专利名称：反应离子刻蚀机样品台的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及离子束刻蚀与微细加工技术领域，尤其是适合在反应离子刻蚀机中使用的承载被刻蚀样品的装置。
背景技术：
目前，公知的反应离子刻蚀机样品台构造主要是由阴极、支架、水冷装置和射频信号连接器组装而成。当阴极接通射频信号后，在阴极和阳极放气管之间利用射频产生气体辉光放电，放电产生的化学活性基、原子等多种化学成分和样品物质表面发生作用从而实现对样品的刻蚀。由于样品台置于具有较高真空度的真空室当中，但样品台的水冷装置却要求工作在大气压下，一般的样品台设计难以保证严格的密封性，安装、维护也不太方便；另外，气体辉光放电可能在样品之外的区域发生，从而降低了刻蚀的效率。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种可供反应离子刻蚀机使用的样品台，它具有严格的密封性，并能使放电集中在样品区域，样品台的安装和维护也非常方便。
本实用新型的技术方案是反应离子刻蚀机样品台由阴极、支架、水冷装置、射频信号连接器和屏蔽罩构成。阴极是导电性能良好的中空圆柱体，顶部有圆形凹槽，侧壁还有八个螺孔用于安装螺丝与支架固定，水冷系统的出、入水管通过阴极底部的另两个通孔接入阴极内部；支架主体是柱状金属管，下端与法兰焊接，这使得样品台在反应离子刻蚀机中的安装和维护变得非常简便；支架与阴极之间放置有橡皮密封圈，它使样品台工作在大气下的部分和真空室内部完全隔离，保证了真空室的真空度，同时它还起着绝缘作用；射频信号经支架管道接到阴极底部。
根据上述方案，本实用新型还有如下措施在阴极外面安装了一个顶部挖空的屏蔽罩，从而使样品台在工作时，气体辉光放电集中在放置样品的区域，大大提高了刻蚀效率。
本实用新型的有益效果是样品台工作在大气压下的部分与真空室内部完全隔离，真空室的真空质量得到良好保障，刻蚀效率高，样品台的安装和维护简便。
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的俯视图。
图2是
图1的A-A剖视图。
图3是本实用新型的主视图。
图4是本实用新型和真空室的装配剖视图。
附图中，1.阴极，2.螺孔，3.橡皮密封圈，4.绝缘套，5.固定螺钉，6.法兰，7.入水软管，8.出水软管，9.柱状金属管，10.屏蔽罩，11.管道连接器，12.真空室法兰，13.真空室。
具体实施方式
在图2中，支架由柱状金属管(9)和法兰(6)焊接而成，利用阴极(1)上的八个螺孔(2)，支架可以和阴极(1)用螺丝固定在一起，支架顶部通孔上装有绝缘套(4)；在支架和阴极(1)之间放置有橡皮密封圈(3)用来隔离真空室(13)和样品台工作在大气压下的部分，以保证刻蚀系统真空室(13)的真空度，同时橡皮密封圈(3)还起绝缘作用；水冷装置的入水软管(7)和出水软管(8)通过管道连接器(11)与金属管连接在一起，而金属管又通过阴极(1)底部的通孔接入阴极(1)内部并加以焊接以保证水密性；最后，在阴极(1)和支架外部装上屏蔽罩(10)，屏蔽罩(10)用固定螺钉(5)锁定，其顶部的开孔可以使气体放电集中在样品放置区域，从而提高刻蚀效率。
在图4中，本实用新型可以通过支架底部的法兰(6)快速地与真空室法兰(12)连接在一起，整套装置在反应离子刻蚀机真空室(13)的安装和维护非常简便，法兰连接的密封性也极好；在该图中，虚线表示阴极(1)由此接到射频信号上。
权利要求1.一种反应离子刻蚀机样品台，主要由阴极、支架、水冷装置和射频信号连接器构成，其特征是样品台的一侧置于真空室，另一侧置于大气中。
2.根据权利要求1所述的样品台，其特征是阴极和支架都是同心安装的空心圆柱状结构，阴极和支架之间用隔有橡皮密封圈的法兰连接。
3.根据权利要求1和权利要求2所述的样品台，其特征是安装螺丝、电极连接和冷却水连接均位于真空室外部。
4.根据权利要求1所述的样品台，其特征是样品台支架与真空室之间用法兰连接。
5.根据权利要求1所述的样品台，其特征是在阴极外面安装了一个屏蔽罩，用以将阴极的非工作区与真空室隔离。
专利摘要一种适用于离子束刻蚀与微细加工技术领域的反应离子刻蚀机样品台，它主要由阴极、支架、水冷装置、射频信号连接器和屏蔽罩构成。其阴极的各种连接与真空室完全隔离，从而使反应离子刻蚀系统真空室的真空质量得到良好的保障；样品台与真空室之间采用法兰连接，安装和维护快速方便，并且在承载样品的阴极外面还安装了一个屏蔽罩，用以将阴极的非工作区与真空室隔离。
文档编号C23F1/08GK2673883SQ20042003504
公开日2005年1月26日 申请日期2004年2月13日 优先权日2004年2月13日
发明者何小锋, 赵李健, 单能飞, 陈晓东 申请人:中国人民解放军国防科学技术大学