专利名称：镀膜修正板的制作方法
技术领域：
本发明涉及镀膜装置，尤其涉及一种镀膜修正板。
背景技术：
现有的蒸镀设备一般包括一个蒸镀源及一个设置于蒸镀源上方用来承载镀膜基 材的镀膜伞架。蒸镀时，镀膜伞架转动以使分布在镀膜伞架各处的镀膜基材的膜厚均一。然 而，由于蒸镀源正上方的蒸发物浓度较高，导致蒸镀源正对的镀膜伞架的中间层圈的待镀 基材上的膜层较厚，而位于上层圈(靠近伞架中心)的镀膜基材与位于下层圈(靠近伞架 边缘)的镀膜基材上的膜层较薄。因此，蒸镀设备通常还包括一个设置于镀膜伞架与蒸镀 源之间的镀膜修正板，用于遮挡蒸镀源正上方的蒸发物，以减少蒸镀源正对的镀膜基材上 的膜层的厚度，从而修正镀膜伞架上位于不同层圈的镀膜基材上的膜层厚度的差异。可以 理解，由于各种镀膜基材采用的蒸镀源的蒸发速率、蒸镀的沉积速率及镀膜基材的形状不 同，各种镀膜基材对镀膜修正板的遮挡面积的要求也不同。因此，一种镀膜基板一般需采用 对应的一种镀膜修正板，镀膜修正板的通用性差。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种通用性佳的镀膜修正板。一种镀膜修正板，其包括一个主遮挡片及至少一个次遮挡片。所述主遮挡片包括 一遮挡面。所述次遮挡片转动连接在所述主遮挡片上，且能够沿与所述遮挡面平行的方向 进行旋转。本发明的镀膜修正板，通过转动所述次遮挡片可改变整个镀膜修正板的遮挡面 积，即可对所述镀膜修正板的遮挡面积进行调整，可适用于多种镀膜基材，通用性佳。
图1是本发明较佳实施方式的镀膜修正板的结构示意图；图2是图1的镀膜修正板的分解图；图3是图1的镀膜修正板的状态示意图。主要元件符号说明
镀膜修正板100主遮挡片110
权利要求
1.一种镀膜修正板，其包括一个主遮挡片及至少一个次遮挡片，所述主遮挡片包括一 遮挡面，所述次遮挡片转动连接在所述主遮挡片上，且能够沿与所述遮挡面平行的方向进 行旋转。
2.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述主遮挡片上开设至少一第一螺 孔，所述次遮挡片上开设一第二螺孔，所述第二螺孔贯穿所述修正板的上、下表面，一螺钉 穿过所述第二螺孔及第一螺孔，从而将所述次遮挡片转动设置在所述主遮挡片上。
3.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述次遮挡片的数量为四个。
4.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述主遮挡片还包括一连接面，用于 连接所述次遮挡片。
5.如权利要求4所述的镀膜修正板，其特征在于，所述次遮挡片设置在所述主遮挡片 的连接面上。
6.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述次遮挡片设置在所述主遮挡片 的遮挡面上。
7.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述主遮挡片为扇叶形片体。
全文摘要
一种镀膜修正板，其包括一个主遮挡片及至少一个次遮挡片。所述主遮挡片包括一遮挡面。所述次遮挡片转动连接在所述主遮挡片上，且能够沿与所述遮挡面平行的方向进行旋转。本发明的镀膜修正板，通过转动所述次遮挡片可改变整个镀膜修正板的遮挡面积，即可对所述镀膜修正板的遮挡面积进行调整，可适用于多种镀膜基材，通用性佳。
文档编号C23C14/04GK102086505SQ20091031081
公开日2011年6月8日 申请日期2009年12月3日 优先权日2009年12月3日
发明者蔡泰生 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司