专利名称：一种用于硅片镀膜设备的石墨载板的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种太阳能电池生产过程中使用的辅助设备，特别是用于硅片PECVD真空镀膜设备的承载板。
背景技术：
多晶硅太阳能电池利用等离子增强化学气相沉积(PECVD)技术，在硅片基板上连续镀氮化硅减反射膜而广泛应用于大规模生产。目前，镀膜设备所使用的硅片承载板大多是实心石墨板，加热灯管位于石墨载板的上部和下部，下部热量将通过石墨载板传递给硅片。石墨载板上设有一排或多排放硅片的承载位，每个承载位的四周设有定位边框，避免石墨载板上的硅片在沉积腔内运行时发生移位，产生硅片重叠或色差。由于石墨载板是实心 的，这样会阻挡沉积腔底部的热量传递到硅片，使得硅片受热不均匀，影响了电池片的钝化效果，进而影响电池片转换效率。为了解决传热问题，有些设备已经采用每个承载位全部镂空石墨载板，加热效果好，对于电池片的电性能改善效果显著，但缺点是实际生产中，常常有石墨载板的承载位上缺少硅片，等离子体直接照射到底部石英管上方的玻璃上，严重影响了该备件的使用寿命。如果在石墨载板上没有硅片时就关闭离子源，这样经常点火会加速电极的老化，减少电极的使用寿命，增加生产成本。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种用于硅片镀膜设备的石墨载板，通过采用局部镂空的石墨载板，解决传热问题，使电池片受热更均匀，同时可以遮挡在缺少硅片时，高能量等离子体直接照射到底部加热系统，在不缩短设备备件使用寿命的前提下，提升电池片的电性能，降低设备运营成本。本实用新型的技术方案是一种用于硅片镀膜设备的石墨载板，包括设置有均布的多个硅片承载位的石墨载板，其中所述石墨载板的每个硅片承载位内开设有矩形孔，两边列承载位内居中设置有矩形孔，中间列承载位内对称设置有两个矩形孔。所述两边列承载位内的矩形孔的短边与承载位边框的距离都为1cm，矩形孔的长边与承载位边框距离都为4cm。所述中间列承载位内的矩形孔的短边与承载位边框的距离是1cm，矩形孔的长边与承载位边框的最近距离是2cm，两个矩形孔的间距是6cm。本实用新型是在现有镀膜设备上，只对承载硅片的石墨载板进行改进，解决了传热问题，使电池片受热更加均匀，同时可以遮挡在缺少硅片时，高能量等离子体直接照射到底部加热系统，在不使设备备件使用寿命受损的前提下，提升了电池片的转换效率，降低了设备运营成本。
图I是本实用新型在沉积腔中的结构示意图；[0009]图2是本实用新型的结构俯视示意图；图3是本实用新型的承载位定位边框局部放大俯视示意图；图4是本实用新型的承载位定位边框局部放大侧视示意图；图5是本实用新型结构与等离子体高能量束斑区域的俯视示意图；图中1_红外加热灯管，2-石墨载板，3-保护玻璃，4-边列承载位的矩形孔，5-中间列承载位的矩形孔，6-承载位定位边框，7-离子源束斑高能量区域。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。如图I所示，是本实用新型石墨载板在现有的设备沉积腔中的位置，红外加热灯管I位于石墨载板2的上部和下部，保护玻璃3保护沉积腔底部的红外加热灯管I。如图2，本实用新型提供的一种用于硅片镀膜设备的石墨载板，包括设置有均布的多个硅片承载位的石墨载板2，其中所述石墨载板2的每个硅片承载位内开设有矩形孔，两边列承载位内居中设置有矩形孔4，矩形孔4的短边与承载位边框6的距离都为1cm，其长边与承载位边框6距离都为4cm。中间列承载位内对称设置有两个矩形孔5，矩形孔5的短边与承载位边框6的距离是1cm，矩形孔5的长边与承载位边框6的最近距离是2cm，两个矩形孔5的间距是6cm。通过增开通孔，解决了传热问题，使电池片受热更加均匀，提升了电池片的转换效率。石墨载板2的每个承载位的面积都与多晶硅片的相同，相邻的承载位边框6结构如图3和图4所示，充分利用了现有设备自带的部件，减少工作量。如图5所示，本实用新型提供的用于硅片镀膜设备的石墨载板，两边列承载位的矩形孔4的面积与中间列承载位的矩形孔5的面积不相同，中间列承载位内的两个矩形孔5的间距是6cm。设备上每个离子源束斑高能量区域7，都没有直接在两边列承载位的矩形孔4、中间列承载位的矩形孔5的正上方，这种结构的石墨载板，实际生产中，即使承载位上缺少硅片，等离子体也不会直接照射到底部石英管上方的保护玻璃3上，就不必在石墨载板上没有硅片时就关闭离子源，从而实现，在不使设备备件使用寿命受损的前提下，提升了电池片的转换效率，降低了设备运营成本。当然，本领域技术人员也可以改变石墨载板镂空的形状，比如在现有设备的石墨载板每个承载位中间开若干圆孔，就可以明显改善石墨载板的传热效果，而圆孔的数量和直径也可以通过实际效果调试验证，只要圆孔的位置不在等离子体束斑的中心区域，则等离子体对沉积腔底部加热系统的损伤就会降低很多。另外，本领域技术人员还可以加宽镂空石墨载板内边框宽度，同样可以在一定程度上减少等离子体对沉积腔底部加热系统的损伤。本实用新型结构简单、可靠，在现有的镀膜设备上，仅通过对承载硅片的石墨载板进行改进，即开设通孔，解决了传热问题，使电池片受热更加均匀，同时在承载位上缺少硅片时，也避免了高能量等离子体直接照射到底部加热系统，从而实现，在不使设备备件使用寿命受损的前提下，提升了电池片的转换效率，降低了设备运营成本。当然，本实用新型还可有其它多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型做出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。
权利要求1.一种用于硅片镀膜设备的石墨载板，包括设置有均布的多个硅片承载位的石墨载板(2)，其特征在于所述石墨载板(2)的每个硅片承载位内开设有矩形孔，两边列承载位内居中设置有矩形孔(4)，中间列承载位内对称设置有两个矩形孔(5)。
2.根据权利要求I所述的用于硅片镀膜设备的石墨载板，其特征在于所述两边列承载位内矩形孔(4)的短边与承载位边框(6)的距离都为1cm，矩形孔(4)的长边与承载位边框(6)距离都为4cm。
3.根据权利要求I所述的用于硅片镀膜设备的石墨载板，其特征在于所述中间列承载位内的矩形孔(5)的短边与承载位边框(6)的距离是lcm，矩形孔(5)的长边与承载位边框(6)的最近距离是2cm，两个矩形孔(5)的间距是6cm。
专利摘要本实用新型提供一种用于硅片镀膜设备的石墨载板，包括设置有均布的多个硅片承载位的石墨载板，其中所述石墨载板的每个硅片承载位内开设有矩形孔，两边列承载位内居中设置有矩形孔，中间列承载位内对称设置有两个矩形孔；所述两边列承载位内的矩形孔的短边与承载位边框的距离都为1cm，矩形孔的长边与承载位边框距离都为4cm；所述中间列承载位内的矩形孔的短边与承载位边框的距离是1cm，矩形孔的长边与承载位边框的最近距离是2cm，两个矩形孔的间距是6cm。本实用新型结构简单、可靠，仅对承载硅片的石墨载板增开通孔，解决了传热问题，同时也避免了高能量等离子体直接照射到底部加热系统，提升了电池片的转换效率，降低了运营成本。
文档编号C23C16/458GK202369642SQ201120537598
公开日2012年8月8日 申请日期2011年12月20日 优先权日2011年12月20日
发明者何亚梅, 张凤鸣, 张实, 张鹏, 李质磊, 盛雯婷, 苏荣, 韦进勇, 黄军, 黄智 申请人:保定天威集团有限公司, 天威新能源控股有限公司