，自身能够起到很好地保护作用；TiW薄膜层的粘合层设计，能够使Au薄膜牢固的粘接在基底上，克服了 Au薄膜与基底之间附着性差的问题；中性密度滤光片的设计，热形变系数小、比刚度大、表面光滑且易镀膜，具有优良的综合性能。与已有现有技术相比，具有结构简单、反射率高、提高测试精度的积极效果。
【附图说明】
[0010]图1，本实用新型结构示意图。
[0011]其中lAu薄膜层，2粘合层，3基底。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
[0013]如图1所示，一种高反射率太赫兹反射镜，包括三层结构，从上到下依次由Au薄膜层、粘合层和基底组成，三层结构最上层的Au薄膜，具有较高的导电系数，能够提高太赫兹反射镜的反射率，另外，Au材质相比现有技术中的铝更加坚硬，也不容易被氧化，无需再在表面镀膜，自身能够起到很好地保护作用，节省了加工工序和镀膜原料；所述的基底和Au薄膜层通过粘合层粘连，所述的粘合层采用TiW薄膜，Tiff薄膜层的粘合层设计，能够使Au薄膜牢固的粘接在基底上，克服了 Au薄膜与基底之间附着性差的问题；所述的基底采用中性密度滤光片，中性密度滤光片的设计，热形变系数小、比刚度大、表面光滑且易镀膜，具有优良的综合性能。所述的粘合层的厚度为50nm。所述的Au薄膜层的厚度为200nm。
[0014]上述虽然结合附图对本实用新型的【具体实施方式】进行了描述，但并非对本实用新型保护范围的限制，所属领域技术人员应该明白，在本实用新型的技术方案的基础上，本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本实用新型的保护范围以内。
【主权项】
1.一种高反射率太赫兹反射镜，其特征在于，包括三层结构，从下到上依次由基底、粘合层和Au薄膜层组成，所述的基底和Au薄膜层通过粘合层粘连，所述的粘合层采用TiW薄膜。2.根据权利要求1所述的一种高反射率太赫兹反射镜，其特征在于，所述的基底采用中性密度滤光片。3.根据权利要求1所述的一种高反射率太赫兹反射镜，其特征在于，所述的粘合层的厚度为50nmo4.根据权利要求3所述的一种高反射率太赫兹反射镜，其特征在于，所述的Au薄膜层的厚度为200nmo
【专利摘要】本实用新型公开了一种高反射率太赫兹反射镜，包括三层结构，从下到上依次由基底、粘合层和Au薄膜层组成，所述的基底和Au薄膜层通过粘合层粘连，所述的粘合层采用TiW薄膜；所述的基底采用中性密度滤光片；所述的粘合层的厚度为50nm；所述的Au薄膜层的厚度为200nm。本实用新型具有结构简单、反射率高、提高测试精度的积极效果。
【IPC分类】G02B5/08, G02B1/14
【公开号】CN205067779
【申请号】CN201520874492
【发明人】张鹏, 曹乾涛, 韩顺利
【申请人】中国电子科技集团公司第四十一研究所
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2015年11月4日